ANSYS在部分面上加力的案例
如何在傾斜面上施加力？
3 注意點(diǎn)
想要力的反方向就在當(dāng)前力的數(shù)值上加負(fù)號
已經(jīng)施加力的面，如果想重新施加力，已經(jīng)要先用remove去除原先的力，在施加新的。如果不用remove，兩個(gè)力就會(huì)重疊。
來源：瀚宇科技服務(wù)
ansys 如何添加圓柱面上小部分小角度的徑向均布載荷
ansys 如何添加圓柱面上小部分小角度的徑向均布載荷，也就是說在圓柱面上的一小段，比如說120mm的圓柱，在其中間60mm的一段上，60度的扇形面上添加均布的徑向載荷？
Ansys Zemax | 手機(jī)鏡頭設(shè)計(jì) - 第 2 部分：使用 OpticsBuilde
Ansys Zemax | 手機(jī)鏡頭設(shè)計(jì) - 第 2 部分：使用 OpticsBuilder 實(shí)現(xiàn)光機(jī)械封裝
如果光學(xué)和機(jī)械工程師都聲稱光機(jī)械系統(tǒng)已完成，則可以將系統(tǒng)從 Creo Parametric 導(dǎo)出為 STEP 裝配體，并進(jìn)一步轉(zhuǎn)移到 FEA 軟件（如 Ansys Mechanical ），以便為 OpticStudio STAR 模塊生成 FEA 數(shù)據(jù)集。這些步驟在本系列文章的第三部分進(jìn)行詳細(xì)闡述：
· 設(shè)計(jì)手機(jī)相機(jī)鏡頭第3部分：使用 STAR 模塊和 ZOS-API 進(jìn)行 STOP 分析
ANSYS中的LAREA命令——在面上的兩個(gè)關(guān)鍵點(diǎn)之間生成最短的線
注：在面上的兩個(gè)關(guān)鍵點(diǎn)P1和P2之間生成一條最短的線，生成的線也位于面內(nèi)。P1和P2關(guān)鍵點(diǎn)也可以在面的同一側(cè)，且到面的距離相等，這種情況下則生成一條與面相平行的線。
2.操作路徑
Main Menu> Preprocessor> Modeling> Create> Lines> Lines> Overlaid on Area
3.實(shí)例
輸入命令：
/PREP7
CYL4,0,0,1,,,,2
LAREA,6,7,2 !在平面上生成最短的線L11
LAREA,1,5,4 !在圓柱面上生成最短的線L12
則生成的圖線如圖1所示
圖1 生成的圖線
4.參考資料
ANSYS HELP 15.0
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Ansys Zemax | 手機(jī)鏡頭設(shè)計(jì) - 第 1 部分：光學(xué)設(shè)計(jì)
本文是3篇系列文章的一部分，該系列文章將討論智能手機(jī)鏡頭模組設(shè)計(jì)的挑戰(zhàn)，從概念、設(shè)計(jì)到制造和結(jié)構(gòu)變形的分析。本文是三部分系列的第一部分，將專注于OpticStudio中鏡頭模組的設(shè)計(jì)、分析和可制造性評
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簡介
智能手機(jī)已成為我們?nèi)粘Ｉ畹闹匾M成部分，并包含大量高科技光學(xué)系統(tǒng)，以滿足對出色成像性能的需求。大多數(shù)智能手機(jī)在有限的空間內(nèi)安裝了多個(gè)復(fù)雜且低成本的相機(jī)單元。這對設(shè)計(jì)師和制造商都提出了挑戰(zhàn)。注塑成型的塑料透鏡需要精確的裝配，確保每個(gè)模塊在安裝時(shí)都可正常工作。
手機(jī)鏡頭規(guī)格
手機(jī)鏡頭是小型相機(jī)，這意味著在設(shè)計(jì)的時(shí)候要最大限度地減少它們在手機(jī)中占用的空間。它們重量輕，可在低F#下捕獲高質(zhì)量圖像。手機(jī)鏡頭的通常規(guī)格是一個(gè)非常短的系統(tǒng)（總長（TOTR）<5mm），因?yàn)槭謾C(jī)越來越薄，通常奈奎斯特頻率下的 MTF>0.2/0.25（這是由探測器像素的大小決定的），系統(tǒng)將具有大視場角和快F#。
讓我們看一個(gè)來自專利（1）的手機(jī)鏡頭的例子：
· 快 F/2.0
· 有效焦距f：@2.4mm艾里斑半徑=1.22λf#≈1.22μm
· 全視場角=95度
· 像素尺寸=2.5μm。像素大小接近Airy斑大小。根據(jù)定義，奈奎斯特頻率是2個(gè)像素作為一個(gè)周期。對于2.5μm的像素尺寸，它的一個(gè)周期是5.0μm，因此對應(yīng)的奈奎斯特頻率為200線對/毫米。奈奎斯特頻率下大于20%的MTF是可接受圖像質(zhì)量的典型最小對比度。
· 傳感器1280 x 720像素。這是1MP（百萬像素）。盡管就現(xiàn)代智能手機(jī)相機(jī)的分辨率而言，它不是頂級的（當(dāng)前的智能手機(jī)鏡頭可能使用12MP左右），但它仍然可用于監(jiān)控和其他小型光學(xué)應(yīng)用。
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第二章拓?fù)鋬?yōu)化.doc
Ansys Zemax | 如何模擬部分反射和散射的表面
這篇文章介紹了如何模擬一個(gè)部分反射的表面，該表面會(huì)根據(jù)指定的散射分布對一部分入射光能量進(jìn)行散射。本文介紹的示例包含部分吸收以及部分鏡面反射的情況。(聯(lián)系我們獲取文章附件)
介紹
使用 OpticStudio 非序列模式模擬散射和膜層的能力，我們可以模擬一個(gè)部分反射（或部分透射）的表面，該表面會(huì)根據(jù)指定的分布散射入射光能量的一部分。
假設(shè)我們需要模擬一個(gè)表面為部分反射（60%反射）的矩形體 (Rectangle Volume) 物體，并且其中80%的反射光會(huì)根據(jù)朗伯 (Lambertian) 分布發(fā)生散射。剩下的20%將發(fā)生鏡面反射。通過使用三個(gè)非序列物體，本文的示例可以闡述了如何使用朗伯散射和理想膜層來產(chǎn)生所需的效果。
我們無需從零開始建立模型，請打開附件中的示例文件。在該文件中，一個(gè)單光線光源 (Source Ray) 物體發(fā)出的光線入射到矩形體的表面，其中矩形體的材料類型為MIRROR。從光源發(fā)出的光線完美的返回到光源并被探測器平面接收。在當(dāng)前系統(tǒng)中，矩形體的表面沒有定義任何膜層或散射屬性。
通過不考慮偏振的蒙特卡洛光線追跡，單根光線照明了探測器最中間的像素并且該像素接收到的功率為1W。
建立理想膜層
OpticStudio 可以模擬任何類型的薄膜膜層，其中包括多層電介質(zhì)膜層和金屬膜層等。然而在本文中，我們將只討論如何在 OpticStudio 中建立和應(yīng)用簡單的理想膜層。
和 OpticStudio 中的其他膜層相同，理想膜層是通過在膜層文件中定義材料、漸厚層以及膜層等部分的數(shù)據(jù)來進(jìn)行定義的。對于一個(gè)理想膜層，其定義語法為：
IDEAL
理想膜層只需要定義強(qiáng)度的透射系數(shù)和反射系數(shù)，并且該系數(shù)與波長和入射角無關(guān)。
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概要
這篇文章介紹了如何模擬一個(gè)部分反射的表面，該表面會(huì)根據(jù)指定的散射分布對一部分入射光能量進(jìn)行散射。本文介紹的示例包含部分吸收以及部分鏡面反射的情況。
簡介
使用 OpticStudio 非序列模式模擬散射和膜層的能力，我們可以模擬一個(gè)部分反射（或部分透射）的表面，該表面會(huì)根據(jù)指定的分布散射入射光能量的一部分。
假設(shè)我們需要模擬一個(gè)表面為部分反射（60%反射）的矩形體 (Rectangle Volume) 物體，并且其中80%的反射光會(huì)根據(jù)朗伯 (Lambertian) 分布發(fā)生散射。剩下的20%將發(fā)生鏡面反射。通過使用三個(gè)非序列物體，本文的示例可以闡述了如何使用朗伯散射和理想膜層來產(chǎn)生所需的效果。
我們無需從零開始建立模型，請打開附件中的示例文件。在該文件中，一個(gè)單光線光源 (Source Ray) 物體發(fā)出的光線入射到矩形體的表面，其中矩形體的材料類型為MIRROR。從光源發(fā)出的光線完美的返回到光源并被探測器平面接收。在當(dāng)前系統(tǒng)中，矩形體的表面沒有定義任何膜層或散射屬性。
通過不考慮偏振的蒙特卡洛光線追跡，單根光線照明了探測器最中間的像素并且該像素接收到的功率為1W。
建立理想膜層
OpticStudio 可以模擬任何類型的薄膜膜層，其中包括多層電介質(zhì)膜層和金屬膜層等。然而在本文中，我們將只討論如何在 OpticStudio 中建立和應(yīng)用簡單的理想膜層。
和 OpticStudio 中的其他膜層相同，理想膜層是通過在膜層文件中定義材料、漸厚層以及膜層等部分的數(shù)據(jù)來進(jìn)行定義的。
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Ansys Zemax | 如何尋找?guī)缀五e(cuò)誤 - 第1部分
概要
這篇文章講解了：
在非序列模式中造成幾何錯(cuò)誤（錯(cuò)誤10561）的各種原因。
如何診斷這些錯(cuò)誤。
介紹
使用 OpticStudio 做設(shè)計(jì)的時(shí)候，必須得知道得到的結(jié)果是否是正確的。尤其是在非序列模式下，復(fù)雜的幾何模型可以互相嵌套，此時(shí)如何知道建模是否有問題呢？
在非序列模式或者混合序列模式中( Mixed Sequential/Non-Sequential Mode)，都可能會(huì)遇到幾何錯(cuò)誤。幾何錯(cuò)誤會(huì)在光線遇到幾何體的某些區(qū)域并無法繼續(xù)追跡的情況下。這些錯(cuò)誤會(huì)在軟件界面上彈出，并且同時(shí)寫入光線數(shù)據(jù)庫用于后期分析。事實(shí)上，看到這些錯(cuò)誤未必證明系統(tǒng)有問題，相反，這些錯(cuò)誤提示是用來告訴用戶更多的信息。分析這些錯(cuò)誤信息可以讓人確信系統(tǒng)建模的正確性。
當(dāng)遇到幾何錯(cuò)誤的時(shí)候，最重要的是要知道它們是如何產(chǎn)生的，以及如何找到這些信息。在 OpticStudio 中內(nèi)建了一些重要的工具來，它們可以回答上述問題。
幾何錯(cuò)誤發(fā)生的原因不唯一。在本文中我們會(huì)介紹最常見的幾種幾何錯(cuò)誤的原因，并且說明如何找到并修正它們。這些方法可以幫助您診斷復(fù)雜的文件，看看其中的幾何錯(cuò)誤是否需要著重考慮。最常見的三種幾何錯(cuò)誤的來源列表在下方：
錯(cuò)誤信息中包含了什么內(nèi)容？
在混合系列模式出現(xiàn)幾何錯(cuò)誤的時(shí)候，絕大多數(shù)情況都是因?yàn)殄e(cuò)誤的入口或出口位置擺放。如果切換進(jìn)純非序列模式中，錯(cuò)誤信息會(huì)包含很多有用的內(nèi)容，即光線在何處發(fā)生了幾何錯(cuò)誤。系統(tǒng)發(fā)出的幾何錯(cuò)誤提示類似于以下這個(gè)：
該錯(cuò)誤信息提示了第一根光線就沒能正確追跡。
第一行 – 第一行包含了非序列物體表面序號以及發(fā)出光線的光源物體序號。此處“非序列物體表面”指的是混合序列模式中作為非序列入口的那個(gè)表面。如果在混合序列模式文件中有超過一個(gè)的非序列物體，那么這個(gè)序號將會(huì)很有用
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這篇文章介紹了如何模擬一個(gè)部分反射的表面，該表面會(huì)根據(jù)指定的散射分布對一部分入射光能量進(jìn)行散射。本文介紹的示例包含部分吸收以及部分鏡面反射的情況。（聯(lián)系我們獲取文章附件）
簡介
OpticStudio為用戶提供了通過使用鍍膜數(shù)據(jù)使他們的系統(tǒng)盡可能逼真的能力。在非序列模式下，鍍膜可以添加到任何物體表面，并進(jìn)行編輯，使表面具有所需的反射和透射特性。特別地，部分反射(或選擇性透射)表面可以被模擬成只將一小部分入射能量以特定的分布方式散射。
本文的示例可以闡述了如何使用朗伯散射和理想膜層來產(chǎn)生所需的效果。
從附件開始，我們將創(chuàng)建和使用一個(gè)理想的鍍膜，以利用適當(dāng)?shù)耐繉?#x2F;散射屬性，創(chuàng)建一個(gè)部分反射表面。
建立系統(tǒng)
假設(shè)我們需要模擬一個(gè)表面為部分反射（60%反射）的矩形體 (Rectangle Volume) 物體，并且其中80%的反射光會(huì)根據(jù)朗伯 (Lambertian) 分布發(fā)生散射。剩下的20%將發(fā)生鏡面反射。通過使用三個(gè)非序列物體，本文的示例可以闡述了如何使用朗伯散射和理想膜層來產(chǎn)生所需的效果。
我們無需從零開始建立模型，請打開附件中的示例文件。在該文件中，一個(gè)單光線光源 (Source Ray) 物體發(fā)出的光線入射到矩形體的表面，其中矩形體的材料類型為MIRROR。從光源發(fā)出的光線完美的返回到光源并被探測器平面接收。在當(dāng)前系統(tǒng)中，矩形體的表面沒有定義任何膜層或散射屬性。
通過不考慮偏振的蒙特卡洛光線追跡，單根光線照明了探測器最中間的像素并且該像素接收到的功率為1W。
建立理想膜層
有關(guān)在OpticStudio中定義和使用膜層的詳細(xì)信息，請查看幫助系統(tǒng)中的“Defining coatings in OpticStudio”一節(jié)。
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附件是ANSYS 培訓(xùn)教程第三部分
附件是ANSYS 培訓(xùn)教程，希望對初學(xué)者有幫助。
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教程 - 機(jī)械 APDL 中的 2D 桁架分析 （ANSYS） 第 1 部分？
教程 - 機(jī)械 APDL 中的 2D 桁架分析 （ANSYS） 第 1 部分
一般來說，有限元解可以分為以下三個(gè)階段。
1. 預(yù)處理：定義問題;
- 定義關(guān)鍵點(diǎn)/線/區(qū)域/體積
- 定義元素類型和材料/幾何屬性
- 根據(jù)需要?jiǎng)澐志€/區(qū)域/體積
2. 解決方案：分配載荷、約束和求解;
3. 后處理：
- 節(jié)點(diǎn)位移列表
- 單元力和彎矩
- 撓度圖
- 應(yīng)力等值線圖
在本教程中，我們將進(jìn)行第一步。
步驟1：
啟動(dòng) Ansys Mechanical APDL。
步驟2：
單擊 Preferences 并選擇 Structural ，因?yàn)槲覀儗⑦M(jìn)行結(jié)構(gòu)分析。單擊 OK（確定）。
步驟3：
現(xiàn)在我們必須繪制關(guān)鍵點(diǎn)。在 Preprocessor >> Modeling >> Create >> In active CS 下創(chuàng)建。
步驟4：
現(xiàn)在我們必須輸入 Keypoints。輸入關(guān)鍵點(diǎn)編號 1 和 XYZ 坐標(biāo)，然后單擊 Apply。
步驟5：
輸入第二個(gè)關(guān)鍵點(diǎn) X=500，Y=1000。Z 將保持為零，因?yàn)槲覀冇?2D Bridge Truss。單擊 Apply。
步驟6：
輸入第三個(gè)關(guān)鍵點(diǎn) X=1000，Y=0。單擊 Apply。
步驟7：
輸入第 4 個(gè)關(guān)鍵點(diǎn) X=1500，Y=1000。單擊 Apply。
步驟8：
輸入第 5 個(gè)關(guān)鍵點(diǎn) X=2000，Y=0。單擊 OK
步驟9：
現(xiàn)在我們已經(jīng)繪制了關(guān)鍵點(diǎn)。我們必須沿著這些關(guān)鍵點(diǎn)創(chuàng)建線條。轉(zhuǎn)到 建模 >> 在激活坐標(biāo)中>>創(chuàng)建>>線。
步驟10：
現(xiàn)在通過單擊它們來選擇 kepoint，然后單擊其他關(guān)鍵點(diǎn)以創(chuàng)建線。創(chuàng)建成員。單擊 OK（確定）。
步驟11：
現(xiàn)在我們必須定義 Element 類型。即 Beam。
展開 教程 - 機(jī)械 APDL 中的 2D 桁架分析 （ANSYS） 第 2 部分
步驟1：
這是教程的第二部分，我們在其中解決問題。在 Solution >> Analaysis 下，鍵入 New analysis>>。選擇 static 并單擊 OK。
2. 步驟2：
在定義載荷下>>>> Structural >> 位移 >> On 關(guān)鍵點(diǎn)上應(yīng)用。現(xiàn)在，我們將定義固定的關(guān)鍵點(diǎn)或支撐。
3. 步驟3：
選擇兩個(gè)下角關(guān)鍵點(diǎn)，然后單擊 OK。
4. 步驟4：
選擇 All DOF 并單擊 OK。
5. 步驟5：
轉(zhuǎn)到定義載荷 >> 在關(guān)鍵點(diǎn)上應(yīng)用>> 結(jié)構(gòu)>>力矩/力矩 >> 。
6. 步驟6：
選擇上部關(guān)鍵點(diǎn)，然后單擊 OK。
7. 步驟7：
力的方向?yàn)?FY 且輸入 Force 值 = -10000，因?yàn)榱⑾蛳伦饔谩?8. 步驟8：
現(xiàn)在我們已經(jīng)準(zhǔn)備好了模型進(jìn)行求解。在 Solve 下>> Current Load 步驟。
9. 步驟9：
單擊 OK（確定）。
10. 步驟10：
一條消息 Solution is done！將顯示流程何時(shí)完成。單擊 Close。
11. 步驟11：
現(xiàn)在是這個(gè)過程的第三部分。要進(jìn)行后處理。轉(zhuǎn)到 General PostProc >> 列出結(jié)果 >> reaction solu。
12. 步驟12：
選擇所有項(xiàng)目，然后單擊 OK。
13. 步驟13：
現(xiàn)在我們有了關(guān)于節(jié)點(diǎn) 1 和 5 的 reaction 值，它們是固定的。單擊 Close。
14. 步驟14：
變形形狀>>跳轉(zhuǎn)圖結(jié)果。
15. 步驟15：
選擇 Def + undeformed。單擊 OK
16.
展開 ansys優(yōu)化設(shè)計(jì)部分相關(guān)資料
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