PVD鍍膜的案例
專訪維達力：PVD裝飾鍍膜市場規模持續成長，Aluminlux?賦能全產業鏈高質量發展
AMOLED薄膜沉積領域PVD鍍膜市場規模趨勢分析
3. 導電膜玻璃領域PVD鍍膜市場規模趨勢分析
4. 導電薄膜領域PVD鍍膜市場規模趨勢分析
5. 先進顯示領域PVD鍍膜市場規模趨勢分析
6. 特種顯示領域PVD鍍膜市場規模趨勢分析
7. 其他顯示觸控領域PVD鍍膜市場規模趨勢分析
第四章 全球裝飾鍍層領域PVD鍍膜技術及市場發展趨勢
一、PVD鍍膜技術在裝飾鍍層領域應用介紹
1. PVD鍍膜技術在家電數碼領域應用介紹
2. PVD鍍膜技術在金屬配飾領域應用介紹
3. PVD鍍膜技術在日用五金領域應用介紹
二、PVD鍍膜技術在裝飾鍍層領域商業模式分析
1. PVD鍍膜技術在家電數碼領域商業模式分析
2. PVD鍍膜技術在金屬配飾領域商業模式分析
3. PVD鍍膜技術在日用五金領域商業模式分析
三、PVD鍍膜在裝飾鍍層領域市場規模趨勢分析
1. 家電數碼領域PVD鍍膜市場規模趨勢分析
2. 金屬配飾領域PVD鍍膜市場規模趨勢分析
3. 日用五金領域PVD鍍膜市場規模趨勢分析
第五章 全球其他領域PVD鍍膜技術及市場發展趨勢
一、PVD鍍膜技術在其他領域應用介紹
1. PVD鍍膜技術在新能源領域應用介紹
2. PVD鍍膜技術在半導體領域應用介紹
3. PVD鍍膜技術在建筑及交通領域應用介紹
4. PVD鍍膜技術在存儲領域應用介紹
5.
展開 PVD鍍膜應用市場不斷擴增，至2025年國內市場規模CAGR 13%
摘要：CINNO Research預測，隨著PVD鍍膜技術應用日趨廣泛，下游應用領域市場也保持上升趨勢，中國大陸PVD鍍膜市場規模將不斷擴張，到2025年國內市場規模將保持GAGR 13%的增速。
近年來功能材料薄膜和復合薄膜不斷出現多元化方向的需求，鍍膜技術及薄膜產品在工業上的應用日益廣泛，在電子材料領域中占有極其重要的地位。
這其中，鍍膜方法一般可以分為氣相生成法、氧化法、離子注入法、擴散法、電鍍法、涂布法、液相生長法等，氣相生成法又可以分為物理氣相沉積法、化學氣相沉積法和原子層沉積法。
物理氣相沉積法也稱PVD鍍膜技術，包括真空蒸發、濺射鍍膜和離子鍍等，是基本的薄膜制備技術，都要求沉積薄膜的空間要有一定的真空度。磁控濺射鍍膜是PVD鍍膜技術的一種，是近十幾年來發展迅速的一種表面薄膜技術，是最先進的表面處理方法之一。
CINNO Research預測，隨著PVD鍍膜技術應用日趨廣泛，下游應用領域市場也保持上升趨勢，中國大陸PVD鍍膜市場規模將不斷擴張，到2025年國內市場規模將保持GAGR 13%的增速。
圖示：2016-2025年中國大陸PVD鍍膜市場規模趨勢預測 來源：CINNO Research
PVD鍍膜技術優勢諸多
PVD鍍膜技術的實質就是在真空中進行氣相沉積，由于其在制備薄膜方面的特別優勢，已引起越來越多的重視。PVD鍍膜技術較傳統的電鍍等工藝方法，在成本、環保、產品質量、裝飾效果、能源消耗等方面均具有較大的優勢，在顯示、觸控、新能源、半導體、汽車等領域得到廣泛應用。
其中，磁控濺射鍍膜具有諸多優勢，例如薄膜與基體結合力好，薄膜致密度較高；濺射范圍廣，可以沉積鉭、鋁、銅、鈦等金屬靶材，也可沉積ITO、AZO等非金屬靶材；能夠實現大面積靶材的濺射沉積，且沉積均勻性好。
展開 表面處理技術分享（第十一講：鋅合金常見的表面處理技術介紹與技術選型建議）
鍍鉻、PVD鍍膜或拉絲+陽極氧化能提供絕佳的視覺效果。
* 通用工業環境：在性能和成本間尋求平衡，化學鍍鎳或鍍鎳+鍍鉻是常見選擇。
3.1.2 成本效益
* 成本敏感型：追求極致性價比，普通鍍鋅+鈍化或磷化處理是首選。
* 中等預算：希望在性能和成本間取得平衡，化學鍍鎳或噴涂是不錯的選擇。
* 高端產品：愿意為卓越性能和外觀支付更高成本，PVD鍍膜、鍍鎳+鍍鉻或鋅-鎳合金電鍍能帶來無與倫比的體驗。
3.1.3 裝飾需求
* 鏡面高光：鍍鉻或PVD鍍高鉻可實現。
* 金屬拉絲/啞光：通過拉絲處理或噴砂處理獲得。
* 多彩顏色：PVD鍍膜（如金色、槍色）或噴涂（可實現任何顏色）是主要途徑。
3.1.4 環保法規
隨著環保要求日益嚴格，應優先選擇無鉻鈍化、PVD、化學鍍鎳等環保型技術，逐步淘汰對環境影響較大的六價鉻工藝。
* 廢水處理：鍍鉻和化學鍍鎳工藝產生的廢水處理難度最大。
* 廢氣排放：噴涂工藝的揮發性有機物（VOCs）處理要求高。
* 固廢處理：電鍍和化學鍍過程會產生危險固體廢物，需嚴格按法規處理。
3.2 技術選擇參考
展開 先進高強鋼鍍層技術發展方向
而且，2017年安賽樂米塔爾投資6400萬歐元新建的鋼帶連續PVD生產線投產運行，該產線避免了鋼基體及鍍層的氧化，且鍍層附著力極好。目前該產線開發出兩種產品：1）Jetgal：第三代汽車鋼Fortiform鍍層；2）Jetskin：高表面質量鍍層，可替代電鍍鋅產品。產品規格為0.4-2.0mm×750-1550mm。
采用連續PVD鍍膜，可以實現復合高耐蝕、高耐磨復合功能涂層的沉積，開發出個性化產品，可以滿足用戶各種各樣且靈活多變的需求，將會使現有鋼鐵產品用戶使用習慣和鋼鐵生產工序產生巨變。
本文來源：世界金屬導報
天天為＂芯＂而鬧，一文看晶圓制造主要設備一覽
2017年全球營收前十大半導體設備公司
幾乎壟斷了高端光刻市場份額高達80%的ASML，在CVD設備和PVD設備領域都保持領先的美國應用材料（AMAT）以及刻蝕機設備領域龍頭Lam Research穩坐前三。下面將就沉積、刻蝕、光刻這三大領域及代表公司進行詳解。
1. 沉積設備
沉積是半導體制程工藝中的一個非常重要的技術，分為物理氣相沉積（PVD）和化學氣相沉積（CVD）。
PVD是英文Physical Vapor Deposition的縮寫，中文意思是“物理氣相沉積”，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術。
PVD鍍膜技術主要分為三類，真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜。對應于PVD技術的三個分類，相應的真空鍍膜設備也就有真空蒸發鍍膜機、真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機這三種。
CVD是英文Chemical Vapor Deposition的縮寫，中文意思為“化學氣相沉積”，是半導體工業中應用最為廣泛的用來沉積多種材料的技術，其可用于沉積大范圍的絕緣材料、大多數金屬材料和金屬合金材料。從理論上來說，化學氣相沉積法時將兩種或兩種以上的氣態原材料導入到一個反應室內，然后他們相互之間發生化學反應，形成一種新的材料，沉積到晶片表面上。
在集成電路制成中，經常使用的CVD技術有：大氣壓化學氣相沉積（APCVD）、低氣壓化學氣相沉積（LPCVD）、等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）以及新型氣相外延生長技術金屬有機化合物化學氣相沉積（MOCVD）等。相應的設備也就有APCVD設備，LPCVD設備，PECVD設備以及MOCVD設備。
2.
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2017年全球營收前十大半導體設備公司
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1. 沉積設備
沉積是半導體制程工藝中的一個非常重要的技術，分為物理氣相沉積（PVD）和化學氣相沉積（CVD）。
PVD是英文Physical Vapor Deposition的縮寫，中文意思是“物理氣相沉積”，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術。
PVD鍍膜技術主要分為三類，真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜。對應于PVD技術的三個分類，相應的真空鍍膜設備也就有真空蒸發鍍膜機、真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機這三種。
CVD是英文Chemical Vapor Deposition的縮寫，中文意思為“化學氣相沉積”，是半導體工業中應用最為廣泛的用來沉積多種材料的技術，其可用于沉積大范圍的絕緣材料、大多數金屬材料和金屬合金材料。從理論上來說，化學氣相沉積法時將兩種或兩種以上的氣態原材料導入到一個反應室內，然后他們相互之間發生化學反應，形成一種新的材料，沉積到晶片表面上。
在集成電路制成中，經常使用的CVD技術有：大氣壓化學氣相沉積（APCVD）、低氣壓化學氣相沉積（LPCVD）、等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）以及新型氣相外延生長技術金屬有機化合物化學氣相沉積（MOCVD）等。相應的設備也就有APCVD設備，LPCVD設備，PECVD設備以及MOCVD設備。
2.
展開 智能手表5大品牌CMF設計趨勢！
CMF方面
材料及工藝方面：
表的前蓋采用的是大曲率3D玻璃打造，通過15000秒精密拋光和AF納米真空鍍膜，讓整個表鏡圓潤光滑，且具備抗指紋抗刮花等功能性效果。Pro系列則為藍寶石玻璃鏡面，更堅固更耐磨；
表框材質為316L不銹鋼，采用了冷鍛、手工鏡拋和加硬PVD鍍層等工藝，Pro系列則采用了比不銹鋼還要高端的鈦合金材料，更彰顯了高級感；
后蓋采用的是氧化鋯陶瓷材質，通過陶瓷成型、高溫脫脂燒結后還需精密拋光打造，與肌膚的貼合感更好；
表帶材質有氟橡膠、尼龍、真皮（歐洲高級頭層小牛皮）、不銹鋼等多種選擇，Pro系列則增加了鈦合金表帶的選擇。價格不等，這也是CMF通過材料來拉開高中低檔位的一種體現。
3. vivo：vivo WATCH
vivo WATCH在CMF設計上很有特色，采用了多種材質、紋理及其他效果的組合，打造不一樣的設計。
CMF方面
表圈采用陶瓷材質打造，成型、脫脂、燒結后的半成品，表面再經過激光鐳雕打造細微的類似碳鋼的紋理效果，同時表圈每個面單獨拋光，形成自然過渡，凸顯陶瓷本身所呈現的光潔質感；
表體依然采用316L不銹鋼材質打造，表面經過拋光、遮蔽、噴砂等30多道工序打造，多處呈現光啞對比的外觀效果。其中42毫米表盤上采用的是高精度噴砂工藝及電化學拋光處理，讓質感再一次升級；
表帶采用的是氟橡膠與Nappa真皮材質（小公牛頭層皮）打造，觸感細膩，質地柔軟且透氣。
展開 關于PVD 表面處理技術及其應用
單傳統的TD、電鍍、熔射由于受變形量、鍍膜次數以及鍍膜均勻性的限制已不能滿足高速發展的需要。
為解決此類問題，在沖壓領域引進了一種新型表面處理工藝——PVD。PVD(Physical Vapor Deposition）——物理氣相沉積，是指利用物理過程實現物質轉移，將原子或分子由源轉移到基材表面上的過程。它的作用是可以使某些有特殊性能(強度高、耐磨性、散熱性、耐腐性等）的微粒噴涂在性能較低的母體上，使得母體具有更好的性能。
如圖1 所示，PVD 表面處理工藝的工作原理為：將要鍍膜處理的工件2 置于真空容器1 的電弧蒸發源3 中，在高真空條件下，通過電弧蒸發源加熱使其蒸發，當蒸發分子的平均自由程大于真空室的線性尺寸以后，蒸汽的原子和分子從蒸發源表面溢出后，很少受到其他分子或原子的沖擊與阻礙，可直接到達工件基體表面上，遇有基體溫度較低，便凝結其上而成膜。
圖1 PVD 工作原理
圖2 PVD 工作流程
PVD 表面處理技術要求
為了保證處理后的工件硬度和使用壽命，PVD 處理技術對原材料有一定的要求。
(1）材質要求：高速鋼、預硬鋼、熱作模具鋼、工具鋼、冷作模具鋼。比如：T10A 鋼、7SiCrMnMoV 鋼、CrWMn 鋼或Cr12Mo1V1 等。
(2）熱處理要求：工具鋼、冷作模具鋼材經過三次500℃以上的高溫回火。
(3）尺寸要求：最大尺寸600mm×400mm×280 mm。孔徑/孔深比或槽寬/槽深比應大于1。
(4）其他要求：模具上必須有可供上掛夾持用的孔、螺紋孔、臺階等，以供后續包綁、上掛用。
具體實施方式
超聲波清洗槽，每個槽里面的清洗劑含量逐漸降低，每個槽清洗時間為5 ～10min。②清水去污；分三個清水清洗槽，第一個槽清水噴淋，時間為3min，第二和第三個槽用超聲波清洗，時間均為3min。
展開 3D玻璃加工的五大難點！
玻璃一般分為2D,2.5D及3D玻璃，2D和2.5D玻璃防護屏產品的生產方法是將玻璃基板進行切割，通過精雕、光孔、拋光、強化、絲印、鍍膜等加工后，制成各種規格型號的產品。3D曲面玻璃的生產流程與2D和2.5D產品基本相同，最大區別在于新增熱彎成型設備。
手機3D玻璃蓋板生產加工工藝的流程主要包括：工程→開料開孔→精雕→研磨→清洗→熱彎→拋光→檢測→鋼化→開模→UV轉印→鍍膜（PVD）→ 印刷（絲印／噴涂）→鐳雕→檢包→貼合→ 包裝等，工藝流程長，品質要求高，而良率低。其難度主要體現在3D曲面成型、曲面拋光、曲面印刷、曲面貼合四大工藝上。
3D玻璃熱彎工藝起源于韓國，隨著近年來玻璃加工企業的迅猛發展，相關工藝得以傳承并發揚光大。但3D玻璃加工仍有不好難題難解決，限制了加工的良率目前玻璃熱彎工藝存在四大難點暨熱彎機，研磨及拋光，3D曲面印刷，3D貼合。
1、3D熱彎模具的選用
3D玻璃熱彎成型時將玻璃加熱到特定溫度軟化，采用特定形狀的，模具復制得到所需3D形態玻璃的成型工藝。熱彎工藝是3D玻璃制程中最核心的工藝之一，也是難點之一。
熱彎玻璃所使用的成型模具在熱彎玻璃成型過程中起著至關重要的作用，熱彎模具的種類主要分為三種:實心模、條框模、空心模。在實際生產過程中，可以根據不同的產品類型，選擇不同的熱彎模具。
實心模，顧名思義模具中間為實心，用鐵板制作成。此種模具的特點是容易保證玻璃的彎曲度和球面的一致，玻璃不會彎曲過頭，對操作人員要求不高;缺點是模具的制作成本高，制作周期長，在熱彎燒制過程中，模具吸熱多造成升溫慢，在燒制過程中容易造成玻璃表面出現麻點。
空心模采用角鋼和扁鋼制作。
展開 導套卡鉤表面處理斷裂原因與改善對策
某型號電腦開關按鈕導套為塑膠件，為使其更加美觀，需作金屬化處理，即真空鍍膜（PVD），但鍍Al膜后在裝配時發生卡鉤斷裂現象（如圖1），導致電腦按鈕無法實現正常的開關功能，嚴重影響產品品質。因該產品需批量生產，為此，要盡快找到產生問題的原因并提出解決方案。
圖1
一、制程分析
既然是真空鍍膜后出現的卡鉤斷裂，我們首先要從鍍膜制程來分析：
工件上掛具→開爐門→進爐→關門→抽真空→加熱蒸發Al絲→破真空→出爐
從整個鍍膜流程看，找不出導致卡鉤斷裂的原因，唯一有可能的是Al絲加熱，但Al絲是通過電阻絲瞬間高溫升華，且距工件至少50mm以上的距離，Al分子沉積到工件上，不可能導致其有明顯的升溫，這似乎不是產生斷裂的原因。
在真空段沒有找到原因，就必需要擴大搜索范圍。先從注塑開始，因在塑膠件上直接真空鍍Al，其附著力不好，需要噴涂底漆，也因為Al容易氧化或脫膜，故鍍Al后還需要噴保護漆，全流程如下：
注塑→退火→UV底漆+烘烤+ UV固化→真空鍍膜→UV面漆 +烘烤+ UV固化
這一過程較復雜，需要實驗驗證分析。試驗直接在生產線上進行，主要有：注塑機、退火設備、底漆噴涂UV固化生產線、面漆噴涂UV固化生產線、真空鍍膜機、產品組裝線、磅力計等。
二、成型參數與應力驗證
我們把工件分兩種注塑成型參數，一批為成型條件A，另一批為成型條件B，每批工件又分為去應力（退火）和不去應力兩種，然后完成涂裝和真空鍍膜的全部正常工序，試驗結果如表1：
從實驗數據我們可以看出：
1、不同成型條件對卡鉤斷裂的影響較大，其良率可以高達94%和低到10%。
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