ansys設置系統變量的案例
Ansys使用APDL 批量創建數組，一維數組名設置循環變量，與二維數組等效
APDL 批量創建數組，在一維數組名上做文章，實現其與二維數組近似相同效果
首先批量創建了8個一維數組，數組名中的循環變量j使用%j%
finish
/prep7*do,j,1,8
*dim,List%j%,array,10,1
*enddo
然后給八個數組里的每一個元素賦值，總共80個元素
并且以數組元素值作為節點編號，同數組的y坐標值相同
*do,i,1,10
*do,j,1,8
List%j%(i,1)=(i-1)*10+j
n,List%j%(i,1),i,j
*enddo
*enddo
最終效果如下
注:轉自 https://blog.csdn.net/weixin_43717845/article/details/104567039
小白一枚，本為學習之余的記錄，希望能讓些跟我一樣的初學者少走彎路，寫的也不盡嚴謹，有疏漏錯誤之處也請各位專家指出，不吝賜教……多謝
展開 Ansys Zemax | 大功率激光系統的 STOP 分析1：如何使用 OpticStudio 優化光學設置
然后，我們執行全局優化，以實現具有合理光斑尺寸的系統。從 RMS 與視場分析中，我們看到系統的性能現在達到衍射極限。這只是 OpticStudio 全局搜索算法所發現的眾多可能的設計備選方案之一。
準備進一步分析
現在對最終優化的系統稍作調整，為接下來的設計和分析做準備。我們將只在軸上情況下使用該系統，所以除了 0 度之外的所有視場都被刪除了。在鏡頭前 40mm 處添加一個 X 傾斜角為 -90 度的反射鏡，并設置為系統光闌。將入瞳直徑減小到 18mm，并為所有光學元件分配 12.7mm 的固定半直徑（直徑25.4mm）。
打開 表面 #4 的 “表面屬性……繪圖（Surface Properties…Draw）” 選項卡，將 “厚度” 設置為 2.65mm。此設置不僅會影響序列模式下布局窗口中的繪圖，還會在將系統轉換為非序列模式時定義反射鏡的厚度。
如果不考慮鏡頭中的溫度變化，系統的聚焦在一定焦深范圍內是穩定的。這可以從 RMS 與聚焦的分析中看出，如下圖所示：
序列設計現在已經完成。您可以在文章附件中找到此文件 “Lens-3P_D25.4_2022.zar”，以供您參考。
結論
我們已經設置了我們的序列模式光學系統，并優化了其光學性能。下一步是準備我們的系統，以導出到 CAD 軟件中進行機械封裝設計。
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