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登錄ansys模擬加工誤差
關注創建者:王靖雯 創建時間:2023-03-07


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仿真、模擬、有限元分析、多物理場……這些術語是不是早已成為每位仿真人的“日常”?大家是否知曉其背后的技術原理和演進趨勢,正深刻地改變著世界?Ansys全新推出【Simulation Topics】系列專題,邀您一起探索仿真世界。
尺寸分布: 支持對晶粒體積的對數正態分布(Log-normal)進行精準控制,模擬不同加工狀態下的組織。
空間排布: 通過調整點過程參數,控制晶粒的密集程度與均勻性。
實時可視化預覽: 網頁右側提供 3D 實時渲染,調整左側參數后,模型形態即刻更新,真正實現“所見即所得”。
? 制造適配性分析,筑牢量產良率基礎
軟件可模擬納米結構尺寸偏差、邊緣粗糙度、周期誤差等多種工藝缺陷,量化分析缺陷對成像分辨率、MTF 曲線、信噪比的影響,進而優化設計參數,降低對加工精度的敏感度,提前預判加工誤差對超表面性能的影響。
由于很難使用 Zernike 項來模擬所有這些類型的表面形狀變化,因此確定表面誤差如何影響整體系統級性能的最佳方法是在 OpticStudio 中將測得的干涉儀數據直接鏈接到光學表面。
確認度量(Validation Metrics)
將仿真與試驗數據定量對比:
相對誤差:試驗值∣仿真值?試驗值∣×100%
均方根誤差(RMSE):n∑(仿真值?試驗值)2
相關系數:衡量變化趨勢一致性
MAC值(模態置信準則):模態分析結果對比,判斷振型相關性
三、計算特點總結
V&V 工作流對計算資源的消耗模式,與普通"跑一次仿真"截然不同:
陶瓷與碳加工:監測高溫燒結過程中的溫度均勻性。
質量控制與研發:用于生產線的實時熱監控及實驗室熱分析。
講師:
周錚 | Ansys 光學應用技術主管
周錚,華中科技大學和巴黎十一大光電信息工程碩士,于2019年加入Ansys中國,現為Ansys光學應用工程師,主要負責Ansys Lumerical的技術支持和相關業務開發。
感興趣的下滑預約學習??
時間:4月29日(星期三),15:30-16:30
內容簡介:
SPH(光滑粒子流體動力學)是一種拉格朗日無網格方法,Ansys SPH產品由于沒有網格約束的限制,在許多模擬場景中更加靈活,尤其擅長模擬復雜自由液面情景(如飛濺和噴淋)以及涉及運動物體的應用場景。
</strong></p><p>為確保設計性能落地,在Zemax中進行全面公差分析,模擬加工、材料、裝調誤差,驗證系統工藝適應性。
仿真成果:可模擬雙折射透鏡組的偏振調控效果,生成光強透射率曲線,驗證填充因子提升效果;同時通過公差分析功能,評估加工誤差對整形效果的影響,為工程化生產提供風險預判。仿真圖(圖3)清晰展示偏振器、雙折射透鏡、空間濾波器的光路布局與光束傳輸特性。
圖3 雙折射透鏡整形系統
(3)衍射光學元件(DOE)
衍射光學元件利用光的波動性實現相位與振幅調控,在小型化、集成化光學系統中不可或缺。