光學檢測的案例
高精度試驗T型槽平臺：三坐標測量與光學檢測專用定點基準臺
在制造檢測領域，三坐標測量與光學檢測是保障產品尺寸精度的核心手段，而高精度試驗T型槽平臺作為專用定點基準臺，其精度穩定性與定點可靠性直接決定檢
三、光學檢測專用方案：低干擾下的基準
1.抗反光與干擾設計：平臺表面采用亞光發黑處理，反射率≤5%，避免光學檢測過程中產生反光干擾，確保成像清晰；選用無磁鑄鐵材質，減少對光學檢測設備的電磁干擾，保障檢測信號穩定。
2.熱穩定性強化：選用低熱膨脹系數材質（8-10×10??/℃），可適配20±2℃的恒溫檢測環境，減少溫度變化導致的熱變形，確保檢測精度穩定；臺面邊緣做倒角處理，避免銳邊產生光影干擾。
3.兼容性適配：預留標準化接口，方便對接光學顯微鏡、激光掃描儀等檢測設備；T型槽支持多規格工裝安裝，可適配不同尺寸的工件檢測，提升平臺通用性。
綜上，高精度試驗T型槽平臺通過針對性的材質優化、結構設計與低干擾配置，可適配三坐標測量與光學檢測的專用需求。科學選用專用平臺不僅能保障檢測數據的可靠，還能提升檢測效率。在制造業向高精度、高附加值轉型的趨勢下，專用高精度試驗T型槽平臺成為檢測的核心裝備，對推動產品品質升級具有重要意義。
展開 光 · 學堂| 基于VirtualLab Fusion的光學檢測與精密成像（上海場） 2026/5/21-5/22
課程大綱
1
VirtualLab Fusion光之數字模型平臺
光之數字模型平臺在精密系統檢測方面的工作原理
VirtualLab Fusion 用戶界面的基礎操作
VirtualLab Fusion中非序列追跡的通道配置
2
典型光學檢測系統建模與性能驗證
基礎邁克爾遜干涉儀建模仿真
OCT系統仿真-光學相干層析掃描干涉儀
用于光學表面測量的菲索干涉儀
切爾尼-特納光譜儀的仿真
Mirau干涉儀系統分析-顯微干涉檢測
3
高端精密成像系統（半導體 / 工業檢測方向）
半導體晶圓微結構缺陷檢測光學系統
晶圓兩側光柵圖案的成像
激光共聚焦掃描顯微鏡成像分析
大數值孔徑聚焦中的粒子散射與反射
晶圓多層膜厚非接觸式光學測量仿真
4
先進顯微鏡系統的物理光學級仿真
顯微鏡系統的設計
通過瑞利判據對顯微鏡物鏡進行分辨率研究
熒光顯微鏡的彩色效應分析
高NA傅里葉顯微鏡單分子成像
高NA顯微鏡系統分析偶極子源的PSF
顯微鏡系統中來自光圈的衍射
5
光學系統的公差分析
考慮加工公差下的傾斜光柵魯棒性優化
鏡頭粗糙度對PSF的影響
衍射光學元件的加工圓角和高度公差分析
展開 干涉檢測中條紋仿真失真？OAS光學軟件案例精準解困
馬赫曾德干涉儀-Z案例分析
簡介
馬赫曾德干涉儀作為經典的分波前干涉裝置，廣泛應用于光學檢測、精密測量、光通信等領域，其核心功能是通過光束分束、反射、合束產生干涉條紋，實現對介質折射率、光路相位差、物體微小形變等物理量的精準測量。OAS 光學軟件憑借強大的光束追跡能力、高精度仿真引擎及可視化功能，可高效完成馬赫曾德干涉儀的光路建模、參數優化與干涉效果模擬，為相關領域的研發設計提供可靠的仿真工具。
案例設置與操作
模型構建
采用 50/50 透反比組件，將入射光束分為兩束振幅相等的透射光與反射光；配置兩片高反射率反射鏡，分別引導兩束光沿不同光路傳播，通過調整反射鏡角度控制光程差；在合束光傳播路徑末端設置探測平面，定義平面尺寸、像素分辨率，確保干涉條紋細節清晰捕捉。
參數設置
基于 OAS 軟件的柔性光源建模模塊，選擇高斯光束類型，嚴格輸入核心參數：束腰半徑 250μm、中心波長 0.6328μm，同時設置光束發散角、偏振方向等輔助參數，確保光源模型與實際物理光源高度一致。OAS 支持多類型光源自定義，可通過參數化輸入快速匹配不同應用場景的光源需求。
性能優化
利用 OAS 軟件的光線追跡算法，設置高精度模式追跡，啟用相位追跡功能，同時配置光線采樣數量與傳播步長，平衡仿真效率與結果精度。
馬赫曾德干涉儀-Z的三維追跡圖
馬赫曾德干涉儀-Z的探測器結果圖
總結
本項目通過 OAS 光學軟件的精準建模、仿真分析與優化功能，成功解決了馬赫曾德干涉儀-Z設計難題，OAS 光學軟件可為光學干涉儀、激光器、光通信模塊等各類光學系統提供一站式仿真解決方案，助力科研機構與企業提升研發效率、降低實驗成本。
展開 光 · 學堂 | VirtualLab Fusion干涉檢測技術|干涉原理分析及光學系統建模 2026/6/23-24（上海場）
授課時間
2026/6/23（二）-6/24（三）AM 9:00-PM 16:00
授課地點
上海市嘉定區南翔銀翔路819號中暨大廈18樓1805室
課程講師
訊技光電工程團隊及資深顧問
課程費用
3000RMB/1人次
(課程包含課程材料費、開票稅金、午餐費)
課程簡介
縱觀歷史，光學為進行極其精確的測量提供了必要的手段，這是激發科學技術潛力的重要一環。對計量系統的分析不可避免地需要考慮物理光學效應(相干、偏振、干涉、行射等)，以產生現實、充分的結果。VirtualLab Fusion為這種分析提供了必要的工具，利用快速物理光學理論來促進快速仿真。
干涉系統被廣泛地應用于光學測量和光學檢測等領域。對這類系統工作原理的討論必須要結合物理光學的知識，如光的電磁場表示、光的波動性、光場的疊加等。顯微系統也是組成光學測量的一個重要組成部分，課程內容中也涵蓋了高NA系統，微觀與宏觀相結合的完整系統仿真如晶圓檢測系統，摩爾紋系統等。該課程無需軟件基礎。
展開 
光學型輪廓儀專業檢測光學鏡片曲面
在現代光學工業中，精密光學元件的制作是一項重要任務。而粗糙度是影響光學曲面質量的重要因素之一。為確保光學元件的卓越性能，輪廓儀成為不可或缺的檢測工具。它以其超高精度、全自動化、多功能性和數據分析的特點，實現非球面鏡片的高精度專業檢測，解讀光學曲面的微妙變化。
光學鏡片曲面測量難點
1、幾何復雜性
光學鏡片具有各種各樣的幾何形狀，包括球面、非球面和自由曲面等。不同幾何形狀對測量方法和設備的要求各不相同，增加了測量的難度。
2、表面反射和折射
光學鏡片曲面的高反射和折射特性會影響信號的傳輸和測量結果的準確性。需要采取適當的技術手段或選擇合適的涂層材料來減小這些影響。
3、鏡片尺寸和材料
大尺寸和特殊材料的光學鏡片曲面測量更具挑戰性。需要使用大型、高精度的測量設備，并制定相應的測量策略和方法。
傳統的測量方法通常需要操作人員進行手動測量，不僅費時費力，而且容易受到人為因素的影響。而SJ5900光學型輪廓儀配備了高精度的傳感器和智能化的軟件，專業檢測光學鏡片曲面，實現自動化測量、數據分析，大大提高了測量的效率和一致性。自動化測量不僅可以減少人力投入，還能夠避免由于人為操作而引起的誤差。
直線度≤0.25μm/200mm，大范圍形貌微觀輪廓Pt≤0.3μm，測力最小0.5mN，無視微小凹凸、起伏，輕松應對復雜的曲率和曲面結構，準確檢測微觀輪廓參數、水平軸線夾角、光軸位置參數及頂點半徑誤差、斜率參數等。
非球面分析軟件
SJ5900光學型輪廓儀nm級高精密光學曲面測量。
展開 用于光學檢測的斐索干涉儀
摘要
斐索干涉儀是工業上常用的一種光學測量儀器，常用于高精度的光學表面質量檢測。利用VirtualLab Fusion的非序列追跡技術，我們建立了斐索干涉儀，并將其用于測試不同的光學表面，如柱面和球面，可以發現由此產生的干涉條紋對表面輪廓很敏感。
建模任務
觀測傾斜平面
觀測柱面
觀測球面
走進VirtualLab Fusion
VirtualLab Fusion的工作流程? 設置輸入場- 基本光源模型 [教學視頻] ? 使用表面構造真實元件 ? 定義元件的位置和方向- LPD II：位置和方向 [教學視頻] ? 為非序列場追跡設置合適的通道- 非序列場追跡的頻道設置 [用例]
VirtualLab Fusion技術
文件信息
延伸閱讀
- 基于激光的邁克爾遜干涉儀和干涉條紋探測- 馬赫-澤德干涉儀
展開 用于光學檢測的斐索干涉儀
摘要
斐索干涉儀是工業上常用的一種光學測量儀器，常用于高精度的光學表面質量檢測。利用VirtualLab Fusion的非序列追跡技術，我們建立了斐索干涉儀，并將其用于測試不同的光學表面，如柱面和球面，可以發現由此產生的干涉條紋對表面輪廓很敏感。
建模任務
觀測傾斜平面
觀測柱面
觀測球面
走進VirtualLab Fusion
用于光學檢測的斐索干涉儀
摘要
建模任務
斐索干涉儀是工業上常用的一種光學測量儀器，常用于高精度的光學表面質量檢測。利用VirtualLab Fusion的非序列追跡技術，我們建立了斐索干涉儀，并將其用于測試不同的光學表面，如柱面和球面，可以發現由此產生的干涉條紋對表面輪廓很敏感。
用于光學檢測的斐索干涉儀
摘要
斐索干涉儀是工業上常用的一種光學測量儀器，常用于高精度的光學表面質量檢測。利用VirtualLab Fusion的非序列追跡技術，我們建立了斐索干涉儀，并將其用于測試不同的光學表面，如柱面和球面，可以發現由此產生的干涉條紋對表面輪廓很敏感。 建模任務
觀測傾斜平面
觀測柱面
觀測球面
走進VirtualLab Fusion
VirtualLab Fusion的工作流程? 設置輸入場- 基本光源模型 [教學視頻] ? 使用表面構造真實元件 ? 定義元件的位置和方向- LPD II：位置和方向 [教學視頻] ? 為非序列場追跡設置合適的通道- 非序列場追跡的頻道設置 [用例]
VirtualLab Fusion技術
文件信息
延伸閱讀
- 基于激光的邁克爾遜干涉儀和干涉條紋探測- 馬赫-澤德干涉儀
展開 [VirtualLab] 用于光學檢測的斐索干涉儀
摘要
斐索干涉儀是工業上常用的一種光學測量儀器，常用于高精度的光學表面質量檢測。利用VirtualLab Fusion的非序列追跡技術，我們建立了斐索干涉儀，并將其用于測試不同的光學表面，如柱面和球面，可以發現由此產生的干涉條紋對表面輪廓很敏感。
建模任務
觀測傾斜平面
觀測柱面
觀測球面
走進VirtualLab Fusion
VirtualLab Fusion的工作流程
? 設置輸入場
- 基本光源模型 [教學視頻]
? 使用表面構造真實元件
? 定義元件的位置和方向
- LPD II：位置和方向 [教學視頻]
? 為非序列場追跡設置合適的通道
- 非序列場追跡的頻道設置 [用例]
VirtualLab Fusion技術
文件信息
延伸閱讀
- 基于激光的邁克爾遜干涉儀和干涉條紋探測
- 馬赫-澤德干涉儀
展開 CINNO Research | 至2024年國內新型顯示行業檢測設備市場規模超92億元，本土設備商強勢占領市場
圖示：2016-2025年中國大陸新型顯示行業設備市場規模趨勢，來源：CINNO Research
2021年中國大陸新型顯示行業檢測設備市場規模達59億元
在新型顯示行業高速發展的過程中，中國大陸檢測設備行業表現亮眼，獲得了高速的發展機會。
在新型顯示行業檢測設備領域，主要包括Array制程光學檢測設備、Array制程電性及其他檢測設備，Cell/Module自動制程光學檢測設備、Cell/Module非自動制程光學檢測設備、Cell/Module老化、觸控及其他檢測設備（合計統稱為Cell/Module檢測設備）。CINNO Research統計數據表明，中國大陸2021年檢測設備市場規模約59億元，其中Cell/Module光學檢測設備約21億元，占比36%。
CINNO Research預測，伴隨著2022年起TFT-LCD及AMOLED多座工廠進入建設期，新的建廠和擴產將帶動中國大陸新型顯示行業檢測設備市場規模在2024年將有望達92億元，其中Cell/Module制程光學檢測設備市場規模在2024年也將達到26億元。
圖示：2016-2025年中國大陸新型顯示行業檢測設備市場規模趨勢，來源：CINNO Research
2021年國外廠商主導中國大陸AMOLED行業Array檢測設備市場
根據CINNO Research統計數據顯示，2021年中國大陸AMOLED行業Array制程檢測設備廠商銷售額前三位分別為HB Tech、Yang Electronic和DIT，國產化率約為8%，主要以精測電子等本土設備商為代表。
展開 
EUV光刻的“致命弱點”
盡管如此，定位和預測芯片中隨機效應引起的缺陷仍然是必不可少的，在晶圓廠中，有許多方法可以定位這些缺陷，包括光學檢測、電子束技術和電氣測試，還有各種軟件工具。
多年來，芯片制造商一直依靠兩種設備——電子束和光學檢測系統——來發現芯片中的缺陷。光學檢測系統是晶圓廠的助力工具，在操作中，晶圓片被插入監測系統中，光源產生照亮晶圓片的強光，收集光并數字化圖像。該系統拍攝裸片時，將其與沒有缺陷的芯片進行比較。
光學檢測系統不僅用于發現常見的物理缺陷，還用于定位EUV隨機引起的缺陷，與其他技術相比有幾個優點。
“隨著生產實施和抗蝕能力的提高，隨機引起的缺陷率得到顯著改善，但它仍然存在。”KLA過程控制解決方案主管Andrew Cross說：“隨機效應引起的缺陷，無論圖案類型如何都可能發生。我們看到傳統的CD和較新的熱點電子束計量都無法在如此低的缺陷密度范圍內單獨標記這些缺陷。這推動了對大面積和高覆蓋率檢測的需求，并具有捕捉關鍵圖案缺陷的敏感性——光學檢測系統支持的要求，特別是寬帶等離子光學檢測。”
隨機效應的本質是隨機，往往以最高頻率影響弱模式。“因此，需要有效的進程窗口發現是至關重要的，”Cross說：“進程窗口通常能夠識別在焦點和劑量方面最薄弱的結構，由于一個特定結構通常在一個設計中重復數千或數萬次，因此預測哪個可能由于設計本身、掩膜或其他工藝交互而失敗，跨芯片或跨晶圓，同樣需要高覆蓋率的光學檢測技術。
隨機性通常發生在系統學單獨定義的過程窗口內，電子束或光學監測都可以提供有效的解決方案，具體取決于隨機性的水平及其對特定設計的影響。在這個發現過程中，我們可以嘗試區分隨機性和純系統缺陷。系統性通常影響設計結構中的同一點，例如，特定的角點或線端。
展開 光學人的輔助工具｜成本低且效益高！適合光學器件生產檢測檢驗的產品
Lenscheck光學測試系統（傳函儀）
LenscheckVIS/LWIR是一個成本低效益高的產品，適合您的光學器件生產和產品原型檢測檢驗的需求。作為光學成像測試領域的領導者，Optikos推出這款精簡、高效、易用的產品用于產品質量檢測。Lenscheck包含了擁有專利的VideoMTF圖像分析軟件，以及實時的調制傳遞函數測試和分析。使用這種測試系統可以讓光學儀器廠家迅速、可靠的測試產品，降低產品及組件不合格的風險。
測量
● 軸上/離軸 調制傳遞函數MTF
● 離焦調制傳遞函數
● 有效焦距
● 后焦距
● 像散
● 場曲
● 位置色差，倍率色差
● 畸變
● 主光線角度
● 環繞能
● 透射率
● 相對照度
● 散射光
● 視線
特性
● 擁有專利的VideoMTF技術，可實時測量MTF
● 平臺靈活度高，可測試一系列不同參數
● 業內領先的精確度和可重復性
● 可具體配置的全自動測量程序
● 輕松切換各種波段（可見光/近紅外，短波紅外，長波紅外）
● 高分辨率的USB電機控制平移臺
● 集成的玻璃鱗片編碼器
● 50mm通光孔徑的折/反射式準直儀
● 集成的八個靶位的靶標輪和濾光片輪
● 自動定心的光學鏡頭支架
● 12bit實時視頻
展開 Zemax案例 | 用于炮膛檢測的內窺鏡光學系統設計的精準化解決方案
<p><strong>引言</strong></p><p>火炮身管內壁的燒蝕、裂紋等疵病直接影響火炮使用安全性，Ф30~Ф85mm小口徑炮膛的檢測對設備的空間適配性、成像質量和三維測量能力提出嚴苛要求，而傳統內窺系統存在成像失真、適配性差、無法三維測量等痛點。Zemax作為全球領先的光學系統設計與仿真平臺，憑借建模、優化、像質評價與公差分析的全流程能力，成為攻克炮膛檢測內窺鏡光學系統設計難題的核心工具。<strong>本文結合新近研究成果，解析Zemax在該內窺鏡光學系統設計中的全流程應用，展現其對高精度工業內窺鏡研發的價值</strong><sup><strong>[1]</strong></sup><strong>。</strong></p><p><br></p><p><strong>小口徑炮膛檢測的光學設計挑戰</strong></p><p>小口徑炮膛的狹小空間，要求檢測內窺鏡具備<strong>小口徑、長工作距離、大景深</strong>的特性<sup>[2]</sup>，同時炮膛疵病的三維測量需求，對內窺鏡的雙目立體成像匹配性、多口徑工況適配性提出更高標準<sup>[3]</sup>。現有炮膛檢測內窺系統存在諸多短板：多子系統拼接成像成本高、錐形反射鏡方案易失真、非側視式設計無法探入小口徑炮膛、廣角鏡頭物距不足等，且難以在小口徑約束下兼顧大視場、長工作距離與高成像質量。</p><p>解決這些難題，需要設計一款側視式雙光路大景深內窺鏡光學系統，而核心難點在于多口徑參數匹配、雙光路視差控制、長距像質保持及加工裝調可行性驗證。Zemax憑借全流程光學設計與仿真能力，成為解決這些問題的關鍵支撐，實現從理論設計到工程落地的高效轉化。
展開 用于光學檢測的斐索干涉儀
摘要
斐索干涉儀是工業上常見的光學計量設備，通常用于高精度測試光學表面的質量。在VirtualLab Fusion中通道配置的幫助下，我們建立了一個Fizeau干涉儀，并將其用于測試不同的光學表面，例如圓柱形和球形表面。結果表明，表面輪廓對干涉條紋的產生是敏感的。
建模任務
測試表面
非序列追跡
通用探測器和探測器附加組件
總結-組件
…
觀測下的傾斜平面
被觀測圓柱面
被觀測球面
