在本示例中，模擬了衰減相移掩模。 該掩模將線/空間圖案成像到光刻膠中。掩模的單元格如下圖所示：

掩模的基板被具有兩個開口的吸收材料所覆蓋。在其中一個開口的下方，位于相移區域。

掩模的布局是由一個描述襯底吸收層和上層的多層膜組成的。兩個平行四邊形用于定義包括移相器的開口。

掩模是在正入射的S和P偏振情況下模擬的。對于入射方向的定義，使用光瞳面的典型西格瑪坐標:

由于這個例子是所謂的一維掩模(線/空間模式)，在xy平面中有一個2D仿真域。在源文件中設置3DTo2D = yes標簽，以執行用戶自定義傳入方向的自動轉換。啟用此標記后，就可以描述傳入區域，就好像光軸與Z軸重合一樣。這允許統一設置2D和3D的掩模模擬項目。由于光線從基板下方進入，光線的傳輸方向為+Z方向。

相位分布如下圖所示:

相移區域的影響清晰可見，導致開口上方光束的180度相位差。同時光場的S和P分量也顯示出相位差:

在項目文件中，設置傅里葉變換后處理，得到掩模的透射衍射階數: