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這些分析對於設計用於虛擬實境 (VR) 和增強實境 (AR) 的抬頭顯示器 (HUD) 和頭戴型顯示器 (HMD) 等系統非常重要。我們將介紹模型中使用的理論和參數。序列模式的體積全像在OpticStudio的所有版本上都可以使用，但是繞射效率分析只有訂閱制才能使用。DLL是訂閱制旗艦版本的功能。

陣列透鏡是照明系統中有用的光學元件。它是將單個光學元件組裝或形成為單個光學元件的二維陣列，用於在照明平面上將光從非均勻分佈空間轉換為均勻輻照度分佈。這篇文章討論了複眼空間光學積分器在數位投影機中的使用，以及如何在 OpticStudio 中對此類元素進行建模。在數位投影器設計中，我們希望確保數位光源在輻照度分佈方面與投影圖像相匹配。

但人眼系統具有相對較小的光瞳尺寸，因此在此類系統的設計上，一般會認為球差和彗差並不十分重要。同理，其餘的像差在此也可先行忽略。隨著自由曲面製程技術的演進，光學設計者得以摒除許多以往的限制條件。同時，OpticStudio具有優越的運算能力，可以進行規模較大的系統和更多影像參數的模擬。得益於此，眼科鏡片的設計可以有更進一步的改善，我們將在以下的文章中詳述。

然後可以看到系統自動加入兩個Coordinate Break以及相關設定，如下。最後在確保把Chief的長度設定到出瞳的Radius上。便可以看到系統現在如下。打開評價函數，重新輸入以下數值驗證。可以看到目前的最大視場 (Hy=1) 邊緣光線 (Py=-1) 的波前差等於3.555676，跟OPD Fan中的結果一致。

“Gaussian Waist”光束定義的輸入參數的進一步描述可以在標題為“關於物理光學傳播”的Help系統部分中找到。Laguerre-Gaussian 模態對於圓柱對稱的雷射腔設計，即具有圓形增益孔徑，Laguerre-Gaussian模態提供了對近軸波動方程的適當解。這些模式的電場分佈可以寫成Laguerre polynomials。

在本設計中，將先前優化完成的長波通與短波通膜系分別鍍于基板兩側，構建出濾光片的基本結構。右圖展示了當前的透射光譜，可以看出透射帶尚未達到設計要求。

本文介紹了FRED中光線代系的概念，它既適用于鏡面反射事件也適用于散射事件。與代系相關的約定將以圖形方式說明。 光線的代系區分與入射光線（與界面相交時）分散為透射，反射和/或散射有關。 諸如父母，子女，孫子女等或世代[0,1,2，..]等族譜術語通常用于描述此屬性。

有一點必須要特別注意的，Jones Matrix並不會因為Ez的變化產生改變 (系統預設入射光垂直入射偏振片)。一般而言，偏振片和玻板(waveplate)確實是用在準直入射光線或發散角(divergence angle)極小的情況下。假如是入射光束是準直的，且與Jones Matrix互相垂直。

本文介紹了FRED中光線代系的概念，它既適用于鏡面反射事件也適用于散射事件。與代系相關的約定將以圖形方式說明。 光線的代系區分與入射光線（與界面相交時）分散為透射，反射和/或散射有關。諸如父母，子女，孫子女等或世代[0,1,2，..]等族譜術語通常用于描述此屬性。可在光線控制(Raytrace Controls)的設置中對此參數進行調整。

這種方法的缺點是設計人員可能無法檢查整個系統的性能。例如，沒有辦法考慮所有繞射階數來檢查點擴展函數（PSF）。類似地，儘管可以追蹤“非有效”的順序光線，但沒有計算出繞射效率，因此沒有辦法知道雜散光路中的功率比。

儘管它在OCT系統的類型之間有所不同，但深度掃描通常由參考鏡執行，以使樣品返回的光對應於樣品和參考之間的特定光程差（OPD）。 透過以x或y方向旋轉掃描鏡來執行橫向，橫向或b掃描，從而在整個樣品區域上平移探測光束。我們從商用OCT系統中獲取目標規格。 軸向分辨率完全來自光源特性，應在5μm的數量級上。 來自樣品處光束半徑的橫向分辨率應為15μm。

該膜系能夠有效反射藍綠波段的光，同時透過紅光，使其在反射視角下呈現青色效果。 應用場景 設計一個反射型青色二向色濾光膜，目標是在45°入射時，625-725 nm通帶內平均透射率>99%,在400-565 nm截止帶內平均透射率<1%.

應用場景 設計一款冷反射鏡，在初始膜系結構的基礎上，通過拓寬截止帶并減小通帶波紋，以提升整體光譜性能，目標是在45°入射角下實現400–690?nm波段內平均透射率低于1%，在750–1100?nm波段內平均透射率高于99%。 ? 設計結果 設計結果如圖所示，45入射時，截止帶平均反射率<1%, 通帶平均反射率大于99%，滿足設計指標。

目標函數入射角為22.5°，初始波長為450nm，終止波長為600nm，控制點128個，按對數分布，所有控制點的s光和p光的透射率設置為75%，容差1%。圖2 初始膜系設置圖3 目標函數設置圖4 初始膜系的透射率和反射率光譜及目標值3.

桿系與子彈 材料18Ni；金屬材料均進行過熱處理，所有桿件端面垂直度均可達到0.02mm 以內，桿徑和端面粗糙度達到 Ra0.8 以上。5. 中心支撐部件 由基座、開合上座、三向移動調整定位機構、高精度軸承、壓蓋、手動調整機構等構成。主要特點在統一基準導軌下可使不同直徑桿系沿軸向運動為滾動摩擦，滑動輕快，自調整極其方便，最大優點受力合理使桿系工作壽命大大延長。 6.

本文介紹了FRED中光線代系的概念，它既適用于鏡面反射事件也適用于散射事件。與代系相關的約定將以圖形方式說明。 光線的代系區分與入射光線（與界面相交時）分散為透射，反射和/或散射有關。 諸如父母，子女，孫子女等或世代[0,1,2，..]等族譜術語通常用于描述此屬性。 可在光線控制(Raytrace Controls)的設置中對此參數進行調整。

用于入射、鏡面反射和散射方向矢量的坐標系如下圖1所示。在透射的情況下，鏡面方向矢量與入射方向矢量相同。在反射的情況下，鏡面方向矢量在z方向上改變符號。圖1.方向矢量坐標系除了設置 Excel 對象和指定方向向量之外，腳本中只有幾個散射模型本身的特定命令。使用特定于 scatter 的腳本命令包括：FindScatter–返回散射模型的節點編號。

摘要 在本案例中，選用常規的對稱周期膜系作為初始設計，并通過優化膜層厚度，成功設計出一種通帶為 400–650 nm、截止帶為 676–820 nm 的短波通濾光膜。 應用場景 通過優化初始結構的厚度，目標是在0°入射時，400-650 nm通過，平均透射率>99% 。676-820nm截止，平均光密度>2.0。

摘要 線柵偏振器，可以使透射光產生線性偏振狀態，是眾多應用中常見的一種光學元件。由于它們的結構在亞波長范圍內，因此必須對光的傳播進行嚴格的處理。VirtualLab的偏振分析器及其內置的RCWA能夠詳細分析和優化，不僅是偏振器，還有抗反射結構和其他類型的光柵。它提供了與偏振有關的反射和/或透射衍射階數的信息，同時還可以分析效率與波長和/或入射角的關系。

使用公式工具構建了上述膜系作為基礎結構，右圖展示了其在525 nm-575 nm范圍內45°入射時的光譜?？梢钥闯龃藭r不達標。 關于公式工具的更多信息: Tutorial: Formula Tool 采用 Nelder-Mead 算法對各層厚度進行優化，目標是在 530–570 nm 波長范圍內、45° 入射時將p光和s光的透射率等于50%。