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關注創建者:王靖雯 創建時間:2023-03-08


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4.3 光柵材料與UV映射配置
自定義光學材料:分別創建輸入、輸出耦合光柵專用材料,綁定光柵插件文件與參數文件,配置紋理貼圖基礎參數;
UV映射定向:新建UV映射坐標系,精準匹配光柵排布方向,確保衍射光路傳播角度符合設計值;
漸變效率優化:在輸出耦合面添加漸變蒙版紋理,通過梯度亮度調節,提升AR HUD全屏成像亮度均勻性;
圖4:波導光柵屬性配置界面
4.4
運行仿真并查看結果。大圓柱體垂直運動的歷史曲線圖如圖 6 所示。在 0 到 1 秒期間,圓柱體因重力向下移動,隨后因小圓柱體的運動向上移動約 0.0075 毫米,與預測值一致。作用在小圓柱體上的力如圖 7 所示。24.5 × 402.6 ≈ 9800 牛頓。總之,要舉升 9800 牛頓的重物,僅需 24.5 牛頓的輸入力。
第五步:結果后處理(提取反力)
計算完成后,我們需要提取端面的總反力
查看變形:
插入 Deformation -> Directional,驗證彈簧頂端的Z 向位移確實是 20mm。
提取力值(關鍵):
右鍵 Solution -> Insert -> Probe -> Force Reaction。
2.線程與核心
在給定核心數量的情況下,我們可以調整線程數和進程數,以查看是否能提升性能。本例中使用機器上的所有核心數(28),但您可以選擇任意數量的核心數進行測試,只需確保線程數和進程數之和等于該固定值即可。使用附件中的基準測試文件,運行腳本FDTD_bench_thread.lsf,即可得到以下結果。
在這種情況下,使用28個進程和1個線程可以達到極高的求解速度。
該工作流程利用Ansys Lumerical MODE中的EME(特征模擴展)求解器進行光學仿真,利用Ansys Lumerical CML Compiler生成緊湊模型,并利用Ansys Lumerical INTERCONNECT進行光子電路設計和仿真。
此工作流程僅使用Synopsys產品即可提供一套內部解決方案,以應對光子集成電路設計中的復雜挑戰。
圖 4:總變形和應力云圖
總結
本示例展示了無人機葉片在壓力載荷下產生的變形和應力,可以將其與材料的許用值進行校核,以判斷葉片是否能承受該載荷。
【點擊下方查看案例視頻】
工具鏈:CAxWorks.PreSys 2026R1(前處理 + 后處理) + Ansys Mechanical(求解器)
操作工程師:李工,CAE仿真工程師,3年工作經驗
本文記錄李工使用PreSys完成從CAD模型導入、幾何清理、網格劃分、材料屬性定義、邊界條件設置、Ansys求解器提交,到結果后處理與報告生成的全過程。
工程師和設計人員可通過使用光學仿真工具(如Ansys Zemax OpticStudio和Ansys Speos)對系統的光學性能進行仿真,并基于人眼視覺評估最終的照明效果,從而獲得巨大優勢。
在Ansys Workbench中,用戶可以方便的查看應力結果云圖,從而大體評估出危險疲勞區域。并且用戶可以通過選取高應力區域的單元體,再通過特征尺寸一般計算公式,來估計高應力區域的特征尺寸,進行進行合理的FKM疲勞評估。
但是,Ansys Workbench中,當用戶選中了某個/某些體單元后,在選擇信息欄中并不能直接給出單元體積和表面的有效信息輸出。
Ansys工具具有皮米級分辨率,因此這些仿真工具不僅可用于MEMS,而且還可用于其相對應的更小納米技術產品,即納米機電系統(NEMS)。NEMS仿真,其實就像把設計放大到更小的尺度,而皮米分辨率則可提供這種功能。
對于MEMS性能設計和仿真,可使用Ansys Discovery和Ansys Mechanical軟件。