吸收率
關(guān)注創(chuàng)建者：320科技工作室 創(chuàng)建時(shí)間：2022-09-10
吸收率的視頻教程
014 - FDTD隨機(jī)鋪撒在基底上的微鐵球吸光（含演示，26元）
方向的吸收率曲線； ·??建模過程錄制了時(shí)長為 20 min 的演示視頻（沒有聲音）。
￥26 21分鐘 12播放
查看
027 – COMSOL石墨烯超表面THz吸收器（含演示，80元）
石墨烯的電導(dǎo)率一般用 Kubo 公式描述，在本文中，由于研究的波段是 THz，所以可以將石墨烯的電導(dǎo)率近似為 Drude 模型。 本案例演示了如何在comsol中創(chuàng)建二維材料，計(jì)算了頻率為 0.5 ~ 2.5 THz 的入射光下該超表面的吸收率和電場分布。 計(jì)算的內(nèi)容和結(jié)果（手機(jī)端可能無法顯示圖片，請?jiān)陔娔X端查看）： 1、三種結(jié)構(gòu)的吸收率。
￥80 22分鐘 92播放
查看
008 - FDTD窄帶超表面吸收器（含講解視頻）
Xintong Gu等》，重復(fù)其中的圖2和圖3； ·??計(jì)算所需的內(nèi)存：8 GB； ·??基于Lumerical FDTD Solution求解，使用的軟件版本為Lumerical 2016a； ·??涉及的內(nèi)容：平面光源、監(jiān)視器-透反射率、編寫腳本繪制吸收率、創(chuàng)建分析組并編寫繪制電流密度分布、自定義網(wǎng)格 等； ·??繪制了：反射率、吸收率、電流密度分布（自己編寫腳本）； ·??建模過程錄制了時(shí)長為
￥80 54分鐘 91播放
查看
吸收率的實(shí)例教程
5
鐵液化學(xué)成分對增碳劑吸收率的影響
當(dāng)鐵液中初始碳含量高時(shí)，在一定的溶解極限下，增碳劑的吸收速度慢，吸收量少，燒損相對較多，增碳劑吸收率低。當(dāng)鐵液初始碳含量較低時(shí)，情況相反。另外，鐵液中硅和硫阻礙碳的吸收，降低增碳劑的吸收率；而錳元素有助于碳的吸收，提高增碳劑吸收率。就影響程度而言，硅最大，錳次之，碳、硫影響較小。因此，實(shí)際生產(chǎn)過程中，應(yīng)先增錳，再增碳，后增硅。
5
鐵液化學(xué)成分對增碳劑吸收率的影響
當(dāng)鐵液中初始碳含量高時(shí)，在一定的溶解極限下，增碳劑的吸收速度慢，吸收量少，燒損相對較多，增碳劑吸收率低。當(dāng)鐵液初始碳含量較低時(shí)，情況相反。另外，鐵液中硅和硫阻礙碳的吸收，降低增碳劑的吸收率；而錳元素有助于碳的吸收，提高增碳劑吸收率。就影響程度而言，硅最大，錳次之，碳、硫影響較小。因此，實(shí)際生產(chǎn)過程中，應(yīng)先增錳，再增碳，后增硅。
免責(zé)聲明：本文系網(wǎng)絡(luò)轉(zhuǎn)載，版權(quán)歸原作者所有。如涉及作品版權(quán)問題，請與我們聯(lián)系，我們將根據(jù)您提供的版權(quán)證明材料確認(rèn)版權(quán)并于接到證明的一周內(nèi)予以刪除或做相關(guān)處理！
展開 025 – COMSOL案例：周期性結(jié)構(gòu)的吸收率（僅模型文件，40元）
基本介紹：
主要內(nèi)容：根據(jù)發(fā)表在Scientific Reports上的論文《Strong and highly asymmetrical optical absorption in conformal metal-semiconductor-metal grating system for plasmonic hot-electron photodetection application，作者：Kai Wu等》，用COMSOL重復(fù)了其中的Fig.3(1)、Fig.4(b)、Fig.4(d)、Fig.4(f) ；
基于COMSOL頻域求解，使用的軟件版本為COMSOL 5.3 (5.3.0.223)；
計(jì)算所需的內(nèi)存：4 GB；
涉及的內(nèi)容：全局參數(shù)、組件耦合-積分、變量、自定義材料、端口、周期性條件、自定義網(wǎng)格、對波長的掃描 等；
繪制了：上層金屬和下層金屬的吸收率、吸收功率密度分布；
本案例僅包含模型文件，購買后不附帶答疑指導(dǎo)。
包含的文件截圖：
詳細(xì)描述：
如上圖所示，由 Au/ZnO/Au 三層材料構(gòu)成的光柵放置在 SiO2 襯底上。圖中 Λ = 600 nm、d1 = 60 nm 、d2 = 4 nm、d3 = 40 nm、w = 400 nm。在波長為 600 ~ 800 nm 的 TM 光照射下，計(jì)算上下兩層金對入射光的吸收率。
對特定區(qū)域計(jì)算吸收率需要在軟件中對該區(qū)域內(nèi)的吸收功率密度（單位 W/m3）進(jìn)行積分，得到該區(qū)域的吸收功率（單位 W），然后除以入射光功率得到吸收率。
計(jì)算的內(nèi)容和結(jié)果：
1、上層和下層金中的吸收率。
展開 特別是后者 的依賴性開辟了一條折射率傳感的道路，對于一定的折射率變化，LSPR現(xiàn)象將導(dǎo)致較大的光譜偏移，從而可以檢測介電環(huán)境微小的變化。在實(shí)際應(yīng)用中，金屬納米結(jié)構(gòu)的損失是不可避免的。 為了實(shí)現(xiàn)低損耗器件，人們通過優(yōu)化結(jié)構(gòu)幾何形狀和使用增益材料來降低損耗。超材料是共振金屬納米結(jié)構(gòu)，其晶胞遠(yuǎn)小于光的工作波長，通過正確設(shè)計(jì)超材料中的電磁響應(yīng)，可以實(shí)現(xiàn)完美的吸收。一般來說，在實(shí)際應(yīng)用中，理想的吸收體對入射角和光的偏振不敏感。</p><p class="ql-align-justify">我們的傳感器方案提出了潛在的折射率傳感器平臺(tái)，其中局域表面等離子體共振傳感基于簡單的反射率測量，只需使用單波長光源就可完成。圖 1 展示了吸收體傳感器結(jié)構(gòu)的幾何形狀。它由兩個(gè)功能層組成：最上層是金納米盤陣列，最下層是金鏡，這兩層由 MgF2 電介質(zhì)隔開。該結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)為在垂直入射時(shí)在 x 和 y 方向上與偏振無關(guān)。</p><div contenteditable="false" width="100%" class="ql-align-justify"><img src="https://p3-sign.toutiaoimg.com/tos-cn-i-axegupay5k/f60824320abb41ac838d27131f57563b~noop.image?
展開 勢吸收率幾乎相同，因?yàn)榉瓷?em>率為零，但膜層前面部分的吸收降低了分母上的Ienter的值，因此膜層后部的吸收率逐漸增加。
圖1具有吸收高折射率材料和無吸收低折射率材料的窄帶濾光片的計(jì)算。由于反射率為零，吸收率和勢吸收率幾乎相同。
吸收率的相關(guān)專題、標(biāo)簽、搜索
吸收率的最新內(nèi)容
隨后，在 OAS 材料庫中選擇或自定義紅外光學(xué)材料，并依據(jù)實(shí)際需求輸入詳細(xì)的光學(xué)參數(shù)，如折射率、吸收率等，將這些參數(shù)準(zhǔn)確定義在鏡頭表面，確保模型真實(shí)反映實(shí)際光學(xué)系統(tǒng)的物理特性。OAS軟件支持導(dǎo)入機(jī)械結(jié)構(gòu)以及其他光學(xué)軟件建立的鏡頭文件，實(shí)現(xiàn)光學(xué)-機(jī)械一體化建模。
? 光源設(shè)置
創(chuàng)建適用于紅外冷反射分析的光源。
一個(gè)吸收二向性x偏振片可以用no=1.61、ne=1.65、ko=100、ke=0模擬，一個(gè)線柵偏振片可以用no=1、ne=1.001、ko=100、ke=0模擬，虛數(shù)折射率代表吸收。在這種情況下，偏振的O光分量（垂直于晶軸）被吸收，只留下沿著+X晶軸的偏振分量。
偏振點(diǎn)圖
為監(jiān)測光通過系統(tǒng)的偏振情況，一個(gè)分析面可用于產(chǎn)生偏振點(diǎn)圖。
為了幫助完成這項(xiàng)任務(wù)，快速物理光學(xué)建模和設(shè)計(jì)軟件VirtualLab Fusion提供了各種工具，如分層介質(zhì)組件，這使得圖層系統(tǒng)的配置易于使用，并且可以通過我們的全面內(nèi)置數(shù)據(jù)庫選擇涂層的材料，或指定其光學(xué)特性，如折射率和吸收系數(shù)的實(shí)部。
在這篇簡報(bào)中，我們分享了分層介質(zhì)組件的介紹，以及基于CIGS的太陽能電池的模擬設(shè)置。
GLAD應(yīng)用：體全息光柵模擬1個(gè)月前
因此，采用體全息成像方法既可以研究靜態(tài)物體的高度與外形輪廓的變化，以及半透明物體(具有一定的折射率和吸收系數(shù))的內(nèi)部變化，又可以研究散射微粒的空間動(dòng)態(tài)物場分布。特別值得一提的是體全息成像系統(tǒng)還可以獲取光譜信息，即它能夠?qū)⑽矬w不同顏色的部分像彩虹一樣分開，因而還可以在像面不同位置處分別獲取待測物體的光譜信息。
課程從PIN結(jié)物理原理切入，講解其在載流子注入效應(yīng)下的折射率與吸收系數(shù)變化機(jī)制。學(xué)員將學(xué)習(xí)利用Lumerical Multiphysics（多物理場求解器）構(gòu)建完整的PIN結(jié)模型，設(shè)置摻雜濃度、電極位置及偏壓條件，求解得到穩(wěn)態(tài)載流子分布和I-V特性。
在此基礎(chǔ)上，課程將演示光學(xué)與電學(xué)仿真協(xié)同。
該材料基于尖端的納米結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)與精密制備工藝，實(shí)現(xiàn)了對可見光波段（380-780nm）高達(dá)99.5%以上的極致吸收率，其表面反射率低于0.5%，創(chuàng)造了前所未有的“視覺黑洞”效果與光學(xué)性能。
技術(shù)優(yōu)勢：
極致黑度與低反射： 采用獨(dú)特的納米級孔隙與吸光結(jié)構(gòu)，能有效捕獲并耗散入射光線，將漫反射和鏡面反射降至極低水平，是目前已知最黑的人工材料之一。
精準(zhǔn)測量萬物的“熱指紋”：紅外發(fā)射率測量儀3個(gè)月前
</li><li class="ql-align-justify"><strong>節(jié)能建材與新能源</strong>：精確評估建筑保溫材料、太陽能吸收涂層的發(fā)射率，直接關(guān)系到建筑的節(jié)能效率與光伏產(chǎn)品的能量轉(zhuǎn)換效率。
2) 調(diào)制過程：
施加反向偏置電壓→PN結(jié)空間電荷區(qū)變寬→耗盡區(qū)內(nèi)載流子濃度減小→波導(dǎo)折射率和吸收系數(shù)改變→實(shí)現(xiàn)電光調(diào)制。
3) 電極結(jié)構(gòu)：
為獲得足夠的調(diào)制深度，采用載流子耗盡型的調(diào)制器長度較長，通常為幾個(gè)毫米，因此需要采用行波電極來驅(qū)動(dòng)。
因此外部調(diào)制器件也可分為電吸收型和折射率改變型，根據(jù)能量形式的不同，折射率改變型又可分為：電光調(diào)制、熱光調(diào)制、聲光調(diào)制以及磁光調(diào)制。
Macleod：吸收工具5個(gè)月前
因此我們寫了一個(gè)光學(xué)薄膜
一個(gè)膜系的吸收率是一個(gè)可以計(jì)算的參數(shù)，它能與反射率和透射率一起作為二維和三維圖的可選參數(shù)列出。此外，還有兩個(gè)工具可以處理吸收率，它們隱藏在設(shè)計(jì)分析部分，即Absorptance Rate和Total Absorptance。
