光學(xué)散射模擬的案例
Ansys Zemax｜如何有效地模擬散射
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概要
OpticStudio中，有兩個用來提升散射模擬效率的工具：Scatter To List以及Importance Sampling。在這篇文章中，我們詳細討論了這兩個工具，并且以一個雜散光分析為例示范了如何使用Importance Sampling。
如何有效的模擬散射
對于絕大多數(shù)光學(xué)系統(tǒng)進行散射模擬是非常重要的，尤其在雜散光分析中散射模擬更是關(guān)鍵所在。Zemax OpticStudio有很多內(nèi)建散射模型，這些模型支持使用者輸入任何散射分布。在非序列光線追跡中，需要使用非常多的光線射向模擬物件才能精確而適當?shù)?em>模擬散射分布。特別是當觀察目標相對于散射點占據(jù)的立體角很小時，這個問題會更加嚴重。最簡單直接的辦法就是增加入射或是散射的光線數(shù)量使更多的光線到達要觀察目標。但是追跡更多光線會需要更多的時間，因此模擬散射就變的非常費時。
在OpticStudio中，我們可以使用“Scatter To List”來改進散射模擬效率，此設(shè)定強制系統(tǒng)只追跡那些散射到指定物件的光線而忽略其他光線。不過這并不是說光線一定會散射到指定物件上，因此對于大量光線模擬這種方法并不能改善太多。另一個OpticStudio中的“Importance Sampling”設(shè)定，則可以大幅地增進散射模擬的效率。這兩個工具都可以在Object Properties的Scatter To標簽中找到。
Importance Sampling原理上與Scatter To List大不相同。如果我們在Importance Sampling中加入一個物件，OpticStudio則會以這個物件為中心畫出一個虛擬的球體，然后所有的散射光將只會往這個球體過去。
展開 如何有效的模擬散射
概要
OpticStudio中，有兩個用來提升散射模擬效率的工具：Scatter To List以及Importance Sampling。在這篇文章中，我們詳細討論了這兩個工具，并且以一個雜散光分析為例示范了如何使用Importance Sampling。
如何有效的模擬散射
對于絕大多數(shù)光學(xué)系統(tǒng)進行散射模擬是非常重要的，尤其在雜散光分析中散射模擬更是關(guān)鍵所在。Zemax OpticStudio有很多內(nèi)建散射模型，這些模型支持使用者輸入任何散射分布。在非序列光線追跡中，需要使用非常多的光線射向模擬物件才能精確而適當?shù)?em>模擬散射分布。特別是當觀察目標相對于散射點占據(jù)的立體角很小時，這個問題會更加嚴重。最簡單直接的辦法就是增加入射或是散射的光線數(shù)量使更多的光線到達要觀察目標。但是追跡更多光線會需要更多的時間，因此模擬散射就變的非常費時。
在OpticStudio中，我們可以使用“Scatter To List”來改進散射模擬效率，此設(shè)定強制系統(tǒng)只追跡那些散射到指定物件的光線而忽略其他光線。不過這并不是說光線一定會散射到指定物件上，因此對于大量光線模擬這種方法并不能改善太多。另一個OpticStudio中的“Importance Sampling”設(shè)定，則可以大幅地增進散射模擬的效率。這兩個工具都可以在Object Properties的Scatter To標簽中找到。
Importance Sampling原理上與Scatter To List大不相同。如果我們在Importance Sampling中加入一個物件，OpticStudio則會以這個物件為中心畫出一個虛擬的球體，然后所有的散射光將只會往這個球體過去。
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概要
OpticStudio中，有兩個用來提升散射模擬效率的工具：Scatter To List以及Importance Sampling。在這篇文章中，我們詳細討論了這兩個工具，并且以一個雜散光分析為例示范了如何使用Importance Sampling。
如何有效的模擬散射
對于絕大多數(shù)光學(xué)系統(tǒng)進行散射模擬是非常重要的，尤其在雜散光分析中散射模擬更是關(guān)鍵所在。Zemax OpticStudio有很多內(nèi)建散射模型，這些模型支持使用者輸入任何散射分布。在非序列光線追跡中，需要使用非常多的光線射向模擬物件才能精確而適當?shù)?em>模擬散射分布。特別是當觀察目標相對于散射點占據(jù)的立體角很小時，這個問題會更加嚴重。最簡單直接的辦法就是增加入射或是散射的光線數(shù)量使更多的光線到達要觀察目標。但是追跡更多光線會需要更多的時間，因此模擬散射就變的非常費時。
在OpticStudio中，我們可以使用“Scatter To List”來改進散射模擬效率，此設(shè)定強制系統(tǒng)只追跡那些散射到指定物件的光線而忽略其他光線。不過這并不是說光線一定會散射到指定物件上，因此對于大量光線模擬這種方法并不能改善太多。另一個OpticStudio中的“Importance Sampling”設(shè)定，則可以大幅地增進散射模擬的效率。這兩個工具都可以在Object Properties的Scatter To標簽中找到。
Importance Sampling原理上與Scatter To List大不相同。如果我們在Importance Sampling中加入一個物件，OpticStudio則會以這個物件為中心畫出一個虛擬的球體，然后所有的散射光將只會往這個球體過去。
展開 JCMsuite應(yīng)用：散射體的光學(xué)手性響應(yīng)
在JCMsuite中，利用光學(xué)手性的形式和內(nèi)置的手性參量可以計算光散射體的手性響應(yīng)。結(jié)果表明，時間諧波光學(xué)手性密度服從局部連續(xù)性方程[1]。這使得手性行為的分析類似于研究電磁能量的標準消光實驗。
在電磁能量的情況下，消光由散射和損失[2]組成。對應(yīng)的手性參量是光學(xué)手性的消光散射，以及體積和界面上的手性轉(zhuǎn)換。這就得到了守恒定律
積分是在散射體的外表面?Ω和體積Θ以及表面?Θ上進行的。
這些參量在JCMsuite中命名，如下表所示。更多細節(jié)可以在這里找到。
作為案例展示，我們計算散射體的手性響應(yīng)如下圖所示：
它的直徑是一個波長的量級，它的介電常數(shù)固定為ε=4.5。在下面，我們將改變散射體的磁導(dǎo)率μ，并觀察預(yù)測的對偶對稱性[3]對于恒定比率ε/μ的散射體及其環(huán)境。周圍的材料是ε=μ=1的空氣。
由于散射體是無損的和各向同性的，在它的體積內(nèi)將沒有轉(zhuǎn)換。請參考四分之一波片的案例，以獲得更多關(guān)于體積轉(zhuǎn)換的信息。
在這里，所需的參量被計算為如上所述的電磁手性通量的通量積分。如下圖所示，對于接近對偶對稱的材料，轉(zhuǎn)換趨向于零。
在固定介電常數(shù)ε=4.5下，散射體的磁導(dǎo)率μ的變化。
該散射體是對偶的ε/μ=1，產(chǎn)生零手性轉(zhuǎn)換。
在JCMsuite中，所有手性密度都是相似的。例如，我們在下面的圖中展示了增強的近場光學(xué)手性密度的電子部分。這是一個后處理過程，即ExportFields：輸出參量電手性密度。
具有ε/μ=1的雙散射體的光手性密度X的近場增強
參考文獻
[1] Philipp Gutsche, Lisa V.
展開 
JCMsuite應(yīng)用：散射體的光學(xué)手性響應(yīng)
在JCMsuite中，利用光學(xué)手性的形式和內(nèi)置的手性參量可以計算光散射體的手性響應(yīng)。結(jié)果表明，時間諧波光學(xué)手性密度服從局部連續(xù)性方程[1]。這使得手性行為的分析類似于研究電磁能量的標準消光實驗。
在電磁能量的情況下，消光由散射和損失[2]組成。對應(yīng)的手性參量是光學(xué)手性的消光散射，以及體積和界面上的手性轉(zhuǎn)換。這就得到了守恒定律
積分是在散射體的外表面?Ω和體積Θ以及表面?Θ上進行的。
這些參量在JCMsuite中命名，如下表所示。更多細節(jié)可以在這里找到。
作為案例展示，我們計算散射體的手性響應(yīng)如下圖所示：
它的直徑是一個波長的量級，它的介電常數(shù)固定為ε=4.5。在下面，我們將改變散射體的磁導(dǎo)率μ，并觀察預(yù)測的對偶對稱性[3]對于恒定比率ε/μ的散射體及其環(huán)境。周圍的材料是ε=μ=1的空氣。
由于散射體是無損的和各向同性的，在它的體積內(nèi)將沒有轉(zhuǎn)換。請參考四分之一波片的案例，以獲得更多關(guān)于體積轉(zhuǎn)換的信息。
在這里，所需的參量被計算為如上所述的電磁手性通量的通量積分。如下圖所示，對于接近對偶對稱的材料，轉(zhuǎn)換趨向于零。
在固定介電常數(shù)ε=4.5下，散射體的磁導(dǎo)率μ的變化。
該散射體是對偶的ε/μ=1，產(chǎn)生零手性轉(zhuǎn)換。
在JCMsuite中，所有手性密度都是相似的。例如，我們在下面的圖中展示了增強的近場光學(xué)手性密度的電子部分。這是一個后處理過程，即ExportFields：輸出參量電手性密度。
具有ε/μ=1的雙散射體的光手性密度X的近場增強
參考文獻
[1] Philipp Gutsche, Lisa V.
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在JCMsuite中，利用光學(xué)手性的形式和內(nèi)置的手性參量可以計算光散射體的手性響應(yīng)。結(jié)果表明，時間諧波光學(xué)手性密度服從局部連續(xù)性方程[1]。這使得手性行為的分析類似于研究電磁能量的標準消光實驗。
在電磁能量的情況下，消光由散射和損失[2]組成。對應(yīng)的手性參量是光學(xué)手性的消光散射，以及體積和界面上的手性轉(zhuǎn)換。這就得到了守恒定律
積分是在散射體的外表面?Ω和體積Θ以及表面?Θ上進行的。
這些參量在JCMsuite中命名，如下表所示。更多細節(jié)可以在這里找到。
作為案例展示，我們計算散射體的手性響應(yīng)如下圖所示：
它的直徑是一個波長的量級，它的介電常數(shù)固定為ε=4.5。在下面，我們將改變散射體的磁導(dǎo)率μ，并觀察預(yù)測的對偶對稱性[3]對于恒定比率ε/μ的散射體及其環(huán)境。周圍的材料是ε=μ=1的空氣。
由于散射體是無損的和各向同性的，在它的體積內(nèi)將沒有轉(zhuǎn)換。請參考四分之一波片的案例，以獲得更多關(guān)于體積轉(zhuǎn)換的信息。
在這里，所需的參量被計算為如上所述的電磁手性通量的通量積分。如下圖所示，對于接近對偶對稱的材料，轉(zhuǎn)換趨向于零。
在固定介電常數(shù)ε=4.5下，散射體的磁導(dǎo)率μ的變化。
該散射體是對偶的ε/μ=1，產(chǎn)生零手性轉(zhuǎn)換。
在JCMsuite中，所有手性密度都是相似的。例如，我們在下面的圖中展示了增強的近場光學(xué)手性密度的電子部分。這是一個后處理過程，即ExportFields：輸出參量電手性密度。
具有ε/μ=1的雙散射體的光手性密度X的近場增強
參考文獻
[1] Philipp Gutsche, Lisa V. Poulikakos, Martin Hammerschmidt, Sven Burger, and Frank Schmidt.
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在JCMsuite中，利用光學(xué)手性的形式和內(nèi)置的手性參量可以計算光散射體的手性響應(yīng)。結(jié)果表明，時間諧波光學(xué)手性密度服從局部連續(xù)性方程[1]。這使得手性行為的分析類似于研究電磁能量的標準消光實驗。
在電磁能量的情況下，消光由散射和損失[2]組成。對應(yīng)的手性參量是光學(xué)手性的消光散射，以及體積和界面上的手性轉(zhuǎn)換。這就得到了守恒定律
積分是在散射體的外表面?Ω和體積Θ以及表面?Θ上進行的。
這些參量在JCMsuite中命名，如下表所示。更多細節(jié)可以在這里找到。
作為案例展示，我們計算散射體的手性響應(yīng)如下圖所示：
它的直徑是一個波長的量級，它的介電常數(shù)固定為ε=4.5。在下面，我們將改變散射體的磁導(dǎo)率μ，并觀察預(yù)測的對偶對稱性[3]對于恒定比率ε/μ的散射體及其環(huán)境。周圍的材料是ε=μ=1的空氣。
由于散射體是無損的和各向同性的，在它的體積內(nèi)將沒有轉(zhuǎn)換。請參考四分之一波片的案例，以獲得更多關(guān)于體積轉(zhuǎn)換的信息。
在這里，所需的參量被計算為如上所述的電磁手性通量的通量積分。如下圖所示，對于接近對偶對稱的材料，轉(zhuǎn)換趨向于零。
在固定介電常數(shù)ε=4.5下，散射體的磁導(dǎo)率μ的變化。
該散射體是對偶的ε/μ=1，產(chǎn)生零手性轉(zhuǎn)換。
在JCMsuite中，所有手性密度都是相似的。例如，我們在下面的圖中展示了增強的近場光學(xué)手性密度的電子部分。這是一個后處理過程，即ExportFields：輸出參量電手性密度。
具有ε/μ=1的雙散射體的光手性密度X的近場增強
參考文獻
[1] Philipp Gutsche, Lisa V.
展開 JCMsuite應(yīng)用：散射體的光學(xué)手性響應(yīng)
在JCMsuite中，利用光學(xué)手性的形式和內(nèi)置的手性參量可以計算光散射體的手性響應(yīng)。結(jié)果表明，時間諧波光學(xué)手性密度服從局部連續(xù)性方程[1]。這使得手性行為的分析類似于研究電磁能量的標準消光實驗。
在電磁能量的情況下，消光由散射和損失[2]組成。對應(yīng)的手性參量是光學(xué)手性的消光散射，以及體積和界面上的手性轉(zhuǎn)換。這就得到了守恒定律
積分是在散射體的外表面?Ω和體積Θ以及表面?Θ上進行的。
這些參量在JCMsuite中命名，如下表所示。更多細節(jié)可以在這里找到。
作為案例展示，我們計算散射體的手性響應(yīng)如下圖所示：
它的直徑是一個波長的量級，它的介電常數(shù)固定為ε=4.5。在下面，我們將改變散射體的磁導(dǎo)率μ，并觀察預(yù)測的對偶對稱性[3]對于恒定比率ε/μ的散射體及其環(huán)境。周圍的材料是ε=μ=1的空氣。
由于散射體是無損的和各向同性的，在它的體積內(nèi)將沒有轉(zhuǎn)換。請參考四分之一波片的案例，以獲得更多關(guān)于體積轉(zhuǎn)換的信息。
在這里，所需的參量被計算為如上所述的電磁手性通量的通量積分。如下圖所示，對于接近對偶對稱的材料，轉(zhuǎn)換趨向于零。
在固定介電常數(shù)ε=4.5下，散射體的磁導(dǎo)率μ的變化。
該散射體是對偶的ε/μ=1，產(chǎn)生零手性轉(zhuǎn)換。
在JCMsuite中，所有手性密度都是相似的。例如，我們在下面的圖中展示了增強的近場光學(xué)手性密度的電子部分。這是一個后處理過程，即ExportFields：輸出參量電手性密度。
具有ε/μ=1的雙散射體的光手性密度X的近場增強
展開 光學(xué)相干斷層掃描的上皮散射自發(fā)熒光強度校正——一個模型的研究
光學(xué)相干斷層掃描（OCT）是可以獲得生物組織皮下圖像的一項相干技術(shù)，它可以提供小于10μm軸向分辨率和大約3mm穿透深度的圖像。OCT采用了非電離，通常是近紅外的輻射來捕獲組織形態(tài)的實時圖像。OCT可以用于研究高風(fēng)險的組織位置。因此，當用于組合時，以一種同時和協(xié)作的形式，AF-OCT成像可以提供豐富的生化信息，并定位組織形態(tài)，這些不能通過單獨的成像模式獲得。比如，在上皮組織增厚的情況下，OCT可以直接測量上皮組織厚度，并且將AF信號衰減歸因于上皮增厚，而不是癌癥前期引起的膠原重建。因此，由OCT給定結(jié)構(gòu)信息，并結(jié)合AF-OCT可以減少AF假陽性。
AF信號強度不僅取決于原位的熒光，也取決于不同組織層的光吸收和散射。組織的光散射已經(jīng)經(jīng)過了深入的研究1-6。模擬組織散射可以提供與AF信號強度有價值的信息。由于價格低廉、方便校準且易于獲得，英脫利匹特（Intralipid）是用于組織模型最常見的散射媒介。這項工作的目的是根據(jù)散射層的厚度模擬組織自發(fā)熒光的性質(zhì)。我們定義了一個AF信號校正因子，用來說明散射層引起的損耗。OCT圖像給出了散射層厚度和散射顆粒的濃度，這是校正因子計算所需的兩個因素。因此，我們提出了AF-OCT系統(tǒng)，作為癌癥檢測的一個更靈敏和精確的成像工具。
首先，我們解釋了Intralipid模型研究，旨在模擬不同上皮厚度的組織散射特性。然后，使用光線光學(xué)仿真來驗證實驗結(jié)果。使用AF和OCT數(shù)據(jù)計算AF校正因子將在最后一章解釋。
2.實驗步驟
我們建立了一個能夠結(jié)合OCT和AF成像的雙態(tài)成像系統(tǒng)，OCT圖像測量Intralipid膜的厚度和濃度，AF圖像給出相應(yīng)的AF信號強度。因此，AF-OCT成像可以映射不同濃度下AF強度和Intralipid厚度的關(guān)系。
展開 Ansys Zemax | 如何使用米氏散射模型模擬環(huán)境中的散射現(xiàn)象
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這篇文章描述了如何在 OpticStudio 中建立 DLL 米氏散射（Mie scattering）模型。下方鏈接的范例文件演示了如何以該模型進行散射的模擬。范例系統(tǒng)包含了兩個不同結(jié)構(gòu)。結(jié)構(gòu)1模擬了光線入射空氣中的水滴后，在散射時達到瑞利極限（Rayleigh limit）的現(xiàn)象。結(jié)構(gòu)2則模擬了光線在較大的粒子中發(fā)生散射時的情形，此時光學(xué)現(xiàn)象的討論由瑞利極限轉(zhuǎn)變?yōu)槊资?em>散射的范疇。
簡介
根據(jù)麥克斯韋方程式，光線入射球型粒子會產(chǎn)生散射的現(xiàn)象，而米氏散射理論為此提供了解析解。此理論可推廣至任意大小的粒子，因此可適用在所有"粒子半徑對入射波長比"的情況。這對于模擬白云中的散射現(xiàn)象1時很有幫助，同時也有助于解釋光線入射特定物質(zhì)，如牛奶和生物組織時所產(chǎn)生的變化。在 OpticStudio 的非序列模式中，我們可以用體散射（bulk scattering）的追跡方式建立這類的模型。此外，Bohren 和 Huffman 的研究為此現(xiàn)象的模擬提供了計算的依據(jù)。
這篇文章將說明模型在模擬系統(tǒng)中的表現(xiàn)，同時也會以一個大氣中的散射現(xiàn)象作為例子，此模擬將運用到米氏理論的 DLL 。
參數(shù)模擬
為了在非序列模式中的對象上套用米氏散射分布的設(shè)定，如下圖所示，我們需先開啟該物件的屬性字段（Object Properties），并在下方的 Volume Physics 項目中勾選 DLL 定義散射（DLL Defined Scattering），最后在 DLL 字段選擇 MIE.DLL。
為了使這個 DLL 正常運行，我們需要輸入5項參數(shù)。
折射系數(shù)
我們在這個字段設(shè)定散射粒子的折射系數(shù)（實數(shù)部分），而環(huán)境介質(zhì)的折射系數(shù)，則是在材質(zhì)（Material）欄位設(shè)定。
展開 GLAD：布里淵散射散斑現(xiàn)象聚焦幾何模擬
在聚焦幾何模擬布里淵散射中，散斑現(xiàn)象在相位共軛中起到重要作用。由于產(chǎn)生了相位共軛現(xiàn)象，光強分布必須是不同的。本例中該現(xiàn)象發(fā)生在距離焦點3cm的直徑為1cm的光闌處，焦距為100cm，頻率為每個光闌處8個周期。
結(jié)果
如下各圖比較兩種線性、正弦相位像差在焦點附近的遠場模式：
Ansys Zemax | 如何通過 K-相關(guān)分布模擬表面散射
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本文旨在介紹如何在OpticStudio中模擬K-相關(guān)分布散射模型，并用實例分析將該模型與Harvey-Shack (ABg) 散射分布模型進行了比較。
簡介
表面微粗糙度引起的散射通常具有 K-相關(guān)模型 (K-correlation model) 的特征。該模型除了在小散射角區(qū)域有所不同外，與 Harvey-Shack (ABg) 模型十分相似。
在 OpticStudio 中，如果用戶想要使用K-相關(guān)散射模型對表面散射分布進行建模，則需要輸入大量的參數(shù)，并且這些參數(shù)都必須由用戶測量。
本文將概述 K-相關(guān)散射模型背后的理論知識，并展示在OpticStudio中建模的實例。
K- 相關(guān)散射模型
K- 相關(guān)模型的雙向散射分布函數(shù) (BSDF) 由 Dittman2 提供：
其中s是有效的 RMS 表面粗糙度，s 是在高空間頻率中 BSDF 的 log-log 斜率，β 則被定義為散射角 (?s) 的正弦減去鏡面反射角/透射角的正弦，上面的公式中的 β對應(yīng) OpticStudio 中的向量x：
我們發(fā)現(xiàn) K-相關(guān)散射分布模型與 Harvey-Shack (ABg) 散射模型非常相似。它們之間的主要區(qū)別在于 K-相關(guān)模型在小散射角度時會有偏移：
圖1：K-相關(guān)與 Harvey-Shack 散射模型的比較。如 Dittman 所述，K-相關(guān)模型在小角度處會有偏移，這與在拋光表面上觀察到的散射行為一致。
Dittman 指出這種偏移與在許多拋光表面上觀察到的散射行為是一致的。
K-相關(guān)模型的 BSDF 不能進行解析積分，但在 OpticStudio 中可以運用蒙特卡羅功能來實現(xiàn)這種散射分布的模擬。
展開 Ansys Zemax | 如何模擬部分反射和散射的表面
這篇文章介紹了如何模擬一個部分反射的表面，該表面會根據(jù)指定的散射分布對一部分入射光能量進行散射。本文介紹的示例包含部分吸收以及部分鏡面反射的情況。(聯(lián)系我們獲取文章附件)
介紹
使用 OpticStudio 非序列模式模擬散射和膜層的能力，我們可以模擬一個部分反射（或部分透射）的表面，該表面會根據(jù)指定的分布散射入射光能量的一部分。
假設(shè)我們需要模擬一個表面為部分反射（60%反射）的矩形體 (Rectangle Volume) 物體，并且其中80%的反射光會根據(jù)朗伯 (Lambertian) 分布發(fā)生散射。剩下的20%將發(fā)生鏡面反射。通過使用三個非序列物體，本文的示例可以闡述了如何使用朗伯散射和理想膜層來產(chǎn)生所需的效果。
我們無需從零開始建立模型，請打開附件中的示例文件。在該文件中，一個單光線光源 (Source Ray) 物體發(fā)出的光線入射到矩形體的表面，其中矩形體的材料類型為MIRROR。從光源發(fā)出的光線完美的返回到光源并被探測器平面接收。在當前系統(tǒng)中，矩形體的表面沒有定義任何膜層或散射屬性。
通過不考慮偏振的蒙特卡洛光線追跡，單根光線照明了探測器最中間的像素并且該像素接收到的功率為1W。
建立理想膜層
OpticStudio 可以模擬任何類型的薄膜膜層，其中包括多層電介質(zhì)膜層和金屬膜層等。然而在本文中，我們將只討論如何在 OpticStudio 中建立和應(yīng)用簡單的理想膜層。
和 OpticStudio 中的其他膜層相同，理想膜層是通過在膜層文件中定義材料、漸厚層以及膜層等部分的數(shù)據(jù)來進行定義的。對于一個理想膜層，其定義語法為：
IDEAL
理想膜層只需要定義強度的透射系數(shù)和反射系數(shù)，并且該系數(shù)與波長和入射角無關(guān)。
展開 GLAD：布里淵散射散斑現(xiàn)象聚焦幾何模擬
在聚焦幾何模擬布里淵散射中，散斑現(xiàn)象在相位共軛中起到重要作用。由于產(chǎn)生了相位共軛現(xiàn)象，光強分布必須是不同的。本例中該現(xiàn)象發(fā)生在距離焦點3cm的直徑為1cm的光闌處，焦距為100cm，頻率為每個光闌處8個周期。
概述
GLAD：布里淵散射散斑現(xiàn)象聚焦幾何模擬
在聚焦幾何模擬布里淵散射中，散斑現(xiàn)象在相位共軛中起到重要作用。由于產(chǎn)生了相位共軛現(xiàn)象，光強分布必須是不同的。本例中該現(xiàn)象發(fā)生在距離焦點3cm的直徑為1cm的光闌處，焦距為100cm，頻率為每個光闌處8個周期。
結(jié)果
如下各圖比較兩種線性、正弦相位像差在焦點附近的遠場模式：
