全息圖分析
關(guān)注創(chuàng)建者：匿名 創(chuàng)建時(shí)間：2026-01-05
全息圖分析的視頻教程
模具設(shè)計(jì)：模仁優(yōu)化，頂出系統(tǒng)分析，模具加工圖講解！
模具設(shè)計(jì)：模仁優(yōu)化，頂出系統(tǒng)分析，模具加工圖講解！本視頻全部根據(jù)工廠實(shí)戰(zhàn)經(jīng)驗(yàn)錄制，貼近工作實(shí)際，學(xué)習(xí)咨詢，草圖，軟件，工程圖或者你想要多系統(tǒng)學(xué)習(xí)資料可以加老師VX:KKLS1206免費(fèi)領(lǐng)取
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3個(gè)模具設(shè)計(jì)實(shí)用技巧，快速進(jìn)行產(chǎn)品結(jié)構(gòu)分析出圖，值得你收藏!
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全息圖分析的實(shí)例教程
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概要
在設(shè)計(jì)光學(xué)全息圖時(shí)，分析元件上的條紋頻率以確保可制造性是很重要的。本文提供了自定義分析，允許對(duì)序列全息圖 1、全息圖 2 和光學(xué)制造全息圖表面等類型進(jìn)行此類研究。還提供了源代碼，用于演示如何通過 ZOS-API 創(chuàng)建自定義分析和準(zhǔn)備設(shè)置對(duì)話框，用以開放用戶分析設(shè)置的自定義交互。
簡介
在 OpticStudio 序列模式中可用的工具允許通過兩束構(gòu)建光的干涉來定義全息圖。由于全息圖的定義十分靈活，用戶可能使用過于密集的條紋圖案來模擬不可生產(chǎn)的全息圖。本文介紹了用于觀察全息圖條紋結(jié)構(gòu)和密度的 ZOS-API 分析。
我們提供了用于用戶分析的源代碼作為示例。該分析使用了UserAnalysisSettings 模式。雖然這不是一個(gè)完整的演練，但它演示了如何在 API 分析中設(shè)置參數(shù)值和獲取分析值。
準(zhǔn)備運(yùn)行分析
為了運(yùn)行分析，請(qǐng)下載并解壓本文附件。解決方案文件和相關(guān)補(bǔ)充文件（源代碼文件等）可以在項(xiàng)目文件夾中找到。可執(zhí)行的用戶分析文件“ Hologram Construction Interference.exe "應(yīng)該保存到目錄“ …\Documents\Zemax\User Analysis\ ”內(nèi)。在可執(zhí)行文件被保存后，應(yīng)重新啟動(dòng) OpticStudio，然后在 編程 (The Programming Tab) … 自定義分析 (User Analyses) … 全息構(gòu)造 (Hologram Construction Interference) 中，“ HologramFringes ”分析將變?yōu)榭捎谩?計(jì)算全息條紋數(shù)據(jù)
根據(jù)全息圖表面上任意點(diǎn)的相對(duì)路徑長度和兩個(gè)構(gòu)造光源發(fā)射到該點(diǎn)的光線能量傳播方向的差異，可以計(jì)算出任意點(diǎn)上的干涉數(shù)據(jù)。
展開 在設(shè)計(jì)光學(xué)全息圖時(shí)，分析元件上的條紋頻率以確保可制造性是很重要的。本文提供了自定義分析，允許對(duì)序列全息圖 1、全息圖 2 和光學(xué)制造全息圖表面等類型進(jìn)行此類研究。還提供了源代碼，用于演示如何通過 ZOS-API 創(chuàng)建自定義分析和準(zhǔn)備設(shè)置對(duì)話框，用以開放用戶分析設(shè)置的自定義交互。（聯(lián)系工作人員獲取附件）
簡介
在 OpticStudio 序列模式中可用的工具允許通過兩束構(gòu)建光的干涉來定義全息圖。由于全息圖的定義十分靈活，用戶可能使用過于密集的條紋圖案來模擬不可生產(chǎn)的全息圖。本文介紹了用于觀察全息圖條紋結(jié)構(gòu)和密度的 ZOS-API 分析。
我們提供了用于用戶分析的源代碼作為示例。該分析使用了 UserAnalysisSettings 模式。雖然這不是一個(gè)完整的演練，但它演示了如何在 API 分析中設(shè)置參數(shù)值和獲取分析值。
準(zhǔn)備運(yùn)行分析
為了運(yùn)行分析，請(qǐng)下載并解壓本文附件。解決方案文件和相關(guān)補(bǔ)充文件（源代碼文件等）可以在項(xiàng)目文件夾中找到。可執(zhí)行的用戶分析文件“ Hologram Construction Interference.exe "應(yīng)該保存到目錄“ …\Documents\Zemax\User Analysis\ ”內(nèi)。在可執(zhí)行文件被保存后，應(yīng)重新啟動(dòng) OpticStudio，然后在 編程 (The Programming Tab) … 自定義分析 (User Analyses) … 全息構(gòu)造 (Hologram Construction Interference) 中，“ HologramFringes ”分析將變?yōu)榭捎谩?計(jì)算全息條紋數(shù)據(jù)
根據(jù)全息圖表面上任意點(diǎn)的相對(duì)路徑長度和兩個(gè)構(gòu)造光源發(fā)射到該點(diǎn)的光線能量傳播方向的差異，可以計(jì)算出任意點(diǎn)上的干涉數(shù)據(jù)。
展開 概述
全息圖能夠通過兩束相干光相干疊加獲得。用其中一束光照射生成的全息圖就可以得到另一束相干光，這樣全息圖就可以用作加密/解密的裝置了。
系統(tǒng)描述
在本例中一個(gè)復(fù)雜的隨機(jī)圖樣作為參考光源，用來恢復(fù)全息圖樣對(duì)應(yīng)的物光源。加密過程中，讓兩束光干涉疊加得到干涉圖樣，并用膠片或者光刻膠記錄下來，得到一個(gè)全息圖；解密時(shí)，只使用復(fù)雜的隨機(jī)圖樣照射前面形成的全息圖就可以獲得物光源信息。
圖1是加密過程示意圖，在遠(yuǎn)場區(qū)兩束光相干涉得到干涉圖樣，對(duì)于一個(gè)復(fù)雜的隨機(jī)參考光源，任意選擇一個(gè)物光源全息圖樣都會(huì)非常的復(fù)雜。僅僅依靠全息圖是很難確定物光源的，只有使用同一個(gè)隨機(jī)光源才能對(duì)其恢復(fù)，圖2給出了解密過程示意圖。通過遮擋板將恢復(fù)出的部分分量遮擋就可以濾除不必要的成分，如圖3所示。
圖1 加密過程結(jié)構(gòu)示意圖
圖2 解密過程結(jié)構(gòu)示意圖
圖3 解密過程中去除不需要的成分
模擬結(jié)果
圖4 初始待加密光束的光強(qiáng)分布（復(fù)雜光束）
圖5 點(diǎn)光源和圖4所示復(fù)雜光束干涉形成的全息圖樣
圖6 解密過程中透鏡焦平面上不加遮擋板時(shí)的光強(qiáng)分布
圖7 解密過程中透鏡焦平面上引入遮擋板后的光強(qiáng)分布
圖8解密過程重建后的復(fù)雜光強(qiáng)分布，是初始分布（圖4）的完美重現(xiàn)
展開 全息技術(shù)的不斷發(fā)展使社會(huì)步入了一個(gè)發(fā)展迅速的新領(lǐng)域，由于三維顯示技術(shù)可以使觀察者更容易接受，其發(fā)展速度十分迅速，基于計(jì)算全息的三維全息圖的設(shè)計(jì)方法有很多種，其中層析法的設(shè)計(jì)最為流行，可以利用計(jì)算機(jī)模擬所需的三維物體，通過算法的不斷迭代優(yōu)化計(jì)算出所需的全息圖。
如圖選用目標(biāo)圖像為三維物體的小火車，對(duì)其進(jìn)行三維相位型全息圖的設(shè)計(jì)，目標(biāo)圖像分為強(qiáng)度圖與深度圖，深度圖是根據(jù)3Dmax軟件對(duì)其進(jìn)行渲染得到的，因此深度圖也就代表了火車在空間的深度信息；強(qiáng)度圖也就代表了其強(qiáng)度信息。
（a）強(qiáng)度圖 （b）深度圖
圖1 目標(biāo)圖像
定義再現(xiàn)距離為300mm，目標(biāo)圖像的深度為30mm，因此總體深度范圍為300-330mm，根據(jù)灰度值對(duì)其進(jìn)行劃分，總共劃分為256層。具體程序設(shè)計(jì)步驟為：
1.初始參數(shù)定義：波長、像元大小與尺寸、目標(biāo)圖像、填充比例等。
2.利用“im2double”與“imread”函數(shù)讀入強(qiáng)度圖與深度圖，然后對(duì)深度圖進(jìn)行處理，采用均值劃分將其按照目標(biāo)圖像的深度信息對(duì)其進(jìn)行深度劃分。
3.采用優(yōu)化算法進(jìn)行迭代設(shè)計(jì)計(jì)算，優(yōu)化算法也就是所采用的的菲涅爾正逆衍射、傅里葉正逆衍射、角譜正逆衍射（即自定義函數(shù)“Fresnel”、“Fourier”、“Angular spectrum”）不斷優(yōu)化全息面的復(fù)振幅分布。
4.對(duì)最終優(yōu)化結(jié)果全息面的復(fù)振幅分布進(jìn)行編碼，編碼采用我們自己定義的編碼方式。
5.采用“imwrite”函數(shù)進(jìn)行保存全息圖。
計(jì)算得到的相位全息圖如下圖2所示。
圖2 相位全息圖
然后我們對(duì)其進(jìn)行模擬再現(xiàn)，再現(xiàn)即選用上述迭代運(yùn)算第3步的單次計(jì)算公式，導(dǎo)入設(shè)計(jì)好的計(jì)算全息圖，通過改變不同的再現(xiàn)距離即可。選用步長為5mm再現(xiàn)結(jié)果如下圖3所示。
展開 概述
全息圖能夠通過兩束相干光相干疊加獲得。用其中一束光照射生成的全息圖就可以得到另一束相干光，這樣全息圖就可以用作加密/解密的裝置了。
系統(tǒng)描述
在本例中一個(gè)復(fù)雜的隨機(jī)圖樣作為參考光源，用來恢復(fù)全息圖樣對(duì)應(yīng)的物光源。加密過程中，讓兩束光干涉疊加得到干涉圖樣，并用膠片或者光刻膠記錄下來，得到一個(gè)全息圖；解密時(shí)，只使用復(fù)雜的隨機(jī)圖樣照射前面形成的全息圖就可以獲得物光源信息。圖1是加密過程示意圖，在遠(yuǎn)場區(qū)兩束光相干涉得到干涉圖樣，對(duì)于一個(gè)復(fù)雜的隨機(jī)參考光源，任意選擇一個(gè)物光源全息圖樣都會(huì)非常的復(fù)雜。僅僅依靠全息圖是很難確定物光源的，只有使用同一個(gè)隨機(jī)光源才能對(duì)其恢復(fù)，圖2給出了解密過程示意圖。通過遮擋板將恢復(fù)出的部分分量遮擋就可以濾除不必要的成分，如圖3所示。
圖1.加密過程結(jié)構(gòu)示意圖
圖2.解密過程結(jié)構(gòu)示意圖
圖3.解密過程中去除不需要的成分
模擬結(jié)果
圖4.初始待加密光束的光強(qiáng)分布（復(fù)雜光束）
圖5.點(diǎn)光源和圖4所示復(fù)雜光束干涉形成的全息圖樣
圖6.解密過程中透鏡焦平面上不加遮擋板時(shí)的光強(qiáng)分布
圖7.解密過程中透鏡焦平面上引入遮擋板后的光強(qiáng)分布
圖8.解密過程重建后的復(fù)雜光強(qiáng)分布，是初始分布（圖4）的完美重現(xiàn)
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全息圖分析的最新內(nèi)容
圖1是加密過程示意圖，在遠(yuǎn)場區(qū)兩束光相干涉得到干涉圖樣，對(duì)于一個(gè)復(fù)雜的隨機(jī)參考光源，任意選擇一個(gè)物光源全息圖樣都會(huì)非常的復(fù)雜。僅僅依靠全息圖是很難確定物光源的，只有使用同一個(gè)隨機(jī)光源才能對(duì)其恢復(fù)，圖2給出了解密過程示意圖。通過遮擋板將恢復(fù)出的部分分量遮擋就可以濾除不必要的成分，如圖3所示。
在本例中一個(gè)復(fù)雜的隨機(jī)圖樣作為參考光源，用來恢復(fù)全息圖樣對(duì)應(yīng)的物光源
試模 > 科學(xué)試模 分頁顯示了該試模的科學(xué)試模紀(jì)錄，包含短射試驗(yàn)、射出速度驗(yàn)證、保壓范圍驗(yàn)證、澆口固化驗(yàn)證、冷卻時(shí)間驗(yàn)證。現(xiàn)場試模 和 CAE設(shè)定 的試模信息皆會(huì)顯示于此頁面之中。
而在 短射驗(yàn)證 的字段，第 1 個(gè)部份顯示的是 最終試驗(yàn) 的信息，包含現(xiàn)場試模的照片和信息；此外，使用者也可開啟 CAE 部分的 3D 檢視平臺(tái)以查看CAE 和 現(xiàn)場試模 2 個(gè)模型的比較。在最終試驗(yàn)的下方，有
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概要
本文介紹了利用光學(xué)全息圖降低單透鏡像差的方法。在描述了表示全息圖構(gòu)造光束的兩個(gè) ZMX 文件之后，本文演示了如何在重現(xiàn)文件中設(shè)置 OFH。然后解釋了如何輕松地從重現(xiàn)文件中訪問任何結(jié)構(gòu)造光束變量，以實(shí)現(xiàn)衍射受限單透鏡的設(shè)計(jì)。
簡介
光學(xué)全息圖 (OFH) 是OpticStudio中最通用的全息圖模型。這個(gè)模型需要使用兩個(gè)
分析設(shè)置
全息圖分析允許用戶繪制條紋頻率（每透鏡單位的條紋），或者直接在規(guī)范化尺度上顯示構(gòu)造光束的干涉條紋。分析設(shè)置如下:
表面序號(hào) (Surface Number) ：被分析全息圖表面的表面序號(hào)，只有有效的表面才會(huì)出現(xiàn)在該選項(xiàng)中（全息圖 1、全息圖 2、光學(xué)制造全息圖）。
GLAD：利用全息圖實(shí)現(xiàn)加密和解密11個(gè)月前
概述
全息圖能夠通過兩束相干光相干疊加獲得。用其中一束光照射生成的全息圖就可以得到另一束相干光，這樣全息圖就可以用作加密/解密的裝置了。
系統(tǒng)描述
在本例中一個(gè)復(fù)雜的隨機(jī)圖樣作為參考光源，用來恢復(fù)全息圖樣對(duì)應(yīng)的物光源。加密過程中，讓兩束光干涉疊加得到干涉圖樣，并用膠片或者光刻膠記錄下來，得到一個(gè)全息圖；解密時(shí)，只使用復(fù)雜的隨機(jī)圖樣照射前面形成的全息圖就可以獲得物光源信息。
圖1是加密過程示意圖
部門 ( Division )
部門 分頁顯示的內(nèi)容為組織的內(nèi)部架構(gòu)，一個(gè)部門可以是一個(gè)公司部門，也可能是賬號(hào)持有人隸屬的組織中的一個(gè)團(tuán)隊(duì)。此頁面會(huì)以樹形圖的方式列出所有現(xiàn)存的部門名稱。
部門 頁面讓使用者能同時(shí)把同樣的設(shè)定施行到屬于同一個(gè)部門中的多個(gè)賬號(hào)，例如，在管理功能 >項(xiàng)目 頁面創(chuàng)建一個(gè)新項(xiàng)目時(shí)，您可以勾選 “ 分享至同部門成員 ”，如此一來所有和所有者同一個(gè)部門的賬號(hào)可以瀏覽項(xiàng)目數(shù)據(jù)
頻譜圖在聲學(xué)中很常見，但有時(shí)也用于光學(xué)，特別是在超短脈沖的情況下（→超快光學(xué)）。基本思想本質(zhì)上是顯示一種與時(shí)間相關(guān)的頻譜：將傅里葉變換應(yīng)用于信號(hào)的不同時(shí)間部分。從數(shù)學(xué)上講，這會(huì)產(chǎn)生以下形式的信號(hào)
S(ω,t)=|∫?∞+∞E(τ)g(τ?t)eiωτdτ|2
E(t)正在研究的信號(hào)(例如脈沖的電場)，和g(t)是一個(gè)基函數(shù)，其可以例如具有高斯形狀。增益函數(shù)在時(shí)間上越窄，時(shí)間分辨率越高，但光譜分辨率也越低
一、背景介紹
高頻電磁場仿真在電子工程領(lǐng)域有著至關(guān)重要的作用，廣泛應(yīng)用于無線和有線通信、計(jì)算機(jī)、衛(wèi)星、雷達(dá)、半導(dǎo)體和微波集成電路、航空航天等多個(gè)領(lǐng)域，從芯片封裝、毫米波電路、射頻電路設(shè)計(jì)驗(yàn)證，到混合集成電路、PCB板、無源板級(jí)器件、RFIC/MMIC設(shè)計(jì)，再到天線設(shè)計(jì)，以及微波腔體、衰減器、微波轉(zhuǎn)接頭、波導(dǎo)濾波器等各類微波元器件的設(shè)計(jì)，都離不開高頻電磁場仿真工具。
二、
<p><strong>一、背景介紹</strong></p><p><br></p><p>在現(xiàn)代工程和科學(xué)研究中，流體力學(xué)扮演著至關(guān)重要的角色。流體的流動(dòng)和傳熱現(xiàn)象廣泛存在于自然界和工業(yè)應(yīng)用中，如能源、航空航天、生物醫(yī)學(xué)、船舶與海洋工程、汽車工程、化工過程、環(huán)境工程、生物醫(yī)學(xué)工程等。隨著技術(shù)的發(fā)展，流體力學(xué)仿真在這些行業(yè)的多個(gè)領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用實(shí)踐。借助流體力學(xué)仿真分析，研究人員和工程師可以優(yōu)化設(shè)計(jì)、
概述
全息圖能夠通過兩束相干光相干疊加獲得。用其中一束光照射生成的全息圖就可以得到另一束相干光，這樣全息圖就可以用作加密/解密的裝置了。
系統(tǒng)描述
在本例中一個(gè)復(fù)雜的隨機(jī)圖樣作為參考光源，用來恢復(fù)全息圖樣對(duì)應(yīng)的物光源。加密過程中，讓兩束光干涉疊加得到干涉圖樣，并用膠片或者光刻膠記錄下來，得到一個(gè)全息圖；解密時(shí)，只使用復(fù)雜的隨機(jī)圖樣照射前面形成的全息圖就可以獲得物光源信息
