兵器發(fā)射理論與技術(shù)的案例
【專家觀點】大型低溫液體火箭“零窗口”發(fā)射技術(shù)
文章結(jié)論
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大型低溫液體運載火箭由于組成系統(tǒng)多、各系統(tǒng)耦合關(guān)聯(lián)程度大、射前測發(fā)流程復(fù)雜，實現(xiàn)“零窗口”發(fā)射有著更高技術(shù)含量和更大難度。本文基于大型低溫運載火箭的系統(tǒng)特點和測試發(fā)射約束條件，提出了實現(xiàn)“零窗口”發(fā)射的技術(shù)方案，并通過發(fā)射窗口主動拓展技術(shù)，再輔以科學(xué)的測試發(fā)射策略，以技術(shù)和流程的結(jié)合共同實現(xiàn)大型低溫液體運載火箭“零窗口”發(fā)射目標(biāo)。
文章來源：宇航總體技術(shù)
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手持紅外發(fā)射率測量技術(shù)：打開紅外世界的“密碼鑰匙”
在現(xiàn)代紅外技術(shù)應(yīng)用中，有一個關(guān)鍵參數(shù)常常被忽視，卻又無處不在——發(fā)射率。它不僅是紅外測溫精準性的決定因素，更是紅外隱身、材料檢測、節(jié)能環(huán)保等眾多領(lǐng)域的核心密碼。今天，我們就從威睛光學(xué)的專業(yè)視角，帶您深入了解手持式紅外發(fā)射率測量技術(shù)及其廣闊的應(yīng)用場景。
一、什么是發(fā)射率？為什么它如此重要？
在自然界中，一切溫度高于絕對零度的物體都會向外輻射紅外能量。但不同材料輻射紅外能量的能力各不相同——有的擅長輻射，有的則善于反射。發(fā)射率正是描述這種能力的物理參數(shù)，它表示實際物體的熱輻射與理想黑體輻射的接近程度，取值范圍在0到1之間。
簡單來說，發(fā)射率越高，物體輻射紅外能量的能力越強；發(fā)射率越低，則反射能力越強。這個看似簡單的參數(shù)，卻是紅外技術(shù)應(yīng)用的基石。無論是紅外測溫、紅外熱像，還是紅外隱身、材料檢測，都必須準確掌握被測物體的發(fā)射率，否則一切測量結(jié)果都可能是“空中樓閣”。
二、國防安全領(lǐng)域：隱身與反隱身的博弈
在國防安全領(lǐng)域，發(fā)射率測量技術(shù)扮演著至關(guān)重要的角色。
紅外隱身涂層性能評估是典型應(yīng)用之一。現(xiàn)代無人機、艦船等裝備廣泛采用紅外隱身涂層，以降低被敵方紅外探測設(shè)備發(fā)現(xiàn)的概率。而這些涂層的紅外隱身效果，核心指標(biāo)就是其表面發(fā)射率。通過手持發(fā)射率測量儀，技術(shù)保障人員可以在外場快速檢測涂層的發(fā)射率參數(shù)，評估隱身性能是否達標(biāo)，發(fā)現(xiàn)涂層缺陷，及時進行維護補涂。
此外，在武器裝備紅外特性研究中，發(fā)射率測量也是不可或缺的一環(huán)。無論是發(fā)動機尾噴口的紅外輻射特征分析，還是整機/整車的紅外信號評估，都需要精確的發(fā)射率數(shù)據(jù)作為支撐。
三、民用領(lǐng)域：從節(jié)能建材到新能源
隨著“雙碳”目標(biāo)的推進，發(fā)射率測量技術(shù)在民用領(lǐng)域同樣展現(xiàn)出巨大潛力。
節(jié)能建筑材料是重要應(yīng)用方向。建筑外墻的輻射制冷涂料、Low-E玻璃等節(jié)能材料，其節(jié)能效果與表面發(fā)射率密切相關(guān)。
展開 基于聲發(fā)射技術(shù)的轉(zhuǎn)子碰摩故障檢測方法研究
基于聲發(fā)射技術(shù)的轉(zhuǎn)子碰摩故障檢測方法研究<BR><Font color=#FF0000><B>.PS.:</B>該帖附件于2006-10-13 15:58:59被malong評為5星級，為發(fā)貼者加分100。</Font><BR><Font color=#FF0000><B>點評:</B></Font>
基于聲發(fā)射技術(shù)的轉(zhuǎn)子碰摩故障檢測方法研究.pdf
電磁炮是利用電磁發(fā)射技術(shù)制成的一種先進的動能殺傷武器
電磁炮是利用電磁發(fā)射技術(shù)制成的一種先進的動能殺傷武器．與傳統(tǒng)的大炮將火藥燃氣壓力作用于彈丸不同，電磁炮是利用電磁系統(tǒng)中電磁場的作用力，其作用的時間要長得多，可大大提高彈丸的速度和射程．因而引起了世界各國軍事家們的關(guān)注．自80年代初期以來，電磁炮在未來武器的發(fā)展計劃中，已成為越來越重要的部分。
利用電磁力(洛侖茲力)沿導(dǎo)軌發(fā)射炮彈的武器。它主要由能源、加速器、開關(guān)三部分組成。 能源通常采用可蓄存10～100兆焦耳能量的裝置。目前實驗用的能源有蓄電池組、磁通壓縮裝置、單極發(fā)電機，其中單極發(fā)電機是近期內(nèi)最有前途的能源。加速器是把電磁能量轉(zhuǎn)換成炮彈動能，使炮彈達到高速的裝置。主要有：使用低壓直流單極發(fā)電機供電的軌道炮加速器和離散或連續(xù)線圈結(jié)構(gòu)的同軸同步加速器兩大類。開關(guān)是接通能源和加速器的裝置，能在幾毫秒之內(nèi)把兆安級電流引進加速器中，其中的一種是由兩根銅軌和一個可在其中滑動的滑塊組成。早在19世紀，科學(xué)家已發(fā)現(xiàn)在磁場中的電荷和電流會受到洛侖茲力的作用。20世紀初，有人提出利用洛侖茲力發(fā)射炮彈的設(shè)想。在兩次世界大戰(zhàn)中，法國、德國和日本都曾研究過電磁炮。第二次世界大戰(zhàn)以后，其他國家也進行過這方面的研究。自70年代初以來，與電磁發(fā)射有關(guān)的技術(shù)取得了重大進展。澳大利亞國立大學(xué)建造了第一臺電磁發(fā)射裝置，將 3克重的塑料塊（炮彈）加速到6000米／秒的速度。此后，澳、美科學(xué)家制造了不同類型的實驗樣機，并進行過多次發(fā)射實驗。用單極發(fā)電機供電的電磁炮，已能把318克重的炮彈加速到4200米／秒的速度。磁通壓縮型電磁炮已能將 2克重的炮彈加速到11000米／秒的速度。
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Relativity Space 獲得美空軍基地13號發(fā)射復(fù)合體運營權(quán)，3D打印技術(shù)是關(guān)鍵競爭力
近日，美國私營火箭制造商 Relativity Space 爭取到了卡納維拉爾角空軍基地13號發(fā)射復(fù)合體的建造運營權(quán)。Relativity成為繼United Launch Alliance，Blue Origin和SpaceX之后在這個標(biāo)志性的發(fā)射臺運營的第四家私營火箭制造商。
圖片來源：Relativity Space
顯著減少火箭部件數(shù)量
Relativity Space成立于2015年，是一家非常年輕的公司。Relativity Space認為太空發(fā)射的未來需要更快、更便宜、更靈活的火箭，傳統(tǒng)技術(shù)難以實現(xiàn)。而通過3D打印技術(shù)可以制造結(jié)構(gòu)一體化部件，如果應(yīng)用增材制造技術(shù)制造火箭部件，在設(shè)計時能夠?qū)⒒鸺悴考臄?shù)量顯著減少。
根據(jù)Relativity Space，他們可以將火箭零件數(shù)從十萬減少到一千個，并大大減少了數(shù)量級的勞動時間。這將對火箭的交付時間、產(chǎn)品迭代速度和成本產(chǎn)生影響。
Relativity Space 公司于上周四宣布在競標(biāo)中獲勝，將與美國空軍在卡納維拉爾角空軍基地建造和運營13號發(fā)射復(fù)合體Launch Complex 16（LC-16），并計劃在2020年從該發(fā)射臺發(fā)射第一枚火箭。
Relativity 認為，LC-16是一個具有歷史性意義的發(fā)射臺，它最初是為Titan導(dǎo)彈發(fā)射而開發(fā)的，然后在NASA的Gemini計劃中使用，并且還用于測試Apollo計劃的組件。如果Relativity能夠成功履行合同中的內(nèi)容，創(chuàng)建一個里程碑，Relativity就有可能擁有該發(fā)射臺20年的獨立使用權(quán)。
Relativity Space正在進行火箭部件的3D打印和組裝工作。完成后，火箭能夠?qū)?250千克的有效載荷送入低地球軌道，發(fā)射成本約為1000萬美元。
展開 光刻技術(shù)第4期 | 光刻成像理論
01/簡介
光刻成像理論的演進與物鏡NA發(fā)展緊密耦合。半導(dǎo)體工藝早期，光刻系統(tǒng)以低數(shù)值孔徑（NA<1）為特征，光的傳播與成像可通過標(biāo)量光刻成像理論精準描述，其核心是將光場視為標(biāo)量、忽略偏振特性，該簡化在低NA場景下誤差極小且能降低模型復(fù)雜度，為早期光刻技術(shù)產(chǎn)業(yè)化奠定理論基礎(chǔ)。
此階段技術(shù)研發(fā)圍繞“標(biāo)量計算光刻成像RET”展開，基于瑞利-索末菲衍射模型等標(biāo)量模型，結(jié)合光源優(yōu)化、OPC等逆向算法，通過調(diào)整光源強度、修正掩模邊緣等補償光學(xué)鄰近效應(yīng)，實現(xiàn)關(guān)鍵尺寸（CD）精準控制，例如90nm-45nm節(jié)點中，標(biāo)量計算光刻通過添加SRAF拓寬工藝窗口，滿足當(dāng)時芯片制造需求。
隨著工藝進入28nm及以下節(jié)點，為突破衍射極限，光刻系統(tǒng)采用高數(shù)值孔徑（NA>1）浸沒式設(shè)計，通過填充高折射率（n≈1.44）液體將有效NA提升至1.35以上。此時光的偏振特性影響不可忽略，高NA下光場在物鏡邊緣傳播方向與光軸夾角增大，不同偏振態(tài)光的衍射效率和傳播特性存在差異，標(biāo)量理論“忽略偏振”的假設(shè)會導(dǎo)致成像誤差劇增，無法滿足CD均勻性要求，這一瓶頸直接推動光刻成像理論從“標(biāo)量”向“矢量”范式轉(zhuǎn)換，矢量光刻成像理論隨之產(chǎn)生。
02/矢量成像模型
二維矢量光刻成像模型聚焦平面圖形的高保真成像，主要應(yīng)用于邏輯芯片的二維關(guān)鍵圖形（如柵極、接觸孔陣列）。它在局部坐標(biāo)系和全局坐標(biāo)系下分別構(gòu)建理論框架，局部坐標(biāo)系以單個圖形單元為原點，可簡化局部光場計算，實現(xiàn)單個圖形 CD 均勻性與邊緣精度的精細優(yōu)化；全局坐標(biāo)系以整個曝光視場為基準，能分析全視場偏振像差的空間分布差異，實現(xiàn)全視場二維圖形成像均勻性的全局優(yōu)化。
展開 電磁成形技術(shù)理論研究進展
電磁成形理論研究主要包括磁場力分析和磁場力作用下工件的變形分析[2]，以及高速率條件下材料成形性的研究等。電磁成形過程涉及電動力學(xué)、電磁學(xué)、塑性動力學(xué)、熱力學(xué)以及應(yīng)力波理論等多學(xué)科的內(nèi)容，由于多學(xué)科交叉的復(fù)雜性及多種高度非線性，使電磁成形理論研究變得非常復(fù)雜。
隨著汽車、航空航天等制造業(yè)結(jié)構(gòu)輕量化的發(fā)展趨勢，高強度低成形性材料（如鈦、鋁、鎂合金等）應(yīng)用日益增加。由于電磁成形可以提高難成形材料的成形性并減小工件回彈，因此，可以克服這些材料的成形困難，促進其在輕量化結(jié)構(gòu)中的應(yīng)用[3]。雖然從原理上講，電磁成形技術(shù)可以用于加工這些難成形材料的復(fù)雜形狀工件，然而，這需要設(shè)計復(fù)雜的成形系統(tǒng)來控制磁場和作用于工件上的磁場力在空間上的瞬時分布。這種系統(tǒng)復(fù)雜性使電磁成形工藝以往只局限于加工軸對稱形狀的工件[4]。為了解決這一問題、進一步推廣電磁成形工藝應(yīng)用，廣大學(xué)者對電磁成形技術(shù)進行了逐漸深入的理論研究。
本文以電磁成形理論研究的發(fā)展過程為序，分階段總結(jié)了國內(nèi)外理論研究的概況及進展，歸納了各階段理論研究的成果和特點，討論了高速率變形條件下材料成形性提高的決定因素，最后展望了電磁成形理論研究的發(fā)展趨勢。
2 理論研究概況
電磁成形理論研究得比較多的是美國、俄羅斯、日本、德國、加拿大和中國等國家。根據(jù)內(nèi)容和方法的不同，可以把電磁成形理論研究分為四個部分：等效 RLC回路研究、有限元計算研究、通用軟件耦合場數(shù)值模擬研究和高速率電磁成形材料成形性研究。上述四部分不是相對孤立的，后面的研究內(nèi)容通常以前面的研究結(jié)果為基礎(chǔ)，有時甚至是交叉進行的。
展開 光刻技術(shù)第18期 | 非線性壓縮感知理論
01/簡介
隨著集成電路制程推進至90nm及以下節(jié)點，光學(xué)鄰近效應(yīng)校正（OPC）、光源掩模聯(lián)合優(yōu)化（SMO）等計算光刻技術(shù)已成為保障光刻成像精度的核心支撐。其中，壓縮感知（CS）技術(shù)憑借稀疏性約束降維的核心優(yōu)勢，在光源優(yōu)化（SO）中實現(xiàn)了高效的參數(shù)尋優(yōu)，大幅降低了計算復(fù)雜度。
然而，當(dāng)優(yōu)化對象轉(zhuǎn)向掩模時，線性CS理論的局限性愈發(fā)凸顯——掩模圖形的像素級調(diào)控與光刻成像之間存在顯著的非線性映射關(guān)系，這種非線性源于掩模三維衍射、光致抗蝕劑化學(xué)反應(yīng)等多物理效應(yīng)疊加，導(dǎo)致線性模型難以精準刻畫優(yōu)化目標(biāo)與掩模參數(shù)的關(guān)聯(lián)，直接影響OPC的校正精度與SMO的協(xié)同優(yōu)化效能。
為破解這一瓶頸，非線性壓縮感知（NCS）理論應(yīng)運而生，其通過非線性映射構(gòu)建信號與觀測的關(guān)聯(lián)，能夠適配掩模優(yōu)化場景中的復(fù)雜非線性特性。與線性CS相比，非線性CS理論的核心突破在于重構(gòu)模型對非線性關(guān)系的精準表征，而迭代公式則為非凸優(yōu)化問題提供了高效的求解路徑，二者共同構(gòu)成了掩模優(yōu)化場景下計算光刻技術(shù)的理論核心。
本文聚焦非線性壓縮感知理論的工程化應(yīng)用需求，從掩模-成像的非線性機理出發(fā)，系統(tǒng)解析非線性CS重構(gòu)模型的構(gòu)建邏輯，深入推導(dǎo)關(guān)鍵迭代公式的演化過程，為OPC、SMO等技術(shù)的精度提升提供理論支撐。
02/仿真非線性CS重構(gòu)模型
在先進光刻的非線性優(yōu)化場景中，非線性CS重構(gòu)算法（IHTs、Newton-IHTs、L-BFGS）是破解復(fù)雜運算難題的核心工具——它們既能精準適配非線性光刻的優(yōu)化需求，更能通過梯度、Hessian矩陣的協(xié)同作用加速收斂，在保障優(yōu)化精度的同時，大幅提升計算效率。
展開 光刻技術(shù)第21期 | BCS計算光刻理論
傳統(tǒng)線性壓縮感知技術(shù)因難以刻畫光刻系統(tǒng)的復(fù)雜非線性映射，優(yōu)化結(jié)果易出現(xiàn)工藝窗口收縮；經(jīng)典貝葉斯方法雖具備統(tǒng)計建模優(yōu)勢，但固定先驗分布無法適配多樣化光刻圖形，導(dǎo)致最優(yōu)信號估計精度不足。在此背景下，融合貝葉斯統(tǒng)計與壓縮感知的BCS（Bayesian Compressed Sensing）計算光刻理論應(yīng)運而生，成為破解上述瓶頸的關(guān)鍵理論支撐。
BCS計算光刻理論的核心優(yōu)勢在于通過統(tǒng)計建模與稀疏優(yōu)化的協(xié)同，實現(xiàn)光刻系統(tǒng)的精準調(diào)控，其技術(shù)體系圍繞三大關(guān)鍵模塊構(gòu)建：BCS問題模型作為理論基礎(chǔ)，通過融入光刻物理機理建立稀疏信號與觀測數(shù)據(jù)的關(guān)聯(lián)，突破線性模型的適配局限；
先驗分布與邊緣概率密度建模為統(tǒng)計推斷提供依據(jù)，動態(tài)適配不同圖形特征的稀疏性規(guī)律，提升模型魯棒性；最優(yōu)信號估計與迭代優(yōu)化則為工程化求解提供路徑，通過高效迭代算法實現(xiàn)精度與效率的平衡。本文聚焦BCS計算光刻理論體系，系統(tǒng)解析各核心模塊的構(gòu)建邏輯與內(nèi)在關(guān)聯(lián)，闡明其在光刻優(yōu)化中的作用機理，為先進計算光刻技術(shù)的工程化應(yīng)用提供理論支撐。
在先進制程光刻的光源優(yōu)化中，貝葉斯壓縮感知（BCS）光源優(yōu)化技術(shù)是實現(xiàn)“少測量、高精度、易制造”光源的核心支撐——它以概率統(tǒng)計與先驗約束為核心，讓光源信號的重構(gòu)既高效又貼合實際工藝需求。
02/BCS問題模型
BCS聚焦的核心問題模型，是通過“已知的壓縮測量向量”恢復(fù)“未知的光源信號”：其中，已知的壓縮測量向量是實際采集到的光刻數(shù)據(jù)，未知信號對應(yīng)待優(yōu)化的光源信息，二者通過線性映射關(guān)聯(lián)，過程中可能存在高斯噪聲干擾。
而BCS的核心目的，是在已知測量數(shù)據(jù)的前提下，重構(gòu)出以零元素為主的稀疏信號（即光源信息）——這種“稀疏性”恰好匹配了光刻光源“簡潔易制造”的需求，同時讓模型關(guān)系盡可能貼近實際情況。
展開 高等轉(zhuǎn)子動力學(xué)(理論技術(shù)與應(yīng)用)
高等轉(zhuǎn)子動力學(xué)(理論技術(shù)與應(yīng)用)
作者:聞邦椿等編
出版社:機械工業(yè)出版社 出版日期:
頁數(shù): 裝幀:平裝
開本:開 版次:1
ISBN:711106911 定價:52元
前言
第1章 轉(zhuǎn)子動力學(xué)的計算分析方法
1 轉(zhuǎn)子動力學(xué)計算的特點
2 轉(zhuǎn)子－支承系統(tǒng)的建模
3 具有各向同性支承的轉(zhuǎn)子系統(tǒng)的計算分析
4 具有各向異性支承的轉(zhuǎn)子系統(tǒng)的計算分析
5 用傳遞矩陣法求解轉(zhuǎn)子系統(tǒng)的瞬態(tài)響應(yīng)
6 傳遞矩陣－阻抗耦合法
7 傳遞矩陣－分振型綜合法
8 傳遞矩陣－直接積分法
9 關(guān)于盤、軸單元的傳遞矩陣及數(shù)值積分差分格式的討論
參考文獻
第2章 軸承的動力特性
1 滑動軸承的動力特性
2 滾動軸承的動力特性
3 擠壓油膜阻尼器軸承的動力特性
參考文獻
第3章 轉(zhuǎn)子系統(tǒng)的動力穩(wěn)定性
1 穩(wěn)定性理論和穩(wěn)定性判據(jù)
2 擾動力的一般線性化模型及穩(wěn)定性分析
3 蓖齒密封的動力特性系數(shù)
4 材料與結(jié)構(gòu)內(nèi)阻尼
5 油膜失穩(wěn)
6 內(nèi)腔積液及充液轉(zhuǎn)子
7 碰摩引起的轉(zhuǎn)子失穩(wěn)
參考文獻
第4章 轉(zhuǎn)子系統(tǒng)的電磁激勵與機電耦聯(lián)振動
1 機電耦聯(lián)振動的特點
2 發(fā)電機轉(zhuǎn)子系統(tǒng)的電磁激發(fā)振動
3 電動機轉(zhuǎn)子系統(tǒng)的電磁激發(fā)振動
4 轉(zhuǎn)子系統(tǒng)的機電耦聯(lián)非線性振動
參考文獻
第5章 旋轉(zhuǎn)機械參數(shù)的測試和識別
1 滑動軸承油膜動特性系數(shù)識別
2 滾動軸承動剛度的測試
3 擠壓油膜阻尼器動力特性的試驗測定
4 轉(zhuǎn)子系統(tǒng)邊界參數(shù)的識別
參考文獻
第6章 故障轉(zhuǎn)子的動力特性
1 轉(zhuǎn)子系統(tǒng)的失穩(wěn)
2 裂紋轉(zhuǎn)子
3 轉(zhuǎn)子的彎曲故障
4 轉(zhuǎn)子不對中
參考文獻
第7章 旋轉(zhuǎn)機械故障論斷技術(shù)
1 設(shè)備的監(jiān)測與診斷
2 模糊診斷
3 模式識別診斷
4 神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)故障診斷技術(shù)
5 智能論斷系統(tǒng)
6 變速旋轉(zhuǎn)機械轉(zhuǎn)子的狀態(tài)監(jiān)測
參考文獻
第8章 旋轉(zhuǎn)機械振動故障的分析與治理
展開 《高等轉(zhuǎn)子動力學(xué)(理論技術(shù)與應(yīng)用)》
轉(zhuǎn)子系統(tǒng)振動的主動控制
3 電磁軸承－轉(zhuǎn)子系統(tǒng)
4 轉(zhuǎn)子的自動平衡技術(shù)
5 轉(zhuǎn)子動力學(xué)中的若干非線性問題
參考文獻
ZEMAX軟件技術(shù)應(yīng)用教程專題:照明設(shè)計的理論背景與概念
本課程將介紹照明系統(tǒng)的基礎(chǔ)知識，特別是照明系統(tǒng)的背景和一些理論。本課是照明學(xué)習(xí)路徑的第一課，其中沒有冗長的理論方程式推導(dǎo)，而是對基本原理的討論，比如“怎樣才能做出好的照明設(shè)計？”。
本課程提供照明設(shè)計背后實用的概念，幫助您建立滿足設(shè)計需求的系統(tǒng)。
作者 Katsumoto Ikeda
簡介
本文是照明系統(tǒng)基礎(chǔ)學(xué)習(xí)路徑的第二課，介紹了我們在照明設(shè)計開始前所需要了解的基本概念。我們探討了照明設(shè)計中實用的概念，如計量單位、系統(tǒng)的能量和能量守恒(étendue).
本文的寫作目的
本文并不是對可用于照明設(shè)計中的各種光學(xué)理論的引申，而是提出設(shè)計師在進行照明設(shè)計時應(yīng)注意的根本理論和概念。
本文沒有提供公式的完整推導(dǎo)。
照明設(shè)計的一些理論背景與概念
非成像光學(xué)，或非序列光線追跡通常用于照明設(shè)計。大多數(shù)照明設(shè)計需要不同于成像光學(xué)的思維過程。
照明并不像成像光學(xué)一樣建立在數(shù)學(xué)公式的基礎(chǔ)上。傳統(tǒng)光學(xué)長期以來一直以成像光學(xué)為基礎(chǔ)，我們在成像光學(xué)中追跡的光線數(shù)目遠遠少于能夠代表物理世界的光線。雖然追跡光線的數(shù)目少于系統(tǒng)中全部光線的數(shù)目，但我們可以用這些光線來計算如焦距等一階光學(xué)量以及如賽德爾像差等三階光學(xué)量。由于這些光學(xué)特性需要大量的數(shù)學(xué)計算，因此不需要追跡所有的光線，只需要追跡全部物理光線的一個子集。
非成像光學(xué)是光學(xué)的一個子集，與傳統(tǒng)成像光學(xué)的不同之處就是非成像光學(xué)不形成一個物體的像。非成像光學(xué)的主要目標(biāo)是實現(xiàn)光源和照明目標(biāo)之間的光能傳遞，將光能最優(yōu)地傳遞到照明目標(biāo)上，并得到期望的光能分布。
我們現(xiàn)有的計算能力可以追跡數(shù)百萬條（有時接近10億條）光線，并使光線充滿照明目標(biāo)，從而獲得與照明表面非常接近的效果。請注意，前面的內(nèi)容沒有提到任何公式化的計算，這是一種粗略近似的方法。與其說它是一種推導(dǎo)或計算，不如說它是一種模擬。
展開 基于CAE的沖壓工藝分析理論與關(guān)鍵技術(shù)研究
基于CAE的沖壓工藝分析理論與關(guān)鍵技術(shù)研究
申請兌換《高等轉(zhuǎn)子動力學(xué)(理論技術(shù)與應(yīng)用)》
申請兌換《高等轉(zhuǎn)子動力學(xué)(理論技術(shù)與應(yīng)用)》
《高等轉(zhuǎn)子動力學(xué)(理論技術(shù)與應(yīng)用)》
作者:聞邦椿等編
出版社:機械工業(yè)出版社 出版日期:
出版日期：2000-01-01
CAEnet價：￥52元
郵費:￥5元
總價:￥57元
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《高等轉(zhuǎn)子動力學(xué)(理論技術(shù)與應(yīng)用)》
作者:聞邦椿等編
出版社:機械工業(yè)出版社 出版日期:
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