正交繪圖
關(guān)注創(chuàng)建者：匿名 創(chuàng)建時(shí)間：2026-01-04
正交繪圖的視頻教程
希爾伯特黃變換HHT和EMD(經(jīng)驗(yàn)?zāi)B(tài)分解)算法和MATLAB程序視頻
經(jīng)驗(yàn)?zāi)B(tài)分解歷程動(dòng)畫(huà)演示及信號(hào)分解等式分析（32分鐘，網(wǎng)絡(luò)上免費(fèi)“試看”） 4、EMD2_1EMD語(yǔ)法和輸入輸出及停止條件與多個(gè)例子顯示（35分鐘，有EMD程序中文注釋，有程序） 5、EMD2_2EMD函數(shù)的選擇參數(shù)進(jìn)一步解讀及思考問(wèn)題與總結(jié)（15分鐘，有程序） 6、EMD3_自適應(yīng)后處理信號(hào)的最優(yōu)算法的5個(gè)指標(biāo)及其數(shù)量化刻畫(huà)（36分鐘，請(qǐng)聯(lián)系客服） 7、EMD4_1EMD的MATLAB程序處理2個(gè)信號(hào)的完備性及正交指數(shù)等
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正交繪圖的最新內(nèi)容
Ansys Zemax | 如何建立LCD背光源模型1個(gè)月前
為了確定二階y方向的起始點(diǎn)，查看通用繪圖并與評(píng)價(jià)函數(shù)中的值進(jìn)行對(duì)比。打開(kāi)一維通用圖（分析 (Analysis) >通用繪圖 (Universal Plot)）并應(yīng)用以下設(shè)置。
點(diǎn)擊OK鍵，并進(jìn)行繪圖更新；這個(gè)過(guò)程可能需要幾分鐘，具體所需時(shí)長(zhǎng)取決于電腦的速度。
二維網(wǎng)格生成完成后，可以通過(guò)繪圖功能將網(wǎng)格可視化，檢查網(wǎng)格質(zhì)量和節(jié)點(diǎn)連接的正確性。
3. 三維平面網(wǎng)格創(chuàng)建
三維實(shí)體網(wǎng)格的生成是在二維平面網(wǎng)格的基礎(chǔ)上，沿著厚度方向進(jìn)行坐標(biāo)擴(kuò)展實(shí)現(xiàn)的。
層合板的每一層都需要上下兩個(gè)節(jié)點(diǎn)面，因此對(duì)于N層的層合板，需要生成N加1個(gè)節(jié)點(diǎn)層。
正交下降優(yōu)化利用變量的正交化和解空間的離散采樣來(lái)降低評(píng)價(jià)函數(shù)值。OD 算法不計(jì)算評(píng)價(jià)函數(shù)的數(shù)值微分。對(duì)于評(píng)價(jià)函數(shù)存在原本噪聲的系統(tǒng)而言，例如非序列系統(tǒng)，OD 通常比 DLS 算法要好。它在照度最大化、亮度增強(qiáng)和均勻性優(yōu)化等優(yōu)化問(wèn)題中非常有用。
FRED案例展示：空間濾波器10個(gè)月前
其中包括八條次級(jí)光線：四條正交次級(jí)子光束部分光線代表束腰光線，四條正交次級(jí)子光束發(fā)散光線表示光束發(fā)散光線。在光線追跡期間，基礎(chǔ)光線決定所有次級(jí)光線的傳播：例如，如果基礎(chǔ)光線穿過(guò)孔徑，則所有次級(jí)光線也必須穿過(guò)該孔徑。這種使用光線表示高斯細(xì)電子束的技術(shù)稱為復(fù)雜光線追跡。
圖1.高斯細(xì)電子束的復(fù)雜光線代表
如果激光在空間濾光片處聚焦，則相干光線追跡中的大多數(shù)基礎(chǔ)光線將穿過(guò)孔徑。
設(shè)計(jì)波片后，可以使用 “通用繪圖” 中的評(píng)價(jià)函數(shù)評(píng)估其性能。
如果像差相當(dāng)小，則考察區(qū)域集中在繪圖中心附近。與其繪制所有這些接近零的振幅點(diǎn)，不如選擇顯示網(wǎng)格小于計(jì)算的總網(wǎng)格。
有多種方法可以顯示相同的基礎(chǔ) PSF 數(shù)據(jù)。嘗試下面顯示的設(shè)置。
注意 “顯示”為 128 x 128，“視場(chǎng)”為 2，“類型”為“Log”，并且“顯示為”設(shè)置為“偽彩色”。
其中包括八條次級(jí)光線：四條正交次級(jí)子光束部分光線代表束腰光線，四條正交次級(jí)子光束發(fā)散光線表示光束發(fā)散光線。在光線追跡期間，基礎(chǔ)光線決定所有次級(jí)光線的傳播：例如，如果基礎(chǔ)光線穿過(guò)孔徑，則所有次級(jí)光線也必須穿過(guò)該孔徑。這種使用光線表示高斯細(xì)電子束的技術(shù)稱為復(fù)雜光線追跡。
圖1.高斯細(xì)電子束的復(fù)雜光線代表
如果激光在空間濾光片處聚焦，則相干光線追跡中的大多數(shù)基礎(chǔ)光線將穿過(guò)孔徑。
2.PLAN（平面視圖）
定義：PLAN命令用于顯示當(dāng)前UCS的XY平面的正交（垂直或水平）視圖。它快速將視圖切換到當(dāng)前UCS的頂部、正面或側(cè)面視圖。
適用場(chǎng)景：
當(dāng)你需要快速切換到標(biāo)準(zhǔn)的正交視圖進(jìn)行查看或繪圖時(shí)。
當(dāng)你的視圖被旋轉(zhuǎn)，需要快速恢復(fù)到正常的正視圖、側(cè)視圖或頂視圖。
當(dāng)你不需要改變UCS的原點(diǎn)和方向，只是想臨時(shí)查看模型的特定面。
1 模型建立與前處理
1.1 產(chǎn)品參數(shù)及模型
根據(jù)圖1的國(guó)際象棋棋子圖紙，用CATIA繪圖軟件分別建立國(guó)際象棋6種棋子的三維立體模型，將其導(dǎo)入Moldex3D。6個(gè)模型底座直徑最大46.5mm，最小39 mm，厚度分布在2.599～46.5 mm，平均厚度19.581 mm，其中棋子馬的頭部厚度為12 mm。具體尺寸見(jiàn)圖1。
為了確定二階y方向的起始點(diǎn)，查看通用繪圖并與評(píng)價(jià)函數(shù)中的值進(jìn)行對(duì)比。打開(kāi)一維通用圖（分析 (Analysis) >通用繪圖 (Universal Plot)）并應(yīng)用以下設(shè)置。
點(diǎn)擊OK鍵，并進(jìn)行繪圖更新；這個(gè)過(guò)程可能需要幾分鐘，具體所需時(shí)長(zhǎng)取決于電腦的速度。根據(jù)下圖，將陣列物體上的“ Delta2 Y ”參數(shù)設(shè)置為5E-3。
背光源設(shè)計(jì)形式是固定的，只需要優(yōu)化陣列參數(shù)。
