4.3 光柵材料與UV映射配置 自定義光學材料：分別創建輸入、輸出耦合光柵專用材料，綁定光柵插件文件與參數文件，配置紋理貼圖基礎參數； UV映射定向：新建UV映射坐標系，精準匹配光柵排布方向，確保衍射光路傳播角度符合設計值； 漸變效率優化：在輸出耦合面添加漸變蒙版紋理，通過梯度亮度調節，提升AR HUD全屏成像亮度均勻性； 圖4：波導光柵屬性配置界面 4.4

主要特性： 檢索任意節點或單元選擇的內部或外部載荷 通過坐標系、節點選擇方法和顯示模式（例如節點求和、角點結果或整體匯總）自定義計算 使用清晰、井然有序的表格和圖將力和力矩可視化 示例：使用Freebodies功能對作用于船舶結構特定組件上的力進行分析，確保關鍵連接在各種載荷條件下的完整性。

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多格式導出： 生成的模型支持導出為坐標數據、拓撲連接信息等，方便后續導入 ABAQUS、ANSYS 或自編的有限元/晶體塑性（CPFEM）程序中。 【操作流程：三步搞定】 第一步：設定全局參數。 在左側面板選擇晶粒總數及 RVE 尺寸。 第二步：精修幾何特征。 調整權重系數（Weights）和偏度，生成不規則或特定分布的晶粒形狀。 第三步：導出與應用。

這會影響堆棧的內部坐標系，需要在定義高度輪廓時加以考慮。 基底的處理、菲涅耳損耗和衍射角 ?作為一種慣例，往往忽略基底的影響，例如衍射效率的計算。 ?然而，任何實際的光柵結構必須建立在基底上，因此，我們使用一個平面元件和中間的自由空間延伸對其進行建模。 ?平面的建模包括菲涅耳效應(S矩陣求解器)。

附件下載 聯系工作人員獲取附件 表面的干涉儀數據包含不規則度的相關信息，包括旋轉對稱不規則性 (RSI)、用于確定中空間頻率的斜率誤差以及其他表面形狀制造誤差。這些制造誤差取決于在球面或非球面上進行的拋光類型，可以是傳統的瀝青拋光、高速拋光以及磁流變拋光 (MRF)。

默認情況下，電磁場量附加組件是預設置的，不能被刪除。它可以輸出x-域和/或k-域中的任何場信息。請注意，只能輸出場分量，并在“場量”選項卡中選擇（但不需要輸出所有分量）。此外，同時支持輸出振幅或波前相位，以及顯示選項。

乍一看，這看起來像是我們需要做的一切，但是當仔細查看Global Vertex報告時，很明顯有些地方不對勁。 x-tilt引入了0.68 mm的y偏角。這是因為第二個坐標斷裂是沿著新的 x 傾斜坐標系的 z 的一定距離實現的。為了引入不偏心的純傾斜，兩個 CB 表面之間必須有零 z 偏移。

最后，點擊“選擇數據”按鈕，開始沿著極坐標曲線中選擇點。注意到在對話框的頂端，數字化工具列出了極坐標系中正被選擇的這些點的信息。 一旦我們在極坐標圖中選擇好了這些點，點擊“導出數據”，就會將數字化的點送回到光線方向對話框中。 步驟4：驗證強度分布 既然數據已經從極坐標圖中導出，那就有必要驗證坐標系統的設置是否正確。在本例中，極軸沿著Z方向，方位角軸沿著X方向。

當使用 CB 表面引入傾斜時，OpticStudio 通過傾斜局部坐標系來實現，這不僅會傾斜像面，還會導致接收光纖模式的傾斜。默認情況下，接收光纖與局部 Z 軸對齊。但是使用 Tilted Image 表面只會傾斜像面本身，而不會影響局部坐標方向，這使得接收光纖模式不傾斜。 在以下部分中，我們將介紹三種在 OpticStudio 中正確設置的方法。