多層膜仿真
關(guān)注創(chuàng)建者：匿名 創(chuàng)建時(shí)間：2026-01-04
多層膜仿真的視頻教程
polyflow多層復(fù)合膜及其計(jì)算機(jī)理研究
復(fù)合膜在擠出中占有很大一部分應(yīng)用，本課程主要針對(duì)簡(jiǎn)單復(fù)合膜（雙層）做一些擠出運(yùn)用研究
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Marc 2018 焊接有限元仿真教學(xué)（三）：多層多道焊【生死單元】
新人朋友可以通過觀看該視頻快速上手 主要教給大家操作流程和操作方法，大家可以根據(jù)視頻所講，結(jié)合自己實(shí)際情況舉一反三 充分發(fā)揮主觀能動(dòng)性，進(jìn)而進(jìn)行論文寫作、實(shí)驗(yàn)報(bào)告所需的焊接仿真
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多層膜仿真的實(shí)例教程
Ansys Lumerical是業(yè)界領(lǐng)先的光子學(xué)仿真工具，其擁有完整的光子學(xué)仿真解決方案，支持全套光子 學(xué)器件級(jí)和系統(tǒng)級(jí)仿真。 器件和系統(tǒng)級(jí)工具無縫協(xié)作，讓設(shè)計(jì)人員能夠?qū)ο嗷プ饔玫墓鈱W(xué)、 電氣和熱效應(yīng)進(jìn)行建模仿真。
產(chǎn)品之間靈活的互操作性支持將多物理場(chǎng)仿真和光子電路仿真與第三方EDA 工具相結(jié)合的各種工作流程， 以幫助優(yōu)化產(chǎn)品性能、 大限度地降低物理原型制作成本并縮短產(chǎn)品上市時(shí)間。
STACK是分析多層膜的最佳仿真工具，和求解麥克斯韋方程相比能迅速仿真如抗反射膜、OLED、VCSEL等組件的光學(xué)特性。能精準(zhǔn)描述多層膜的波動(dòng)光學(xué)特性，如干涉以及微腔效應(yīng)，并支持平面波和偶極子光源。STACK支持腳本運(yùn)算，通過API能和Python或Matlab互操作。
規(guī)格概要
· 支持平面波和偶極子
· 支持大面積多層膜設(shè)計(jì)
· 考慮微腔和干涉效應(yīng)
STACK的主要應(yīng)用
· OLED
· VCSEL
· 抗反射膜
．微腔
· 多層薄膜
主要特點(diǎn)
STACK分析求解器
STACK求解器比直接仿真Maxwell方程的速度更快。它適用千薄膜應(yīng)用的快速原型設(shè)計(jì)，并且可使用平面波和偶極 子光源照明。求解器考慮干涉和微腔效應(yīng)。
通過腳本進(jìn)行互操作
通過Lumerical腳本語言、自動(dòng)化API以及Python和 MATLABAPI實(shí)現(xiàn)互操作性。
展開 目前一種被證明可用于制備抗輻照金屬材料的策略是制備金屬多層膜，因?yàn)檫@會(huì)產(chǎn)生高密度的界面，而界面可以吸收材料缺陷，導(dǎo)致輻照損傷的恢復(fù)和復(fù)合。此外，這些界面還可以通過設(shè)計(jì)提高材料的強(qiáng)度、韌性和抗氧化性，從而對(duì)材料性能發(fā)揮重要作用。
現(xiàn)在，威斯康星大學(xué)麥迪遜分校的科學(xué)家們將類似的策略應(yīng)用于一類基于 MAX 相材料、SiC和TiC的抗輻照陶瓷多層膜材料，他們仔細(xì)研究了這種多層陶瓷在各個(gè)界面上發(fā)生的過程，借此提出了增強(qiáng)該材料輻照穩(wěn)定性的方法。這項(xiàng)工作為創(chuàng)造新型層狀陶瓷打開了大門，這類陶瓷多層膜材料可用作核反應(yīng)堆的結(jié)構(gòu)和涂層材料等強(qiáng)輻照環(huán)境之中。該研究以Enhancing the phase stability of ceramics under radiation via multilayer engineering為題發(fā)表在2021年6月的《Science Advances》雜志上。
論文鏈接：
http://advances.sciencemag.org/content/7/26/eabg7678
“陶瓷通常具有良好的耐腐蝕性和高溫穩(wěn)定性，因此它們?cè)诤藨?yīng)用中可以發(fā)揮特殊作用，”威斯康星大學(xué)麥迪遜分校材料科學(xué)與工程教授 Izabela Szlufarska 說。“多層膜的方法在金屬系統(tǒng)中是成功的。但是陶瓷的行為與金屬截然不同。問題之一是界面是否對(duì)陶瓷有益，因?yàn)檫@些材料中的缺陷行為更為復(fù)雜。此外，陶瓷通常由彼此截然不同的元素組成，這些元素中的每一個(gè)都可能與界面發(fā)生不同的相互作用，從而導(dǎo)致對(duì)輻照的復(fù)雜反應(yīng)。”
展開 【成果簡(jiǎn)介】
西安交通大學(xué)賈春林和美國(guó)阿肯色大學(xué)Laurent Bellaiche等人報(bào)道了PTO/STO外延多層膜中電偶極子獨(dú)特構(gòu)型的拓?fù)淙毕荨Ｋ麄兺ㄟ^定量高分辨率掃描透射電子顯微學(xué)技術(shù)，基于原子分辨率高角度環(huán)形暗場(chǎng)（HAADF）圖像確定了原子位置，從而在多層PbTiO3/SrTiO3膜的PbTiO3層中揭示了納米電拓?fù)淙毕莸男路f結(jié)構(gòu)，包括電偶極子波，偶極子向錯(cuò)和其他電拓?fù)淙毕荨＿@些拓?fù)淙毕萁Y(jié)構(gòu)也通過原子尺度數(shù)值模擬來重現(xiàn)，證實(shí)并解釋了這些電拓?fù)淙毕莸拇嬖诤托再|(zhì)。該研究發(fā)表于Physical Review Letters，題為“Topological Defects with Distinct Dipole Configurations in PbTiO3/SrTiO3 Multilayer Films”，第一作者為西安交通大學(xué)路璐。
【圖文導(dǎo)讀】
圖1.HAADF圖像與晶胞偶極子的矢量圖
（a）STO基底上超晶格膜的[100] HAADF圖像。插圖顯示了界面的放大部分和原子細(xì)節(jié)。
（b）由（a）中顯示的圖像確定的晶胞偶極子的矢量圖，揭示了具有明顯模量值的偶極子出現(xiàn)在PTO層（黃色區(qū)域）中。藍(lán)色半圓表示偶極子的相似排列構(gòu)型。紅色框標(biāo)記具有特殊偶極子排列構(gòu)型的位置，這些構(gòu)型被放大并示于圖2和圖3中。
圖2. A/B局域放大圖與數(shù)值模擬
（a）圖1（b）中A部分的放大圖，示出了具有雙曲線形狀（粉紅-綠色區(qū)域）的極化域和具有特征為外流漩渦（紅色彎曲箭頭）的偶極子渦流。紅色的橢圓表示一個(gè)閉合小渦流，其中面內(nèi)偶極矩相對(duì)較小。（b）圖1（b）中B部分的放大圖，展示出PTO膜層中的偶極子波的細(xì)節(jié)。藍(lán)色的小圓圈表示與偶極子波相關(guān)的氣泡。（c）PTO薄膜在-0.6％壓縮應(yīng)變下，數(shù)值模擬平衡偶極子波顯示出與（b）中實(shí)驗(yàn)觀察的一致性。
圖3.
展開 1問題引出
在工程應(yīng)用中，建筑材料多是以單層單一框架復(fù)合的多層多框架結(jié)構(gòu)，因此僅僅針對(duì)單一框架進(jìn)行受力分析并不能得到與實(shí)際情況相匹配的結(jié)果，那么針對(duì)多層多框架結(jié)果的受力分析就顯得尤為必要。
2問題描述
文中主要模擬在水平載荷作用下多層多框架結(jié)構(gòu)的受力狀況，具體框架尺寸如圖1所示，圖中A點(diǎn)為水平載荷受力點(diǎn)，框架使用的材料為鋼鐵材質(zhì)，材料參數(shù)特性如表1所示。
圖1 框架模型及相關(guān)尺寸
表1鋼鐵材料相關(guān)特性
彈性模量E
泊松比μ
屈服強(qiáng)度fy
2.1e11N/m2
0.3
3.45e8N/m2
3仿真平臺(tái)
本文所有仿真試驗(yàn)均在Abaqus有限元軟件上進(jìn)行，仿真基于艮泰計(jì)算機(jī)系統(tǒng)，cpu48核，memory128G；后續(xù)的后處理數(shù)據(jù)通過Origin完成。
4有限元建模
與ansys不同，abaqus進(jìn)行結(jié)構(gòu)力學(xué)仿真基于模塊化操作，因此用戶體驗(yàn)更加友好，遵循有限元分析的流程：前處理、求解、后處理，具體在abaqus中來看，主要的操作步驟有：在abaqus/module中創(chuàng)建part，按照?qǐng)D一說給尺寸繪制草圖，這一點(diǎn)類似于在ansys/DM中的sktech草圖繪制操作，這里一定要注意在定義部件的時(shí)候，使用類型將默認(rèn)的solid更改為wire，不然系統(tǒng)會(huì)提示出錯(cuò)。生成的幾何模型如圖2所示。創(chuàng)建模型之后進(jìn)行材料創(chuàng)建及截面屬性賦予，除去鋼鐵材料屬性輸入表1中的基本材料參數(shù)，對(duì)于梁結(jié)構(gòu)參數(shù)需要額外定義如圖3所示。最后還應(yīng)當(dāng)注意在使用梁截面形狀創(chuàng)建梁截面特性時(shí)，必須指定梁截面方向如圖4所示。
展開 膜式空氣彈簧的仿真模型 ￥70
空氣彈簧主要定義的幾個(gè)地方
1、空腔定義與氣體壓力
2、簾線層，簾線材料一般數(shù)據(jù)能難獲得，而且對(duì)收斂影響較大
3、充氣與壓縮過程
4、空氣彈簧剛度曲線
5、空腔體積變化與壓力變化
多層膜仿真的相關(guān)專題、標(biāo)簽、搜索
多層膜仿真的最新內(nèi)容
堆棧層及層信息
1. 堆棧結(jié)構(gòu)
TechWiz Polar根據(jù)各層的相位延遲對(duì)偏振狀態(tài)進(jìn)行優(yōu)化設(shè)計(jì)和分析。從需要了解偏振光的用戶到顯示行業(yè)的專業(yè)人士，使用這款軟件都能有很大的幫助
TechWiz Polar是TechWiz LCD 1D的一個(gè)可選模塊
TechWiz Polar是TechWiz LCD 1D的一個(gè)可選模塊
TechWiz Polar根據(jù)各層的相位延遲對(duì)偏振狀態(tài)進(jìn)行優(yōu)化設(shè)計(jì)和分析。從需要了解偏振光的用戶到顯示行業(yè)的專業(yè)人士，使用這款軟件都能有很大的幫助
1. 堆棧結(jié)構(gòu)
堆棧層及層信息
2. 創(chuàng)建材料
在TechWiz DB中創(chuàng)建1/4波片
3. 結(jié)構(gòu)創(chuàng)建
1.1創(chuàng)建一個(gè)新的項(xiàng)目文件
Mura是什么？簡(jiǎn)單來說mura是指顯示器亮度不均勻，造成各種痕跡的現(xiàn)象。Mura產(chǎn)生的主要原因就是視覺上對(duì)于感受到的光源有不同的頻率響應(yīng)而感受到顏色的差異。造成mura現(xiàn)象的原因有很多種，本案例使用TechWiz LCD 1D仿真一種彩虹紋，在常規(guī)四疇VA結(jié)構(gòu)下加入高延遲膜后，模擬其彩虹mura的現(xiàn)象。
1. 建模任務(wù)
1.1堆棧結(jié)構(gòu)
2. 建模過程
2.1創(chuàng)建材料
最簡(jiǎn)單的減反射膜結(jié)構(gòu)是單層減反射膜，其主要是針對(duì)特定波長(zhǎng)的減反射，主要原理是光波的干涉相消/相長(zhǎng)。對(duì)于單層減反射膜來說，理想厚度為1/4入射光波長(zhǎng)。在本例中，假設(shè)了一個(gè)折射率為1.5的基板，并且空氣折射率為1
1. 建模任務(wù)
1.1基本結(jié)構(gòu)
2. 建模過程
2.1創(chuàng)建材料（TechWiz DB）
2.2創(chuàng)建堆棧結(jié)構(gòu)（TechWiz LCD 1D）
3.查看結(jié)果
JCMsuite案例展示：衰減相移掩膜的仿真分析9個(gè)月前
在本示例中，模擬了衰減相移掩模。 該掩模將線/空間圖案成像到光刻膠中。掩模的單元格如下圖所示：
掩模的基板被具有兩個(gè)開口的吸收材料所覆蓋。在其中一個(gè)開口的下方，位于相移區(qū)域。
掩模的布局是由一個(gè)描述襯底吸收層和上層的多層膜組成的。兩個(gè)平行四邊形用于定義包括移相器的開口。
掩模是在正入射的S和P偏振情況下模擬的。對(duì)于入射方向的定義，使用光瞳面的典型西格瑪坐標(biāo):
由于這個(gè)例子是所謂的一維掩模
使用VirtualLab Fusion仿真多層雙折射反射偏振器9個(gè)月前
摘要
多層雙折射反射偏光片在液晶顯示器 (LCD) 應(yīng)用中具有很大優(yōu)勢(shì)。 他們可以回收背光來提高 LCD 的光學(xué)效率。 在此用例中，我們重現(xiàn)了文獻(xiàn)Li et. al. J. Display T echnol. 5, 335-340 (2009) 中的實(shí)驗(yàn)，探討了 VirtualLab Fusion 中交替雙折射層的數(shù)量與布拉格反射條件之間的關(guān)系，并進(jìn)一步研究了反射效率隨不同波長(zhǎng)和入射角的變化
使用VirtualLab Fusion仿真多層雙折射反射偏振器9個(gè)月前
摘要
多層雙折射反射偏光片在液晶顯示器 (LCD) 應(yīng)用中具有很大優(yōu)勢(shì)。他們可以回收背光來提高 LCD 的光學(xué)效率。在此用例中，我們重現(xiàn)了文獻(xiàn)Li et. al. J. Display T echnol. 5, 335-340 (2009) 中的實(shí)驗(yàn)，探討了 VirtualLab Fusion 中交替雙折射層的數(shù)量與布拉格反射條件之間的關(guān)系，并進(jìn)一步研究了反射效率隨不同波長(zhǎng)和入射角的變化。
TechWiz Polar是TechWiz LCD 1D的一個(gè)可選模塊。
TechWiz Polar根據(jù)各層的相位延遲對(duì)偏振狀態(tài)進(jìn)行優(yōu)化設(shè)計(jì)和分析。從需要了解偏振光的用戶到顯示行業(yè)的專業(yè)人士，使用這款軟件都能有很大的幫助。
1. 堆棧結(jié)構(gòu)
堆棧層及層信息
2. 創(chuàng)建材料
在TechWiz DB中創(chuàng)建1/4波片
3. 結(jié)構(gòu)創(chuàng)建
1.1創(chuàng)建一個(gè)新的項(xiàng)目文件
Mura是什么？簡(jiǎn)單來說mura是指顯示器亮度不均勻，造成各種痕跡的現(xiàn)象。Mura產(chǎn)生的主要原因就是視覺上對(duì)于感受到的光源有不同的頻率響應(yīng)而感受到顏色的差異。造成mura現(xiàn)象的原因有很多種，本案例仿真一種彩虹紋，在常規(guī)四疇VA結(jié)構(gòu)下加入高延遲膜后，模擬其彩虹mura的現(xiàn)象。
1.建模任務(wù)
1.1堆棧結(jié)構(gòu)
2.建模過程
2.1創(chuàng)建材料
2.2創(chuàng)建堆棧結(jié)構(gòu)
JCMsuite案例展示
衰減相移掩膜的仿真分析
在本示例中，模擬了衰減相移掩模。 該掩模將線/空間圖案成像到光刻膠中。 掩模的單元格如下圖所示：
掩模的基板被具有兩個(gè)開口的吸收材料所覆蓋。在其中一個(gè)開口的下方，位于相移區(qū)域。
掩模的布局是由一個(gè)描述襯底吸收層和上層的多層膜組成的。兩個(gè)平行四邊形用于定義包括移相器的開口。
掩模是在正入射的S
