每種光柵中的刻線都不相同，使設計人員能夠根據預期應用和波長范圍定制光柵，實現對光的調控。周期性和結構的變化會改變光柵的衍射效率和衍射級次，這有助于在調控光線時實現更好的控制。 使用Ansys Lumerical FDTD軟件中的嚴格耦合波分析（RCWA）求解器，對2D刻劃光柵的透射特性進行仿真 體積全息光柵是通過在感光材料中記錄全息圖案制造而成的。

通過設置篩選條件（例如值范圍或單元百分比），用戶可以根據應力或單元力等具體參數快速確定關鍵區域。該工具以圖和詳細匯總表的形式直觀展示結果，便于用戶理解和分析峰值行為。 主要特性： 根據載荷或檢查結果確定峰值區域。 按自定義范圍、絕對值或單元百分比過濾峰值。 使用可自定義的可視化選項，生成特定區域的繪圖，例如跨區域的基本值或平均值。

Zemax OpticStudio 的版本必須為 Ansys Zemax OpticStudio Premium 或 Ansys Zemax OpticStudio Enterprise。不支持 Legacy Zemax OpticStudio。Lease 和 Paid-Up 兩類 Ansys Zemax 許可證均可用于使用該工具。

多格式導出： 生成的模型支持導出為坐標數據、拓撲連接信息等，方便后續導入 ABAQUS、ANSYS 或自編的有限元/晶體塑性（CPFEM）程序中。 【操作流程：三步搞定】 第一步：設定全局參數。 在左側面板選擇晶粒總數及 RVE 尺寸。 第二步：精修幾何特征。 調整權重系數（Weights）和偏度，生成不規則或特定分布的晶粒形狀。 第三步：導出與應用。

新思科技進一步擴展了其面向臺積公司 N3P 和 N2P 制程的行業領先、已通過硅驗證的基礎 IP（Foundation IP）產品組合，提供嵌入式存儲器、邏輯單元庫和 IO 解決方案，支持低功耗數據中心、AI 加速器、移動網絡以及先進云計算平臺的設計需求。

采用 5mm 全局網格尺寸及線性單元完成模型網格劃分。 圖 2 模型所定義旋轉關節示意圖 5、定義分析設置并施加邊界條件。相機實際工作載荷的頻率大概率處于低頻區間，因此將分析頻率范圍設定為 0~30Hz。設置 30 個求解間隔，采用完全求解法，并設定恒定結構阻尼系數為 0.02。

使用Ansys LS-DYNA對電子產品外殼進行跌落測試仿真，展示了其撞擊剛性地板時的變形 使用仿真進行虛擬跌落測試時，工程師應考慮以下最佳實踐： 在可能的情況下，使用六面體（hex）單元創建高質量、精確的網格，確保厚度方向上分布有足夠的單元，并在需要時使用高階單元。相對均勻的單元尺寸也是關鍵。Ansys產品中有各種網格劃分工具可以幫助完成此過程。

其工作原理是將未被利用的光線偏振態反射回背光單元，在那里這些光可以被回收，并以正確的偏振態重新投射到顯示屏上。這一過程提高了整體光利用率，使顯示屏看起來更亮，同時又不增加功耗。

隨機掩模光柵被劃分為眾多方形單元，每個單元中光柵結構的存在與否呈隨機分布，而整個光柵的物理結構保持一致。沿出瞳擴展方向逐步提高光柵結構的存在概率，即可實現衍射效率的梯度分布，其效果與傳統多子區域光柵一致，但無需設計多種光柵結構，大幅降低了設計與制造難度。

QA波長范圍與波長掃描范圍相匹配。 與S參數掃描匹配的S參數掃描名稱 3.選擇上一步生成的仿真文件。 4.在第二頁，按如下方式填寫單元信息，您可以選擇包含的1x2MMI圖標。 在此步驟中，請確保CML編譯器路徑指向您的CML編譯器可執行文件。本文附帶的軟件包中提供了一個自定義圖標。