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考慮繞射效率使用戶能夠進行圖像模擬和綜合優(yōu)化等高級分析。表面反射光柵與體積全像光柵的比較在介紹這個模型之前，我們先簡單解釋一下表面反射光柵（SRG）和體積全像光柵（VHG）的區(qū)別。這兩種光柵在光學系統(tǒng)中的作用幾乎是一樣的，但在製造和模擬方面卻有很大的不同。 圖 1.

在模擬的過程中，會將入射光因為元件表面鍍膜、反射和吸收而造成的能量損耗納入考量。一般的情況下，OpticStudio可以對大多數的鍍膜或雙折射材料進行完整的分析。但有時因為分類數據報告(Prescription data)不夠齊全，在進行模擬時會需要簡化後的模型。舉例而言，當我們無法得到真實的鍍膜資訊時，OpticStudio中的理想(IDEAL)和表定(TABLE)鍍膜設定就可以派上用場。

圖 3 很好地證明了這種轉變Bandres 和 Gutiérrez-Vega 的論文：2作者直接提供的另一個圖也顯示了這種轉變（對於 p = 4）：2當 e 接近 0 時，Ince-Gaussian DLL 準確地再現了 Laguerre-Gaussian 模態(tài)的結果。

在像差方面，彗差會隨視場角的變化而線性增加，而像散則是呈二次方增加。但人眼系統(tǒng)具有相對較小的光瞳尺寸，因此在此類系統(tǒng)的設計上，一般會認為球差和彗差並不十分重要。同理，其餘的像差在此也可先行忽略。隨著自由曲面製程技術的演進，光學設計者得以摒除許多以往的限制條件。同時，OpticStudio具有優(yōu)越的運算能力，可以進行規(guī)模較大的系統(tǒng)和更多影像參數的模擬。

同樣，OpticStudio 提供了分析特性的能力，例如最大局部表面斜率，並在優(yōu)化過程中控制這些特性以確保最終的光學設計是可製造的。射出成型技術使可能的創(chuàng)新光學機構設計技術，具有大規(guī)模生產的模塊很多好處。鏡頭可以設計成具有復雜的邊緣特徵，使它們能夠堆疊，從而簡化組裝並消除對齊的需要。Zemax 工具使注塑光學元件的可能性最大化變得簡單。

像圖像模擬或相對照明這樣的分析是不可能的。Figure 2 工作流程的增強版本，如圖1所示。在製造之前，設計人員可以使用POP和FDTD來檢查最終的PSF。

本文基于Dynaform軟件，討論沖壓工藝仿真中網格大小等參數對板料―凹模界面接觸壓力計算精度的影響，并與已有的ABAQUS精細仿真結果對比，獲得二者在接觸壓力上的差異，為工程設計仿真參數提供技術手段。數值仿真模型 為了對比分析，Dynaform軟件中成形過程建模時，材料和幾何參數與ABAQUS數值模型相一致。

將三 維模型導入 ABAQUS，網格化后進行分析，如圖 8 所示。通過模態(tài)振型圖可知，前 4 階模態(tài)，未加肋板工字型梁體和加肋板工字型梁體均受到類似變形，在 6 階模態(tài)中，前者產生嚴重扭曲變形， 后者產生 S 型變形，程度較 4 階模態(tài)劇烈。如表 6 所示，與實心矩形截面相比，工字型加肋板截面頻率比實心矩形截面低，變形程度沒有工字型截面劇烈。

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