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ZEMAX軟件技術應用專題:在 OpticStudio 中模擬高階雷射光束
但是,在此限制下,使用 Laguerre-Gaussian DLL 在 OpticStudio 中
對
這些模態
進
行
建模在計算上更有效。隨著 e 接近 ∞,當由 Ince-Gaussian DLL 計算的特徵值解發散時,就會到達一個
點
。這種發散
行
為是計算算法的限制。當達到發散
點
時,Ince-Gaussian DLL 產生的結果變得不準確。
2057
w**elab86_Swsp
??? 3年前
帖子
Ansys Zemax光學設計軟件技術教程:眼科鏡片設計
本文介紹了眼科鏡片的設計原理,並討論了鏡片、眼睛和視覺環境中
對
鏡片設計十分關鍵的參數,其中包括了常見鏡片材料(涵蓋了玻璃和聚合物)的玻璃目錄。本文不包括漸
進
式鏡片設計,儘管漸
進
式鏡片時常根據一般的鏡片曲率原則
進
行
設計,但這些基礎的原則多以消除近視為目的,無法為特殊用途的鏡片設計提供太多的幫助。
2212
w**elab86_Swsp
??? 3年前
帖子
ZEMAX軟件技術應用專題:如何在OpticStudio中設計DOE透鏡或超穎透鏡
1.3 參數化 DOE 矢高 -> 利用 FFT/Huygens PSF 光線追跡除了使用相位輪廓來表示DOE之外,還可以直接在序列模式下
對
詳細的矢高
進
行
建模,並使用傳統的光線追跡引擎設計DOE並
進
行
FFT和Huygens PSF之類的分析。此方法僅在DOE的特徵尺寸不太接近波長尺度(矢量繞射效果很強)時才有效。因此,該方法不適用於超穎透鏡。
2188
w**elab86_Swsp
??? 3年前
帖子
ZEMAX軟件技術應用專題:利用Kogelnik方法模擬體積全像光柵的繞射效率
然後將薄膜
進
行
化學或熱顯影:這就是光柵。光柵上的表面是光滑的,但光柵內部的折射率是正弦調變的。為了
對
VHG
進
行
建模,需要使用高效的Kogelnik理論或嚴格耦合波分析(RCWA)等算法。 圖1(a)所示的SRG,可以通過幾種方法製造,如電子束寫入,光刻,納米壓印,或鑽石車削。與VHG不同,SRG沒有空間變化的折射率。相反,光柵的表面是由周期性的微結構組成的。
2123
w**elab86_Swsp
??? 3年前
帖子
Moldex3D模流分析之Tokyo Seiki公司使用模流大幅減少試模次數
VC Chong 說:「平均來說,我每週必須投入 2-3 天時間
進
行
分析,以確保經驗不足的設計方案可以順利生產;因此我讓電腦晚上執
行
分析,白天再來驗證結果。Moldex3D Solid的分析時間與模具試模的次數與成本相較來看,每批模具我們至少減少了一半的試模次數,這項工作是值得的。」為了加快 Tokyo Seiki 公司跨入其它模具產品的設計能力,Mr.
2210
Moldex3D 中國
??? 3年前
視頻
地表最強半導體封裝前處理 - Ansys Mechanical/Stacker Mesh Workflow
第三單元:局部錫球 (Local Bump) 建模實戰封裝核心組件:BGA/Micro-bump 的網格劃分難
點
分析。局部加密技術:如何在維持全局 Stacker 邏輯下,針
對
錫球
進
行
精細化網格處理。確保錫球與基板 (Substrate)、晶圓 (Die) 介面間的
節
點
匹配與應力傳遞精度。
1421
2
鄭鈞 Adam
??? 4月前
帖子
Zemax光學設計技術教程:如何使用Jones Matrix表面
簡介偏振態分析(polarization analysis)可以作為一般光線追跡的
進
階功能。在模擬的過程中,會將入射光因為元件表面鍍膜、反射和吸收而造成的能量損耗納入考量。一般的情況下,OpticStudio可以
對
大多數的鍍膜或雙折射材料
進
行
完整的分析。但有時因為分類數據報告(Prescription data)不夠齊全,在
進
行
模擬時會需要簡化後的模型。
2425
w**elab86_Swsp
??? 3年前
帖子
ZEMAX軟件技術應用專題:如何使用ZOS-API創建飛
行
時間用戶分析
有限訪問(自訂運算元(User Operands)模式和自訂分析模式),這種情況下,使用者使用現有鏡標頭檔的副本
進
行
處理和分析。自訂分析模式用於填充自訂分析的資料。這些資料是用OpticStudio提供的現有圖形來顯示,用於大多數分析。此模式不允許
對
當前鏡頭系統或使用者介面
進
行
更改(即:在這種模式下只允許
對
系統的副本
進
行
更改)。自訂分析可以用C++ (COM)或C# (.NET)編寫。
2080
w**elab86_Swsp
??? 3年前
帖子
ZEMAX軟件技術應用專題:用於數位元投影光學中均勻照明的陣列透鏡 (蒼蠅眼)
這篇文章討論了複眼空間光學積分器在數位投影機中的使用,以及如何在 OpticStudio 中
對
此類元素
進
行
建模。在數位投影器設計中,我們希望確保數位光源在輻照度分佈方面與投影圖像相匹配。因此,這種限制要求投影器設計包含均勻照明的空間光調製器 - 通常採用 LCD 面板的形式。理論上,這聽起來很容易,但這種面板上的源光束通常是高斯的(即不均勻)。
2002
w**elab86_Swsp
??? 3年前
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