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帖子 Ansys Zemax光學設計軟件技術教程:眼科片設計
在光學設計上常使用的最小化Seidel斜向像散的方法可過在OpticStudio的評價函中加入ASTI操作達成目的,此時我們將目標設為0、加大權重,並且使用單一波長。在縮小遠點球面上最小模糊圈的方面,我們可以過OpticStudio的預設優化函和光點半標準等功能達成目的。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
Ansys Zemax光學設計軟件技術教程:眼科鏡片設計
帖子 ZEMAX軟件技術應用專題:如何在OpticStudio中設計DOE或超穎
注意,採用這種結構,的最大允許直可能嚴格取決於入射光束的相干程度和焦距。本文將不討論設計帶區的原理。Figure 3 菲涅耳波帶片系統佈局圖但是,如果現在使用POP分析建模相同的情況,則將觀察到光束開始聚焦在成像表面上,如圖4所示。在這裡,我們從束腰尺寸為2.6 mm的高斯光束開始並將光束聚焦下降到束腰約0.4毫米的斑點。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
ZEMAX軟件技術應用專題:如何在OpticStudio中設計DOE透鏡或超穎透鏡
帖子 ZEMAX軟件技術應用專題:智慧型手機頭模組
使用 OpticsBuilder,機構工程師可以創建複雜的邊緣、安裝特徵和模組外殼,同時利用 Zemax 光線追跡直接查看這些元件如何影響光學性能。在這種情況下,頭邊緣可能會為雜散光提供路以污染圖像。 OpticsBuilder 不僅可以在之間創建擋板,而且還允許設計團隊了解抑制雜散光源的有效性。
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ZEMAX軟件技術應用專題:智慧型手機鏡頭模組
帖子 ZEMAX軟件技術應用專題:在 OpticStudio 中模擬階雷射光束
通常,可以過求解近軸波動方程來找到雷射的輸出。該方程最廣為人知的解法是理想的單模高斯光束的解法。存在依賴於給定係統對稱性的其他正交解集。1 它們可用於對階光束模式進行建模。在這篇Blog中,我們描述了 OpticStudio 中可用於表徵階雷射光束的模型。定義後,此類光束可以在 OpticStudio 中使用物理光學傳播設計的任何光學系統中傳播。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
ZEMAX軟件技術應用專題:在 OpticStudio 中模擬高階雷射光束
帖子 ZEMAX軟件技術應用專題:如何使用ZOS-API創建飛行時間用戶分析
這些資料是用OpticStudio提供的現有圖形來顯示,用於大多分析。此模式不允許對當前頭系統或使用者介面進行更改(即:在這種模式下只允許對系統的副本進行更改)。自訂分析可以用C++ (COM)或C# (.NET)編寫。本文的自訂分析是用C#編寫的。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
ZEMAX軟件技術應用專題:如何使用ZOS-API創建飛行時間用戶分析
帖子 ZEMAX軟件技術應用專題:如何為光學相干斷層掃描系統建模
軸向分辨率完全來自光源特性,應在5μm的量級上。 來自樣品處光束半的橫向分辨率應為15μm。800 nm範圍內的光將用於避免組織中的吸收,這會限制穿透。光源規格OCT將干涉測量技術與寬帶近紅外光結合使用。 較寬的帶寬可提供最佳分辨率,而波長選擇可確定樣品材料中的穿透深度。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
ZEMAX軟件技術應用專題:如何為光學相干斷層掃描系統建模
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