陣列的案例
多通道DSP控制陣列高度的技術
多通道DSP控制揚聲器陣列高度的技術的具體實現包括以下關鍵步驟：
（1）驅動單元布置和間距選擇：它決定了陣列的實際物理高度和方向性特性。合理的驅動單元布置和間距選擇對于實現有效的高度控制至關重要。以下是實現驅動單元布置和間距選擇的一般步驟：
（1.1）理解應用需求：需要明確所需的聲音投射效果和陣列高度特性。考慮到房間大小、聽眾位置以及應用場景的要求，確定所需的陣列高度范圍和方向性特性。
（1.2）驅動單元布置模式：根據所需的陣列高度和方向性特性，選擇適當的驅動單元布置模式。常見的布置模式包括線性陣列、曲面陣列、密集陣列等。每種布置模式都會對聲音的水平和垂直分布產生不同的影響。
（1.3）驅動單元間距選擇：確定驅動單元之間的間距非常重要，這會影響到陣列的方向性和頻率響應。通常情況下，間距的選擇需要考慮到驅動單元尺寸、波長和所期望的陣列高度。
（1.4）數字模擬排列：確定驅動單元的具體位置和排列順序，以便進行數字模擬排列。這涉及到將揚聲器驅動單元與相應的放大器通道和DSP通道配對，并確保它們在實際布置中的一致性和協調性。
（1.5）仿真和調整：使用聲學仿真軟件或實際測量方法，對驅動單元布置和間距進行仿真和調整。這可以幫助評估陣列的預期效果并進行必要的優化。
（2）多通道放大器和DSP配置：每個驅動單元都需要一個獨立的放大器通道和一個DSP通道進行驅動控制。這些通道可以通過數字信號處理器（DSP）來控制驅動單元的電平、濾波、延遲等參數。以下是一般的配置步驟：
（2.1）確定系統需求：它包括所需的驅動單元數量、陣列高度范圍和方向性要求等。
展開 《先進功能材料》具有圖案陣列的超分子微膠囊
如上圖所示，通過超分子自組裝可以輕松地制備不同圖案的微陣列凝膠(a-c)；由于基板和聚合物的粘附，微滴并不會漂浮，同時油層使水分緩慢揮發，聚合物可以再水-油界面自組裝(d-f);由于水分的揮發，聚合物表面形成褶皺(g-i)。
圖3. 微陣列凝膠的藥物保留
(a) 水化后“劍橋大學”Logo；(b) (c) 染色前后的微陣凝膠；(d) ADA侵蝕支化的微陣列凝膠(e) ADA侵蝕線性微陣凝膠
如上圖所示，(a)圖中，水化后的微陣列凝膠表現為透明性；(b)(c)圖中，熒光染料的引入并沒有影響為超分子的自組裝形成微陣列凝膠；(d)(e)圖中，由于CB[8]機械鎖住聚合物鏈段，形成支化結構，ADA無法侵蝕微陣列凝膠，而對于線性的微陣列凝膠，ADA則能很快侵蝕。
圖4. 微陣列凝膠的藥物輸送能力
(a) 微陣列凝膠水化后的藥物保留能力；(b)線性和支化微陣列凝膠的藥物輸送速度；(c)藥物含量對微陣列凝膠藥物釋放的影響。
(a)圖中，支化微陣列凝膠比線性微陣列凝膠有較強的藥物保留能力； (b)圖中，線性微陣列凝膠在10 min內釋放80%藥物，而支化微陣列凝膠在10min內釋放20%藥物，之后在2h內釋放50%藥物，說明支化微陣列凝膠有較強且穩定的藥物釋放能力； (c)圖中，藥物含量對微陣列凝膠的藥物釋放有明顯的影響。
圖5. 微陣列凝膠固定金納米顆粒的光譜增強
(a) 金納米顆粒被固定在微陣列凝膠表面；(b)微陣列凝膠固定金納米顆粒前后的SERS光譜；(c)微陣列凝膠載入藥物后固定金納米顆粒的SERS光譜。
(a)圖中，微陣列凝膠固定金納米顆粒后，SERS光譜被增強；(b)(c)圖中，微陣列凝膠固定金納米顆粒后SEM圖；(d)(e)圖中，固定金納米顆粒后，微陣列凝膠載入藥物前后的SERS光譜都得到增強。
展開 Creo柔性建模中的識別陣列如何使用？
我們可以通過柔性建模中的識別陣列，將相同孔識別成一個陣列組，在裝配體里先安裝一個零件，然后使用參考陣列，從而可以實現快速裝配。我們通過下面的例子進行介紹。
方法：
1.如下圖所示，該零件上的所有螺栓孔都是通過拉伸創建的，而沒有采用陣列。
2.裝配一個螺栓，如下圖所示，此時我們是無法通過“參考陣列”對其他螺栓進行裝配的。
3.我們可以點擊柔性建模中的“陣列”，如下圖所示。
點擊下圖所示的螺栓孔，所有設置按照默認，此時系統自動識別出4個陣列實例。
4.這樣我們就可以通過參考陣列實現螺栓的陣列了，從而可以大大提供裝配的速度。
裝配完成。
5.我們還可以通過柔性建模中的陣列功能實現對其他中性格式的文件進行處理，如下圖所示。
6.點擊柔性建模中的“陣列”，選擇下圖所示的螺栓孔，如下圖所示。
7.先裝配一個螺栓，然后通過參考陣列對螺栓進行陣列。
總結：柔性建模中的識別陣列就是將相同特征識別成一個陣列組，它的一個重要用途之一就是利用參考陣列實現快速裝配。
文章來源：自學Creo
展開 ZEMAX | 如何模擬照明均勻的復眼透鏡陣列
如上圖所示為復眼透鏡陣列，該圖片由 In Vision 公司提供。陣列中每個獨立的光學元件的輪廓可以是方形或矩形的，并且每個光學元件的外形可以為球面或非球面（例如 X和 Y 方向光焦度不同的情況）。通常情況下，陣列中的光學元件只在一個表面上有光焦度，另一個表面通常為平面。
如果想要在 OpticStudio 中模擬該元件，最簡單的方式是使用透鏡陣列1 (Lenslet Array 1) 物體（也可以使用透鏡陣列 2 (Lenslet Array 2) 物體）。透鏡陣列1物體由矩形體陣列組成，每個單元的前表面為平面，后表面可由用戶自定義為曲面表面。陣列的表面可以為平面、球面、圓錐面或多項式表示的非球面，也可以為球面、圓錐面或多項式非球面系數表示的柱面。該物體類型的定義方式非常靈活，并且我們可以對陣列中每個元件的實際形狀進行優化。
上圖所示是使用一個透鏡陣列1物體生成的 7x5 矩形透鏡陣列，每個單元是球面透鏡的一部分矩形區域。我們也可以使用其他物體類型進行建模，例如透鏡陣列 2 物體或六邊形透鏡陣列 (Hexagonal Lenslet Array) 物體。
在序列模式下可以使用用戶自定義表面功能對透鏡陣列進行建模。OpticStudio 提供了球面陣列、圓錐非球面陣列、偶次非球面陣列以及柱形透鏡陣列的示例。
如何實現均勻照明
復眼透鏡陣列通常成對出現，并與聚光鏡一起為照明平面提供均勻的輻照度分布。第一個復眼透鏡陣列通常稱為物鏡陣列，第二個沿光軸的復眼透鏡陣列稱為場鏡陣列。在本例中我們首先考慮物鏡陣列。物鏡陣列的功能與相機中的物鏡類似，它用來對物體進行成像，或將本例中的光源成像在物鏡陣列的后焦面上，如下圖所示。
展開 
Ansys Zemax｜用于數字投影光學中均勻照明的蠅眼陣列
具有這種能力的設備之一就是一對蠅眼光積分器陣列。在本文中，我們將研究這些設備及其最佳設置。
什么是蠅眼陣列？
蠅眼陣列是由許多單個光學元件組裝成單獨的二維陣列光學元件，它用于將像面上非均勻的空間光線分布轉換為均勻的輻照度分布。使用蠅眼陣列的數字投影系統通常與含有能夠提供半準直入射光的拋物面反射器的大燈組件一起使用。目前，它們主要應用于LCD數字投影機燈光引擎中，對空間光調制器照明平面進行均勻照明。
上圖為蠅眼陣列（此照片由In Vision提供，網址為：www.in-vision.at)。陣列中的每個光學元件可以是正方形或長方形的，每個光學元件的表面可以是球面或是有一定變形的（在垂直和水平方向上的光焦度不同）。光焦度通常只在陣列的一個表面上，第二個表面通常是平面的。
在OpticStudio中建模這種設置的最簡單方法之一是使用陣列物體(array object)。提供的示例，選擇了透鏡陣列1(Lenslet Array 1)物體，它由矩形體陣列組成，每個矩形體的前表面為平面，后表面為用戶自定義數目的重復曲面。后表面可以是平面、球面、圓錐面、多項式非球面或環形表面。這使得陣列中透鏡元件表面形狀的定義和優化具有了極大的靈活性。下圖顯示了透鏡陣列1物體，它是由7 x 5個矩形透鏡組成的透鏡陣列，每個矩形透鏡都可以看作一個球面透鏡的矩形區域。
其它可以用于該應用程序的物體包括透鏡陣列2物體和六邊形透鏡陣列(Hexagonal Lenslet Array)物體。
展開 Ansys Zemax | 用于數字投影光學中均勻照明的蠅眼陣列
具有這種能力的設備之一就是一對蠅眼光積分器陣列。在本文中，我們將研究這些設備及其最佳設置。
什么是蠅眼陣列？
蠅眼陣列是由許多單個光學元件組裝成單獨的二維陣列光學元件，它用于將像面上非均勻的空間光線分布轉換為均勻的輻照度分布。使用蠅眼陣列的數字投影系統通常與含有能夠提供半準直入射光的拋物面反射器的大燈組件一起使用。目前，它們主要應用于LCD數字投影機燈光引擎中，對空間光調制器照明平面進行均勻照明。
上圖為蠅眼陣列（此照片由In Vision提供，網址為：www.in-vision.at)。陣列中的每個光學元件可以是正方形或長方形的，每個光學元件的表面可以是球面或是有一定變形的（在垂直和水平方向上的光焦度不同）。光焦度通常只在陣列的一個表面上，第二個表面通常是平面的。
在OpticStudio中建模這種設置的最簡單方法之一是使用陣列物體(array object)。提供的示例，選擇了透鏡陣列1(Lenslet Array 1)物體，它由矩形體陣列組成，每個矩形體的前表面為平面，后表面為用戶自定義數目的重復曲面。后表面可以是平面、球面、圓錐面、多項式非球面或環形表面。這使得陣列中透鏡元件表面形狀的定義和優化具有了極大的靈活性。下圖顯示了透鏡陣列1物體，它是由7 x 5個矩形透鏡組成的透鏡陣列，每個矩形透鏡都可以看作一個球面透鏡的矩形區域。
其它可以用于該應用程序的物體包括透鏡陣列2物體和六邊形透鏡陣列(Hexagonal Lenslet Array)物體。
展開 UG NX草圖 - 陣列曲線的使用
陣列曲線的布局為線性，線性對象是繪制的兩條輔助直線。
第一次陣列1個圓，方向1間距設置成數量5、節距12mm，方向2間距設置成數量2、節距12mm，陣列后共10個圓。
第二次陣列第二排中間3個圓，方向1間距設置成數量2、節距12mm。
通過兩次線性陣列獲得共13個圓。
【ANSYS官方干貨】5G仿真·非規則陣列天線仿真新突破
基于3D組件的有限大陣
基于3D組件的有限大陣列仿真方法能夠實現對非周期的陣列天線進行快速建模仿真。將陣列中不同的單元分別打包成3D組件，然后再根據陣列排布進行陣列創建，實現非規則陣列的有限大陣快速求解。
其主要原理大致如下：
在建模時，首先將陣列中不同結構的周期性單元分別創建為3D組件，然后利用這些組件去進行陣列的構建。此過程和利用3D組件做模型裝配類似，只是由于不同結構的單元在陣列中存在一定的周期性，可以利用陣列蒙版進行陣列的構建，所以創建的模型實際是復用了已有的3D組件，從而就減輕了軟件模型渲染的壓力。
在網格剖分時，是僅針對陣列模型中數個結構不同的3D組件進行網格剖分，然后再復用到其他相同的單元，從而極大的縮減了大規模陣列網格剖分的時間。
在求解時，陣列模型會自動把各個單元看作是一個個獨立的子域，進行并行計算，提高求解效率。
所以整體上基于3D組件的有限大陣方法是3D組件的網格裝配技術和傳統有限大陣方法的結合，既有3D組件網格裝配的網格復用功能，又有傳統有限大陣的并行求解速度。從而實現了對具有不相同單元的有限周期結構進行建模，這種新的仿真技術可以縮短內存使用量，縮短仿真時間，并且可以利用共享內存來利用分布式計算資源。
當然，進行基于3D組件的有限大陣仿真，對于單元也有一些要求：
單元格被定義為3D組件
單元格邊界框的尺寸是相同的
主單元和從屬邊界定義在單元的表面上
在求解過程中，HFSS在單位單元之間創建非共形網格接口，從而減少了內存占用并提高了仿真性能。
下圖是一個包含兩個不同極化子陣的天線陣列，另外每個子陣外圍還有部分空白基板區域。
展開 【轉載】Proe/Creo零件陣列教程
這個案例是CPU的散熱座，可用到切除與方向陣列(Direction)，如下教程～
Pro/Enginee中，陣列的類型共有七種，分別是尺寸陣列(Dimension)、方向陣列(Direction)、軸心陣列(Axis)、填充陣列(Fill)、表陣列(Table)、參考陣列(Reference)和曲線陣列。
陣列特征即將單個特征、特征組或陣列特征按照某種規則排列，生成大量形狀相同或相近的特征。常用于快速、準確地創建數量較多、排列規則且形狀相同或相近的一組結構。
第一步，先打開一個零件，拉伸的正方體（不知道如何畫正方體零配，可以參考下方鏈接proe5.0、creo拉伸實體？）
第二步，先畫出一個需要陣列的特征為標準，如下圖步驟
第三步，點擊需要陣列的特征，開始陣列
第四步，這次陣列需要方向陣列(Direction)，先選擇方向陣列，再填寫需要陣列的數量和陣列的尺寸，最后點擊勾完成陣列。
展開 鋁基體超疏水微柱陣列的掩膜電解加工研究
試驗結果
（1）通過掩膜電解加工過程對微柱陣列尺寸影響的有限元仿真，發現直流電源加工時存在側壁腐蝕，掩膜電解加工最終將得到具有一定錐度的微柱陣列，并據此確定了微柱陣列柱頂直徑d和柱高度h為衡量陣列結構尺寸的基本參數，結合對電解液電流效率特性的研究，擬合出了加工電流密度在3~7 A/cm2范圍內時，微柱陣列直徑d和高度h與電解加工電流密度I和加工時間t的代數關系，為微柱陣列尺寸的調控提供了依據。
（2）采用BP212-37S紫外正性光刻膠、菲林膠片掩膜板和質量分數為15%的NaNO3電解液進行掩膜電解加工試驗，證明了仿真結果與實際形貌只在場強分布較弱的柱結構側壁略有差異，仿真對關鍵尺寸參數d與h的預測結果較為準確。
（3）采用氟硅烷乙醇溶液對獲得的微柱陣列進行低表面能修飾，獲得了接觸角超過150°的超疏水表面。
（4）根據Cassie-Baxter理論模型，發現掩膜電解加工構建的超疏水微柱陣列的接觸角與Cassie-Baxter理論接觸角基本一致，并依靠這一關系，通過改變掩膜尺寸和電解加工參數可得到結構尺寸與接觸角皆可控的超疏水微柱陣列。
圖1 掩膜電解加工技術在鋁金屬基體上加工超疏水微柱陣列的有限元仿真過程
圖2 掩膜電解加工技術構建的鋁基體超疏水微柱陣列
結論
本文針對現有方法難以在金屬基體上構建超疏水微柱陣列，提出采用掩膜電解加工技術加工鋁基體超疏水微柱陣列，并通過仿真分析與實驗研究得出了電解加工參數對微柱陣列尺寸及潤濕性的影響規律，建立了微柱陣列尺寸及潤濕性的調控方法。
展開 飛秒脈沖激光空間光場調控的微透鏡陣列制備技術進展
作為最基本的微光學元件，微透鏡在多個領域都有非常廣泛的潛在應用，然而常見的面向透明硬脆材料微透鏡的制備方法效率低下，且對作業環境的要求較高，極大地限制了透明硬脆材料微透鏡陣列的大面積制備。
近日，清華大學樊華博士后、吉林大學王磊副教授和徐穎教授等人在《液晶與顯示》（ESCI、核心期刊）發表了題為“飛秒脈沖激光空間光場調控的微透鏡陣列制備技術進展”的綜述文章。
本文介紹了利用飛秒激光燒蝕結合濕法刻蝕制備硬脆材料微透鏡陣列的基本方法，并系統地分析了影響所制備微透鏡形貌的關鍵因素。通過在加工過程中對聚焦光斑的數量和位置進行精細調控，極大地提高了透明硬脆材料微透鏡陣列的加工效率，且可以在加工過程中動態地調整飛秒激光燒蝕改性的形貌，從而實現不同尺寸微透鏡陣列的高速制備。
引言
微透鏡陣列對表面質量和形貌要求比較高，因此對制備工藝提出了很嚴格的要求。科研人員提出了許多方法來實現具有高表面質量的微透鏡陣列的高效制備，比如：
針對柔性材料的熱壓印成型方法實現了大面積微透鏡陣列；
利用灰度光刻工藝和轉印方法在柔性的聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)襯底上實現了微透鏡陣列；
利用光刻和熱回流方式實現了基于聚二甲基硅氧烷材料的微透鏡陣列等。
上述方法可以實現具有較高表面質量的微透鏡陣列，但通常需要使用復雜的工藝和步驟。此外，這些微透鏡基質通常為軟質材料，材料本身的機械抗性和耐酸堿的能力比較差。相對而言，透明硬脆材料例如石英、藍寶石等由于其極高的硬度和極強的化學穩定性，在光學窗口、光學元件等方面的應用更加廣泛。
展開 
[VirtualLab論文] 用于M×N陣列波長選擇開關的光纖耦合微透鏡陣列設計
WSS中負責將空間光束與光纖耦合的端口陣列模塊，決定了M×N端口WSS的關鍵參數，如輸入/輸出端口數量和插入損耗。本文采用強大的物理光學仿真工具VirtualLab Fusion 2023.1（Build 1.558）軟件，設計優化了硅基微透鏡陣列，實現1143 μm間距光纖陣列的高精度耦合。最終，所設計的微透鏡經制造驗證，在3 dB插入損耗條件下展現出優異的聚焦能力。該微透鏡陣列耦合系統在傳輸約300 mm距離后，可生成28個直徑約1mm（光束1/e2直徑）的聚焦光斑，顯著擴展了波長選擇開關的端口數量。該微透鏡陣列設計方法顯著提升了M×N端口波長選擇開關的端口數量，成功擴展至令人矚目的28×28端口規模。
展開 Mater綜述：液滴微陣列--從表面圖案化到高通量應用
隨著對篩選通量要求的提高，人們提出了細胞微陣列的概念。對于常規的細胞微陣列方法，交叉感染是一個非常嚴重的問題，并且細胞陣列的密度以及通量受到限制。液滴微陣列為細胞的高通量陣列化提供了完美的解決手段。每個微液滴可看做獨立的細胞培養基，從而能夠保證高通量的情況下完全避免交叉感染。利用液滴微陣列技術，可實現細胞的高通量篩選、單細胞陣列的制備及培養、以及三維細胞培養等。
圖2 液滴微陣列在細胞方面的應用。A，細胞高通量篩選；B，單細胞分離；C，三維細胞培養。
3 水凝膠陣列化制備及應用
水凝膠是一種以水為分散介質的網狀交聯聚合物，可以為細胞生長提供適宜的微環境。與在二維平面細胞培養相比，水凝膠更能模擬體內細胞生長的真實環境。利用液滴微陣列，可以實現微型化水凝膠基質的高通量陣列化制備，從而可用于細胞培養及復雜微環境的篩選。水凝膠的尺寸取決于親水點的大小，并且可形成自支撐微團，比塑料孔板更加靈活及實用。
圖3 基于液滴微陣列的水凝膠陣列用于細胞培養
4 納米粒子自組裝
由于納米粒子具有獨特的尺寸依賴效應，制備具有特定維度的納米粒子陣列對于基礎研究及工業生產都具有十分重要的意義。目前來說，復雜形貌的大面積二維粒子圖案化制備仍是極大的挑戰。結合液滴微陣列技術，利用納米粒子分散液在圖案化浸潤性基底表面的不連續去浸潤過程可以制備分散液的微陣列。待溶劑蒸發完成后，可實現大面積、形貌規則可控的納米粒子組裝體制備。
展開 使用光柵陣列將LED照明整形成一個十字圖樣的設計與分析
導入所導入的是一個諧波場，在屬性瀏覽器中陣列大小需要設置成30×30mm。這個諧波場必須被轉化為一個數據陣列。
一個光柵單元陣列設計文件產生，它要求激活一個照明工具箱光路流程圖。
使用Signal Field Set按鈕來設置數據陣列，包括所期望的光場圖樣。一個光柵單元將折轉光線到數據陣列的數據點上。在點位置設置和在每個光柵單元引入隨即橫向偏移能夠減少像素效應。這個設計文件被儲存在“Scenario_317.01_LED_to_Cross_Light_Pattern_Shaping_03”中。點擊Go按鈕進行設計。
優化光路徑流程圖被存儲在文件“Scenario_317.01_LED_to_Cross_Light_Pattern_Shaping_04”中。通過使用光纖追跡代替場追跡可以進行光線分析。光線追跡中不包含衍射和干涉效應。
衍射、干涉和部分相干光效應的模擬需要在流程圖中選擇場追跡來實現。標對于LED光模擬將光源設置成標準的軸上點模型。相機探測器能夠顯示所有光柵單元產生的點的非相干重疊效果。
優化結果：
為了模擬具有擴展寬度的LED芯片，必須定義幾個模型。橫向模式的數目可以通過Mode Selection 頁面中的Lateral Level feature來進行控制。下圖中顯示的輸出場為5×5模式。
總結：VirtualLabTM能夠使用光柵單元陣列折轉光線進行照明系統設計。能偶進行光柵單元陣列的設計與分析，包括衍射、干涉、和部分相干效應。可以對光柵單元陣列進行整形和LED光源的均勻化。
展開 CAD路徑陣列如何使用最有效果？
<p>下面，我們將為大家詳細介紹<a href="https://www.zwcad.com/" rel="noopener noreferrer" target="_blank" style="color: rgb(204, 51, 51);">CAD</a>中路徑陣列的使用方法。感興趣的朋友們，不妨跟隨我們的步伐，一起來學習吧！</p><p><strong>第1步</strong>：請點擊陣列圖標中的“路徑陣列”選項，或者輸入命令“ARRAYPATH”后按空格鍵。</p><p><img src="https://www.allfunnies.com/wp-content/uploads/2025/01/202501030311239.png" alt="CAD如何使用路徑陣列" height="331" width="380"></p><p><strong>第2步</strong>：在圖形中選擇需要陣列的圓形對象，之后按空格鍵確認。</p><p><img src="https://www.allfunnies.com/wp-content/uploads/2025/01/2025010303115656.png" alt="CAD如何使用路徑陣列" height="416" width="415"></p><p><strong>第3步</strong>：接著，選擇用作陣列路徑的曲線，并再次按空格鍵確認。</p><p><img src="https://www.allfunnies.com/wp-content/uploads/2025/01/2025010303121479.png" alt="CAD如何使用路徑陣列" height="325" width="415"></p><p><strong>第4步</strong>：在此步驟中，我們需要設置陣列的參數。
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