由于電磁場的矢量性質，偏振效應通常在現代光學研究和工程中起重要作用。線性偏振鏡（例如線柵偏振鏡）可能是用于操縱偏振態的最常用的光學元件。 盡管在大多數情況下，偏振鏡設計用于傍軸情況，但它們也用于非傍軸設置，例如， 在高NA透鏡后面的聚焦區域或測量高傾斜偏振鏡后面的Stokes參數。 在VirtualLab Fusion中，我們為非傍軸情況下的偏振鏡提供了一個模型。 此外，VirtualLab獲得的仿真結果與參考文獻具有良好的一致性。

聚焦區域處的偏振鏡

為了在非傍軸設置中模擬偏振鏡，在VirtualLab中實現了理想化模型，并且呈現了偏振鏡在聚焦區域中的效果。

傾斜偏振鏡背后的Stokes參數

使用理想化的非傍軸偏振鏡模型，研究了偏振鏡與來自不同角度的入射波的相互作用，并且使用Stokes參數來表征結果。