通過設置篩選條件（例如值范圍或單元百分比），用戶可以根據應力或單元力等具體參數快速確定關鍵區域。該工具以圖和詳細匯總表的形式直觀展示結果，便于用戶理解和分析峰值行為。 主要特性： 根據載荷或檢查結果確定峰值區域。 按自定義范圍、絕對值或單元百分比過濾峰值。 使用可自定義的可視化選項，生成特定區域的繪圖，例如跨區域的基本值或平均值。

Zemax OpticStudio 的版本必須為 Ansys Zemax OpticStudio Premium 或 Ansys Zemax OpticStudio Enterprise。不支持 Legacy Zemax OpticStudio。Lease 和 Paid-Up 兩類 Ansys Zemax 許可證均可用于使用該工具。

在第一部分文章：《Ansys Zemax | 在 OpticStudio 中將干涉儀數據附加到光學表面 – 第一部分中》，我們演示了如何根據表面形狀和方向將干涉測量數據導入 OpticStudio，本部分文章我們將引入更多的實例演示。

、權重更新 網絡結構可自定義：如MEMS案例中的 [8,64,64,32,16,6]（8輸入→64→64→32→16→6輸出） 計算特征：矩陣運算密集，NVIDIA CUDA/cuDNN可提速10×~100×；顯存需求與批次大小（batch size）和網絡寬度成正比 GP/PCE訓練在Uncertainty Quantification Module中完成，依賴CPU的矩陣求逆/特征值分解

aiFab Web 還增加了約束迭代、整型/浮點型參數支持、貝葉斯優化診斷圖、資源顏色標記、關鍵值紅色高亮等功能。

確認度量（Validation Metrics） 將仿真與試驗數據定量對比： 相對誤差：試驗值∣仿真值?試驗值∣×100% 均方根誤差（RMSE）：n∑(仿真值?試驗值)2 相關系數：衡量變化趨勢一致性 MAC值（模態置信準則）：模態分析結果對比，判斷振型相關性 三、計算特點總結 V&V 工作流對計算資源的消耗模式，與普通"跑一次仿真"截然不同：

彈性模量 70 GPa 泊松比 0.33 密度 2700 kg/m3 03 ANSYS Workbench 分析流程（詳細步驟） 步驟 1：創建靜力學分析項目 啟動 ANSYS Workbench

://optics.ansys.com/hc/en-us/articles/42661829809043-How-to-simulate-exit-pupil-expander-EPE-with-diffractive-optics-for-augmented-reality-AR-system-in-OpticStudio-part-2 https://optics.ansys.com/hc

該工作流程利用Ansys Lumerical MODE中的EME（特征模擴展）求解器進行光學仿真，利用Ansys Lumerical CML Compiler生成緊湊模型，并利用Ansys Lumerical INTERCONNECT進行光子電路設計和仿真。 此工作流程僅使用Synopsys產品即可提供一套內部解決方案，以應對光子集成電路設計中的復雜挑戰。

在幾何處理與建模方面，HyperMesh擁有強大的幾何修復能力，可直接導入UG、Pro/E、CATIA等幾乎所有主流CAD軟件的模型格式，高效處理導入模型中的間隙、重疊、缺損等問題，大幅減少手動修復的工作量，尤其擅長處理大型復雜裝配體——無論是包含300多個組件的碳吸收裝置，還是 Rally賽車的空間框架，都能快速完成幾何簡化與優化，為后續仿真奠定堅實基礎。