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Moldex3D模流分析之Tokyo Seiki公司使用模流大幅減少試模次數
以 DVD 光碟機的內部機構件為例,除了平整度的要求外,由於原始設計的流道重於成品體
積
(20g:16g),而客戶要求 Tokyo Seiki 減輕流道重量,經過五次的變更設計分析,流動指數的比較為 88%:99%,流道
與
成品體
積
比較為 10g:16g。
2210
Moldex3D 中國
??? 3年前
帖子
ZEMAX軟件技術應用專題:用於數位元投影光學中均勻照明的陣列透鏡 (蒼蠅眼)
它是將單個光學元件組裝或形成為單個光學元件的二維陣列,用於在照明平面上將光從非均勻
分
佈空間轉換為均勻輻照度
分
佈。這篇文章討論了複眼空間光學
積
分
器在數位投影機中的使用,以及如何在 OpticStudio 中對此類元素進行建模。在數位投影器設計中,我們希望確保數位光源在輻照度
分
佈方面
與
投影圖像相匹配。因此,這種限制要求投影器設計包含均勻照明的空間光調製器 - 通常採用 LCD 面板的形式。
2000
w**elab86_Swsp
??? 3年前
帖子
Ansys Zemax光學設計軟件技術教程:眼科鏡片設計
同時,非球面鏡參數和影像波前等數值也被列入評
分
的標準。透鏡參數在光學設計上常使用的最小化Seidel斜向像散的方法可透過在OpticStudio的評價函數中加入ASTI操作數達成目的,此時我們將目標值設為0、加大權重,並且使用單一波長。在縮小遠
點
球面上最小模糊圈的方面,我們可以透過OpticStudio的預設優化函數和光
點
半徑標準等功能達成目的。
2212
w**elab86_Swsp
??? 3年前
帖子
負體積(節點速度無限大)解決辦法
</p><p> </p><p>QQ::</p><p>負體
積
是由於element本身產生大變形造成自我體
積
的內面跑到外面接著被判讀為負體
積
,</p><p>控制使element不出現不合理變形的方法就如同dragonwen
與
ayke所說的幾
點
,注意使Hourglassing情形減少,有以下幾個方法可以試看看</p><p>1.避免單
點
loading=&gt;不要將force施在單一node
5436
9
不問出處
??? 1年前
視頻
地表最強半導體封裝前處理 - Ansys Mechanical/Stacker Mesh Workflow
第三單元:局部錫球 (Local Bump) 建模實戰封裝核心組件:BGA/Micro-bump 的網格劃
分
難
點
分析。局部加密技術:如何在維持全局 Stacker 邏輯下,針對錫球進行精細化網格處理。確保錫球
與
基板 (Substrate)、晶圓 (Die) 介面間的
節
點
匹配
與
應力傳遞精度。
1406
2
鄭鈞 Adam
??? 4月前
帖子
ZEMAX軟件技術應用專題:在 OpticStudio 中模擬高階雷射光束
隨著 e 接近 ∞,當由 Ince-Gaussian DLL 計算的特徵值解發散時,就會到達一個
點
。這種發散行為是計算算法的限制。當達到發散
點
時,Ince-Gaussian DLL 產生的結果變得不準確。不幸的是,對於唯一的 e 值,這一
點
不會出現(還依賴於 p、m 和光束極性)。但是,確定何時產生不同的解決方案很簡單。
2057
w**elab86_Swsp
??? 3年前
帖子
ZEMAX軟件技術應用專題:如何在OpticStudio中設計DOE透鏡或超穎透鏡
許多設計過程需要兩種不同的光學理論/算法來
分
別處理光束在自由空間和微結構中的傳播,而其他一些過程僅使用純光線追跡來達到目標。由於模擬技術發展迅速,因此本文可能沒有涵蓋所有可用方法。如果用戶提供新訊息或有任何要求,請隨時
與
我們聯繫,我們可以相應地更新本文。
2186
w**elab86_Swsp
??? 3年前
帖子
Zemax光學設計技術教程:如何使用Jones Matrix表面
有一
點
必須要特別注意的,Jones Matrix並不會因為Ez的變化產生改變 (系統預設入射光垂直入射偏振片)。一般而言,偏振片和玻板(waveplate)確實是用在準直入射光線或發散角(divergence angle)極小的情況下。假如是入射光束是準直的,且
與
Jones Matrix互相垂直。
2425
w**elab86_Swsp
??? 3年前
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