ansys 表面切分的案例
Ansys Zemax光學(xué)設(shè)計(jì)軟件技術(shù)教程：?jiǎn)螕?em>表面類型會(huì)自動(dòng)打開(kāi)表面屬性怎么辦？
單擊表面類型會(huì)自動(dòng)打開(kāi)表面屬性，突然這樣了，不知道如何設(shè)置回來(lái)。根據(jù)描述的情況，該問(wèn)題已經(jīng)作為bug記錄在我司系統(tǒng)內(nèi)。具體有以下幾種方式可能可以幫助到您：1.最簡(jiǎn)單的情況是重啟電腦可以解決問(wèn)題。2.如果重啟電腦無(wú)效，可以使用 Express View 解決問(wèn)題：3.將 OpticStudio 進(jìn)行重裝4.前往Windows系統(tǒng)中的 TEMP file 文件夾，將內(nèi)部文件清空，詳情可以參考：https://helpx.adobe.com/x-productkb/global/delete-temporary-files-using-disk.html
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展開(kāi) Ansys Zemax | 如何使用瓊斯矩陣表面
在序列模式下，該模型表示為“瓊斯矩陣”表面；在非序列模式下該模型表示為“瓊斯矩陣”物體。“瓊斯矩陣”根據(jù)下式描述瓊斯向量（表示電場(chǎng)）：
其中A, B, C, D均為復(fù)數(shù)。您可以在透鏡數(shù)據(jù)編輯器或非序列元件編輯器中分別輸入這些復(fù)參數(shù)的實(shí)部和虛部。
需要特別注意的是，瓊斯矩陣沒(méi)有定義Ez分量。這意味著使用瓊斯矩陣表面或物體的前提假設(shè)是入射光線需垂直于瓊斯矩陣表面，例如將瓊斯矩陣表面放置在平行光束中。該假設(shè)也與大部分實(shí)際應(yīng)用環(huán)境相符：多數(shù)起偏器或波片都是在平行光或發(fā)散角較小的光束中使用的。
如果一束平行光垂直入射至瓊斯矩陣表面，則由于k·E = 0 并且向量k可表示為{0, 0, 1} 因此Ez必須為零，這樣我們就可以只用Ex和Ey分量來(lái)描述偏振。如果入射光的方向向量為其他任意值 {l, m, n}，則OpticStudio將自動(dòng)調(diào)整Ez或{Ex, Ey}以使k·E = 0且E的大小不會(huì)增加。這個(gè)調(diào)整有可能導(dǎo)致E的大小降低，進(jìn)而導(dǎo)致透過(guò)能量的降低。
下表為一些典型偏振器件的瓊斯矩陣參數(shù)，該表格取自用戶手冊(cè)“The Setup Tab”一章:
使用實(shí)例
接下來(lái)是使用瓊斯矩陣模擬四分之一波片的實(shí)例。請(qǐng)聯(lián)系工作人員獲取附件。
需要注意的是：瓊斯矩陣表面不使用曲率半徑這一參數(shù)，該表面類型總是一個(gè)平面。這是因?yàn)樵擃愋?em>表面通常都是在垂直入射的平行光中使用。矩陣的每個(gè)參數(shù)可以在透鏡數(shù)據(jù)編輯器中的參數(shù)欄中輸入。
展開(kāi) Ansys Lumerical | 用于增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)系統(tǒng)的表面浮雕光柵
但是，可以通過(guò)Ansys optiSLang使用更高級(jí)的優(yōu)化技術(shù)，也可以通過(guò)Lumerical Python API使用Python 庫(kù)。用戶還可以通過(guò)腳本使用內(nèi)置實(shí)用程序定義不同的優(yōu)化方法。參數(shù)空間的初始探索也可以使用參數(shù)掃描工具執(zhí)行。
相關(guān)出版物
[1]Jonathan S. Maikisch 和 Thomas K. Gaylord，“最佳平行面傾斜表面浮雕光柵”，Appl. Opt. 46， 3674-3681 （2007）
武漢宇熠科技是 ANSYS 全線產(chǎn)品中國(guó)區(qū)官方指定代理商，提供 Ansys Zemax、Ansys Lumerical、Ansys Speos 等軟件產(chǎn)品的培訓(xùn)、銷售、技術(shù)支持、二次開(kāi)發(fā)、解決方案及這些軟件相關(guān)全方位定制服務(wù)。
展開(kāi) ANSYS知識(shí)普及4——如何施加函數(shù)變化的表面載荷 （ANSYS專家編輯，非原創(chuàng)，歡迎轉(zhuǎn)摘）
本人準(zhǔn)備出一個(gè)ANSYS知識(shí)普及系列，將有用的網(wǎng)上資料歸攏，由于知識(shí)水平有限，不對(duì)之處請(qǐng)諒解。也歡迎各位網(wǎng)友提供好的資料分享，讓我們共同完成這個(gè)ANSYS知識(shí)普及系列。
編輯人：技術(shù)鄰ANSYS專家
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ANSYS具有函數(shù)加載功能，可以很方便地在模型表面施加函數(shù)變化的各種載荷，在ANSYS中，也可以通過(guò)變通的方式來(lái)實(shí)現(xiàn)此功能，其思路是：
首先選定所要施加函數(shù)變化表面載荷的表面上的節(jié)點(diǎn)，利用ANSYS的參數(shù)數(shù)組和嵌入函數(shù)知識(shí)寫(xiě)一簡(jiǎn)單的命令流，定義好相應(yīng)節(jié)點(diǎn)位置的面載荷值，然后通過(guò)在節(jié)點(diǎn)上施加面載荷來(lái)完成。
下面以在一圓柱表面施加函數(shù)變化載荷為例：
/prep7
et,1,45
cyl4,,,0.5,,,,3
vsweep,all
asel,s,loc,y,0.01,1
nsla
!
*get,nmax,node,,num,max,
*get,nmin,node,,num,min,
*afun,deg
*dim,t1,array,nmax,1,1,
csys,1
*do,k,nmin,nmax
*if,nsel(k),eq,1,then
t1(k)=1000*sin(ny(k))
*else
t1(k)=0
*endif
*enddo
!
sffun,pres,t1(1)
sf,all,pres,0
展開(kāi) 
Ansys Zemax | 表面不規(guī)則度的公差分析
Zernike多項(xiàng)式次數(shù)可以控制表面波峰和波谷（凹凸）的頻率。
這是很重要的一點(diǎn)：當(dāng)我們把表面平滑度從 λ/5 減小到 λ/10 、λ/20、 λ/50時(shí)，RMS表面偏差減小了，但是表面“凹凸”頻率增大了。也就是說(shuō)當(dāng)表面平滑度為λ/5，其表面不規(guī)則度的空間頻率小，當(dāng)表面平滑度為λ/50時(shí)，其表面不規(guī)則度的空間頻率大。
表面的光學(xué)性能不僅僅取決于RMS幅值還取決于表面不規(guī)則度的空間頻率。我們可以舉例說(shuō)明這一點(diǎn)，我們可以舉一個(gè)簡(jiǎn)單的例子。
系統(tǒng)中表面2在Y方向上有一個(gè)周期性的結(jié)構(gòu)。在保持振幅不變的情況下，當(dāng)周期結(jié)構(gòu)的頻率增加時(shí)，從3D Layout圖中就可以看到兩者的差異。
當(dāng)然，OpticStudio 中也可以使用公差操作數(shù)TEXI指定PTV（Peak to Valley）公差，兩種使用方法類似，但目前我們推薦使用TEZI指定RMS公差分析表面不規(guī)則度。
總結(jié)
需要使用蒙特卡羅分析對(duì)表面不規(guī)則度進(jìn)行公差分析，可以用TEZI或TEXI公差操作數(shù)自動(dòng)生成表面的不規(guī)則；
對(duì)表面不規(guī)則度公差分析時(shí)，需要同時(shí)考慮RMS幅值和表面不規(guī)則度空間頻率。
展開(kāi) Ansys Zemax | 如何模擬部分反射和散射的表面
可以看到我們已經(jīng)在 OpticStudio 中完成了部分反射和散射表面的創(chuàng)建。在本例中使用的工具和概念可以應(yīng)用到更復(fù)雜的系統(tǒng)之中，其中使用到的定義膜層和散射屬性的基本方法都是相同的。
將屬性應(yīng)用到其他表面
假設(shè)我們想在矩形體的側(cè)面和后面也添加相同的膜層和散射屬性以用于后續(xù)的分析。我們可以使用物體屬性中膜層/散射選項(xiàng)卡中的保存 (Save) 功能，將當(dāng)前表面的設(shè)置參數(shù)保存，并快速應(yīng)用到其他表面上。
當(dāng)完成了當(dāng)前表面的膜層/散射設(shè)置后，點(diǎn)擊保存按鈕即可完成設(shè)置參數(shù)的保存。
在彈出的對(duì)話框中，您可以將該設(shè)置參數(shù)命名為其他名稱：
保存成功后，您可以在矩形體的其他表面上使用這些參數(shù)設(shè)置：
小結(jié)
通過(guò)設(shè)置理想膜層以及定義特定的散射屬性，我們可以在 OpticStudio 中定義部分反射和散射的表面。在 OpticStudio 非序列元件編輯器中的物體屬性中的膜層/散射選項(xiàng)卡下，您可以在物體的不同表面上定義不同的膜層和散射屬性。
通過(guò)考慮偏振、分裂光線和散射光線，我們可以對(duì)不同散射類型的表面進(jìn)行詳細(xì)的建模。
展開(kāi) Ansys Zemax | 如何使用瓊斯矩陣表面
在序列模式下，該模型表示為“瓊斯矩陣”表面；在非序列模式下該模型表示為“瓊斯矩陣”物體。“瓊斯矩陣”根據(jù)下式描述瓊斯向量（表示電場(chǎng)）：
其中A, B, C, D均為復(fù)數(shù)。您可以在透鏡數(shù)據(jù)編輯器或非序列元件編輯器中分別輸入這些復(fù)參數(shù)的實(shí)部和虛部。
需要特別注意的是，瓊斯矩陣沒(méi)有定義Ez分量。這意味著使用瓊斯矩陣表面或物體的前提假設(shè)是入射光線需垂直于瓊斯矩陣表面，例如將瓊斯矩陣表面放置在平行光束中。該假設(shè)也與大部分實(shí)際應(yīng)用環(huán)境相符：多數(shù)起偏器或波片都是在平行光或發(fā)散角較小的光束中使用的。
如果一束平行光垂直入射至瓊斯矩陣表面，則由于k·E = 0 并且向量k可表示為{0, 0, 1} 因此Ez必須為零，這樣我們就可以只用Ex和Ey分量來(lái)描述偏振。如果入射光的方向向量為其他任意值 {l, m, n}，則OpticStudio將自動(dòng)調(diào)整Ez或{Ex, Ey}以使k·E = 0且E的大小不會(huì)增加。這個(gè)調(diào)整有可能導(dǎo)致E的大小降低，進(jìn)而導(dǎo)致透過(guò)能量的降低。
下表為一些典型偏振器件的瓊斯矩陣參數(shù)，該表格取自用戶手冊(cè)“The Setup Tab”一章:
使用實(shí)例
接下來(lái)是使用瓊斯矩陣模擬四分之一波片的實(shí)例。請(qǐng)聯(lián)系工作人員獲取附件。
需要注意的是：瓊斯矩陣表面不使用曲率半徑這一參數(shù)，該表面類型總是一個(gè)平面。這是因?yàn)樵擃愋?em>表面通常都是在垂直入射的平行光中使用。矩陣的每個(gè)參數(shù)可以在透鏡數(shù)據(jù)編輯器中的參數(shù)欄中輸入。在示例系統(tǒng)中，瓊斯矩陣設(shè)置為X軸方向的四分之一波片：
最簡(jiǎn)單直接的觀察瓊斯矩陣表面所產(chǎn)生的影響的方法是使用偏振光瞳圖 (Polarization Pupil Map) 功能。該功能位于分析 (Analysis) 選項(xiàng)卡 > 偏振 (Polarization) 菜單中。
展開(kāi) Ansys Zemax | 如何模擬部分反射和散射的表面
可以看到我們已經(jīng)在 OpticStudio 中完成了部分反射和散射表面的創(chuàng)建。在本例中使用的工具和概念可以應(yīng)用到更復(fù)雜的系統(tǒng)之中，其中使用到的定義膜層和散射屬性的基本方法都是相同的。
將屬性應(yīng)用到其他表面
假設(shè)我們想在矩形體的側(cè)面和后面也添加相同的膜層和散射屬性以用于后續(xù)的分析。我們可以使用物體屬性中膜層/散射選項(xiàng)卡中的保存 (Save) 功能，將當(dāng)前表面的設(shè)置參數(shù)保存，并快速應(yīng)用到其他表面上。
當(dāng)完成了當(dāng)前表面的膜層/散射設(shè)置后，點(diǎn)擊保存按鈕即可完成設(shè)置參數(shù)的保存。
在彈出的對(duì)話框中，您可以將該設(shè)置參數(shù)命名為其他名稱：
保存成功后，您可以在矩形體的其他表面上使用這些參數(shù)設(shè)置：
小結(jié)
通過(guò)設(shè)置理想膜層以及定義特定的散射屬性，我們可以在 OpticStudio 中定義部分反射和散射的表面。在 OpticStudio 非序列元件編輯器中的物體屬性中的膜層/散射選項(xiàng)卡下，您可以在物體的不同表面上定義不同的膜層和散射屬性。
通過(guò)考慮偏振、分裂光線和散射光線，我們可以對(duì)不同散射類型的表面進(jìn)行詳細(xì)的建模。
展開(kāi) Ansys Zemax｜如何使用 Jones Matrix 表面
范例
下方是一個(gè)將 Jones Matrix 表面作為1/4玻板 (quarter wave plate) 的案例，可以聯(lián)系工作人員獲取文章附件。
注意，上圖中 Jones Matrix 表面并沒(méi)有曲率半徑 (Radius) 的欄位。如上一個(gè)小節(jié)所說(shuō)，這種表面通常用在準(zhǔn)直光束垂直入射的情況，因此必須是一個(gè)平面。我們可以在下圖的分類數(shù)據(jù)報(bào)告 (Prescription data) 看到矩陣中的元素已被輸入鏡頭數(shù)據(jù)編輯器 (Lens Data Editor)。在這個(gè)案例中，Jones Matrix 被用來(lái)當(dāng)作 x 方向上的1/4玻板。
觀察 Jones Matrix 表面產(chǎn)生的結(jié)果最簡(jiǎn)單的方式是利用偏振光瞳圖 (Polarization Pupil Map)。依序選取 Analyze...Polarization...Polarization Pupil Map，我們可以看到如下圖的結(jié)果。
觀察上圖，我們可以看到輸入的圓偏振被轉(zhuǎn)為線偏振。假如我們將 Jones Matrix 當(dāng)作 x 方向上的半玻板 (Areal = -1, Dreal = +1，其余元素皆為0)，這時(shí)輸出的圓偏振方向會(huì)與輸入時(shí)相反(例如輸入左旋圓偏振后會(huì)產(chǎn)生右旋圓偏振的結(jié)果)。
假如我們將 Jones Matrix 當(dāng)作 x 方向上的檢偏鏡 (analyzer) (Areal = +1，其余元素皆為0)，則只有 x 方向的偏振光可以順利通過(guò)，穿透率 (Transmission) 也因此減為原本的一半。
注意: Analyze...Polarization 中的所有分析功能均有 Settings 的選項(xiàng)，提供使用者直接輸入入射光的偏振態(tài)。
展開(kāi) Ansys Zemax | 如何以數(shù)據(jù)的方式定義網(wǎng)格矢高表面
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概要
本文示范了如何輸入表面起伏數(shù)據(jù)，以定義Zemax OpticStudio中的網(wǎng)格矢高 (Grid Sag) 類型表面，表面起伏數(shù)據(jù)應(yīng)為Z坐標(biāo)軸上的矢高 (Sag)。
正文
表面起伏數(shù)據(jù)格式是這樣定義的：
第一行，由7個(gè)數(shù)字表示。
第1, 2個(gè)數(shù)字，代表x與y方向的數(shù)據(jù)數(shù)量，數(shù)據(jù)類型為整數(shù)。
第3, 4個(gè)數(shù)字，代表x與y方向的數(shù)據(jù)間隔，數(shù)據(jù)類型為浮點(diǎn)數(shù)。
第5個(gè)數(shù)字，代表數(shù)據(jù)的單位，0表示單位是mm。
第6, 7個(gè)數(shù)字，代表整體數(shù)據(jù)點(diǎn)的偏心量，數(shù)據(jù)類型為浮點(diǎn)數(shù)。
第二行及以后之后的數(shù)據(jù)格式如下：
注：數(shù)據(jù)最少需要5x5個(gè)點(diǎn)。
在網(wǎng)格矢高 (Grid Sag) 面的設(shè)定中，若指定使用雙三次樣條 (Bicubic-spline) 進(jìn)行內(nèi)插，為了使數(shù)據(jù)點(diǎn)之間sag的內(nèi)插結(jié)果平滑，要求必須要輸入微分值。
但是，若設(shè)定所有的微分值為0，或是該數(shù)據(jù)留白不輸入，OpticStudio會(huì)默認(rèn)使用有限差分法 (Finite Difference Method) 來(lái)計(jì)算微分值。
數(shù)據(jù)的紀(jì)錄順序定義如下：
1. 從的面的左上角，也就是Xmin、Ymax開(kāi)始。
2. 下一個(gè)輸入的數(shù)據(jù)是該點(diǎn)的右邊一個(gè)值 (就是X方向加一個(gè)間隔)。
3. 第一行結(jié)束后，從第二行左邊開(kāi)頭繼續(xù)。
4. 填滿時(shí)，最后一個(gè)數(shù)字應(yīng)為Xmax、Ymin
矢高 (Sag) 數(shù)據(jù)的基準(zhǔn)面可以是平面，也可以是球面、圓錐曲面或是非球面。
關(guān)于數(shù)據(jù)文件的后綴名，若是在用在序列模式中，應(yīng)為 “.DAT”，若是用在非序列模式，則應(yīng)為 “.GRD”。
展開(kāi) Ansys | 什么是表面等離子體光子學(xué)及其應(yīng)用
業(yè)界正在做出巨大努力，旨在利用表面等離子體的獨(dú)特屬性，將電子器件的尺寸效率與光子學(xué)的數(shù)據(jù)效率相結(jié)合。
表面等離子體光子學(xué)的挑戰(zhàn)
表面等離子體的傳播僅在其移動(dòng)幾毫米之后就會(huì)受到歐姆損耗的抑制，因此業(yè)界正在研發(fā)由石墨烯、金屬氧化物和氮化物等等離子體納米粒子構(gòu)建的等離子體學(xué)納米結(jié)構(gòu)，以應(yīng)對(duì)該挑戰(zhàn)。
熱是另一項(xiàng)挑戰(zhàn)——它會(huì)影響等離子體信號(hào)的傳播長(zhǎng)度和振幅。
具有合適電氣和光學(xué)屬性組合的金屬納米結(jié)構(gòu)和幾何結(jié)構(gòu)可能可以解決這些挑戰(zhàn)。這是因?yàn)殂~、銀、鋁、金等其他材料中的金屬納米結(jié)構(gòu)允許表面等離子體激元（SPP）傳播。
SPP是在金屬-電介質(zhì)界面?zhèn)鞑サ墓舱耠娮诱袷帯Ｆ鋾?huì)產(chǎn)生強(qiáng)烈的光-物質(zhì)相互作用，從而增強(qiáng)光電應(yīng)用中的弱光學(xué)效應(yīng)。
表面等離子體光波導(dǎo)
SPP可以被視為特殊類型的光波。因此，金屬互連可支持這些波在金屬-電介質(zhì)界面?zhèn)鞑ィ⒂米鞴獠▽?dǎo)或表面等離子體光波導(dǎo)。
SPP可用復(fù)波矢量表示。該矢量的虛部與SPP傳播長(zhǎng)度成反比，而實(shí)部與約束成正比。
表面等離子體與電路設(shè)計(jì)的實(shí)際集成，取決于傳播長(zhǎng)度和約束之間的反比關(guān)系的平衡。理想情況下，表面等離子體光波導(dǎo)可同時(shí)最大限度增加表面等離子體的約束和傳播長(zhǎng)度，以獲得最佳效果。
表面等離子體激元傳播造成的耗散損耗可以通過(guò)增益放大或集成光纖等光子元件來(lái)抵消，從而產(chǎn)生混合表面等離子體光波導(dǎo)。
表面等離子體光波導(dǎo)呈亞波長(zhǎng)模態(tài)，小于光的衍射極限。在小于光的波長(zhǎng)下的SPP傳播方式是可能的，這一想法讓業(yè)界振奮不已，從而為能夠在光學(xué)頻率下進(jìn)行納米級(jí)信息處理的芯片級(jí)器件開(kāi)辟了可能性。
展開(kāi) 
Ansys Zemax | 解析 OpticStudio 中復(fù)合表面的工作原理
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展開(kāi) Ansys Zemax｜如何使用 Jones Matrix 表面
范例
下方是一個(gè)將 Jones Matrix 表面作為1/4玻板 (quarter wave plate) 的案例。
注意，上圖中 Jones Matrix 表面并沒(méi)有曲率半徑 (Radius) 的欄位。如上一個(gè)小節(jié)所說(shuō)，這種表面通常用在準(zhǔn)直光束垂直入射的情況，因此必須是一個(gè)平面。我們可以在下圖的分類數(shù)據(jù)報(bào)告 (Prescription data) 看到矩陣中的元素已被輸入鏡頭數(shù)據(jù)編輯器 (Lens Data Editor)。在這個(gè)案例中，Jones Matrix 被用來(lái)當(dāng)作 x 方向上的1/4玻板。
觀察 Jones Matrix 表面產(chǎn)生的結(jié)果最簡(jiǎn)單的方式是利用偏振光瞳圖 (Polarization Pupil Map)。依序選取 Analyze...Polarization...Polarization Pupil Map，我們可以看到如下圖的結(jié)果。
觀察上圖，我們可以看到輸入的圓偏振被轉(zhuǎn)為線偏振。假如我們將 Jones Matrix 當(dāng)作 x 方向上的半玻板 (Areal = -1, Dreal = +1，其余元素皆為0)，這時(shí)輸出的圓偏振方向會(huì)與輸入時(shí)相反(例如輸入左旋圓偏振后會(huì)產(chǎn)生右旋圓偏振的結(jié)果)。
假如我們將 Jones Matrix 當(dāng)作 x 方向上的檢偏鏡 (analyzer) (Areal = +1，其余元素皆為0)，則只有 x 方向的偏振光可以順利通過(guò)，穿透率 (Transmission) 也因此減為原本的一半。
注意: Analyze...Polarization 中的所有分析功能均有 Settings 的選項(xiàng)，提供使用者直接輸入入射光的偏振態(tài)。
展開(kāi) Ansys Zemax | 如何通過(guò) K-相關(guān)分布模擬表面散射
注：如果用戶獲得的特定散射表面信息是實(shí)測(cè)的 BSDF 數(shù)據(jù)，而不是通過(guò)將實(shí)測(cè)表面粗糙度數(shù)據(jù)擬合到 K-相關(guān)模型得到參數(shù)時(shí)，我們強(qiáng)烈建議直接使用實(shí)測(cè)的 BSDF 數(shù)據(jù)進(jìn)行表面散射分布建模。
K-相關(guān)散射模型的參數(shù)輸入
K-相關(guān)散射模型可以被6個(gè)參數(shù)所定義：
R = 表面透射/反射率
dn = 表面邊緣折射率的變化
σ = 整體等效RMS表面粗糙度(μm)
λ = “測(cè)量”波長(zhǎng)(μm)
B = 2πL，其中 L = 常規(guī)表面波長(zhǎng)(mm)
s = 高空間頻率中 BSDF 的 log-log 斜率
等效 RMS 表面粗糙度是在0到1/ λ的空間頻率范圍內(nèi)計(jì)算的，其中選擇非零值λ 是為了給全積分散射 (TIS) 提供一個(gè)有限的歸一化因子。用表面粗糙度的實(shí)驗(yàn)測(cè)量來(lái)推導(dǎo)K相關(guān)散射的參數(shù)時(shí)，λ 的選擇完全隨機(jī)。λ 用于定義逆截止頻率和計(jì)算測(cè)量數(shù)據(jù)的功率譜密度 (PSD)，隨后功率譜密度 (PSD) 將被轉(zhuǎn)換成 BSDF。如果實(shí)驗(yàn)人員在分析測(cè)量的表面粗糙度數(shù)據(jù)時(shí)選擇了λ這個(gè)值，則在其他波長(zhǎng)下的等效表面粗糙度可根據(jù)以下公式計(jì)算：
如果某一特定表面的可用信息是實(shí)測(cè)的 BSDF 數(shù)據(jù)而不是表面粗糙度數(shù)據(jù)，我們強(qiáng)烈建議在 OpticStudio 中對(duì)表面散射分布建模時(shí)直接使用實(shí)測(cè)的 BSDF 數(shù)據(jù)。
在 OpticStudio 中，表面透射/反射系數(shù) (R)是由表面的膜層（或未設(shè)置膜層）決定的，而表面邊界處的指數(shù)變化 (dn) 則是直接計(jì)算的。剩下四個(gè) K-相關(guān) BSDF 的參數(shù) (σ, λ, B, s) 必須在 OpticStudio 中作為 K- 相關(guān)散射的參數(shù)輸入：
DLL 需要一個(gè)額外的參數(shù) (SFV1) 來(lái)為散射函數(shù)查看器 (SFV) 讀取dn的值。
展開(kāi) AnsysWB-表面貼片電阻的熱載荷應(yīng)力仿真 ￥15
表面貼裝制造被廣泛用于組裝片式電阻封裝，能夠?qū)㈦娮釉苯淤N裝在印刷電路板（PCB）的表面。對(duì)更小的手持設(shè)備不斷增長(zhǎng)的需求促使片式電阻器尺寸更小，這反過(guò)來(lái)又引發(fā)了對(duì)焊點(diǎn)熱疲勞壽命以及故障發(fā)生情況的擔(dān)憂。
表面貼片電阻會(huì)受到熱循環(huán)的影響。材料之間的熱膨脹差異會(huì)在結(jié)構(gòu)上產(chǎn)生熱應(yīng)力，
連接電阻與印刷電路板的焊料被視為裝配中最薄弱的環(huán)節(jié)，由于工作溫度高于焊料的
熔點(diǎn)，因此會(huì)產(chǎn)生稱為蠕變的變形。
