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ZEMAX軟件技術應用專題:利用Kogelnik方法模
擬
體積全像光柵的繞射效率
這篇Blog介紹了 OpticStudio 中的原生體積全像模
擬
功能,該功能可以在考慮其物理特性的情況下,在序列模式下對全像光柵進行全面模
擬
和分析。在非序列模式下也透過使用 DLL 展示了相同的功能。這些分析對於設計用於
虛
擬
實境 (VR) 和增強實境 (AR) 的抬頭顯示器 (HUD) 和頭戴型顯示器 (HMD) 等系統非常重要。我們將介紹模型中使用的理論和參數。
2122
w**elab86_Swsp
??? 3年前
帖子
Ansys Zemax光學設計軟件技術教程:眼科鏡片設計
同時,OpticStudio具有優越的運算能力,可以進行規模較大的系統和更多影像參數的模
擬
。得益於此,眼科鏡片的設計可以有更進一步的改善,我們將在以下的文章中詳述。傳統設計方式對於人眼而言,存在一個
虛
擬
的“遠點”,這個點代表了我們可以清楚看到物體的極限距離。在這個點之外的景物,將會成像於視網膜前方。當眼球轉動時遠點的距離不會改變,因此會以這個距離為半徑形成一個“遠點球”。
2212
w**elab86_Swsp
??? 3年前
帖子
Zemax光學設計技術教程:如何使用Jones Matrix表面
在模
擬
的過程中,會將入射光因為元件表面鍍膜、反射和吸收而造成的能量損耗納入考量。一般的情況下,OpticStudio可以對大多數的鍍膜或雙折射材料進行完整的分析。但有時因為分類數據報告(Prescription data)不夠齊全,在進行模
擬
時會需要簡化後的模型。舉例而言,當我們無法得到真實的鍍膜資訊時,OpticStudio中的理想(IDEAL)和表定(TABLE)鍍膜設定就可以派上用場。
2425
w**elab86_Swsp
??? 3年前
帖子
ZEMAX軟件技術應用專題:在薄膜計算中Ray以及Field系數是什麼?
入射光的電場並非用
單
一個點來描述,相對的,我們會假設該電場比多重光束干涉發生的區域更大許多。在Zemax OpticStudio中,我們使用field係數來表示這個結果,這些係數已經被薄膜膜層的程式驗證過許多次。薄膜理論的慣例是計算平面法向量方向上的相位變化,這表示其假設了一個
虛
擬
的平面波從薄膜最外層一路傳播到基板。
1939
w**elab86_Swsp
??? 3年前
視頻
地表最強半導體封裝前處理 - Ansys Mechanical/Stacker Mesh Workflow
第四
單
元
:Underfill Fillet 建模與複雜曲面處理高階挑戰:處理底層填膠 (Underfill) 溢料圓角的網格連續性。非規則幾何的 Stacker 實作技巧:如何將 Fillet 融入堆疊工作流。網格質量診斷與優化:針對封裝熱機模
擬
(Thermal-mechanical) 的高品質六面體網格最終檢查。
1421
2
鄭鈞 Adam
??? 4月前
帖子
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docs.qq.com/sheet/DRFFmWUd6UXVTcVZG設計工具 分類 工具名稱 通用設計工具 NOVEX切削數據估算 單相異步電機設計 彈簧設計 連桿機構設計小程序 泵國標效率 表面粗糙度與
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2
3
清風慕竹_2364
??? 4年前
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