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由于電磁場的矢量性質，偏振效應通常在現代光學研究和工程中起重要作用。線性偏振鏡（例如線柵偏振鏡）可能是用于操縱偏振態的最常用的光學元件。 盡管在大多數情況下，偏振鏡設計用于傍軸情況，但它們也用于非傍軸設置，例如， 在高NA透鏡后面的聚焦區域或測量高傾斜偏振鏡后面的Stokes參數。 在VirtualLab Fusion中，我們為非傍軸情況下的偏振鏡提供了一個模型。

由于電磁場的矢量性質，偏振效應通常在現代光學研究和工程中起重要作用。線性偏振鏡（例如線柵偏振鏡）可能是用于操縱偏振態的最常用的光學元件。 盡管在大多數情況下，偏振鏡設計用于傍軸情況，但它們也用于非傍軸設置，例如， 在高NA透鏡后面的聚焦區域或測量高傾斜偏振鏡后面的Stokes參數。 在VirtualLab Fusion中，我們為非傍軸情況下的偏振鏡提供了一個模型。

對於眼鏡的設計者而言，根據不同的人眼參數和視覺環境打造出能產生最佳影像品質的鏡片設計是十分具有挑戰性的。當作者在澳洲Flinders大學教導視光學 (Optometry)時，時常要求學生以OpticStudio建構一組特殊的鏡片，達成夜間、槍械狙擊鏡、辦公環境或者是孩童友善等各式不同的使用目的。同時，非球面鏡參數和影像波前等數值也被列入評分的標準。

或者，參考文獻[3]顯示了如何使用Lumerical FDTD軟體為給定的相位曲線設計超穎透鏡。這種方法的缺點是設計人員可能無法檢查整個系統的性能。例如，沒有辦法考慮所有繞射階數來檢查點擴展函數（PSF）。類似地，儘管可以追蹤“非有效”的順序光線，但沒有計算出繞射效率，因此沒有辦法知道雜散光路中的功率比。

光源應為一束準直的寬帶光束；大帶寬意味著低相干性和高精度定位產生相干性的深度。深度掃描也稱為軸向掃描或A掃描，它根據反射到樣品中的距離來測量反射光的強度。 儘管它在OCT系統的類型之間有所不同，但深度掃描通常由參考鏡執行，以使樣品返回的光對應於樣品和參考之間的特定光程差（OPD）。 透過以x或y方向旋轉掃描鏡來執行橫向，橫向或b掃描，從而在整個樣品區域上平移探測光束。

Jones Matrix根據下方的式子改變電場的Jones向量上式中的A, B, C, D皆為複數形式。在鏡頭數據編輯器(LDE)和非序列元件編輯器(Non-Sequential components editor)，我們可以在Jones Matrix後方的欄位輸入各元素的實數及虛數部分，以定義不同的Jones Matrix。

這篇Blog介紹了 OpticStudio 中的原生體積全像模擬功能，該功能可以在考慮其物理特性的情況下，在序列模式下對全像光柵進行全面模擬和分析。在非序列模式下也透過使用 DLL 展示了相同的功能。這些分析對於設計用於虛擬實境 (VR) 和增強實境 (AR) 的抬頭顯示器 (HUD) 和頭戴型顯示器 (HMD) 等系統非常重要。我們將介紹模型中使用的理論和參數。