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摘要 掠入射反射光學在x射線束線中得到了廣泛的應用，特別是在Kirkpatrick-Baez橢圓鏡系統中 [A. Verhoeven, et al., Journal of Synchrotron Radiation 27.5 (2020): 1307-1319]。使用兩個物理上分離的橢圓鏡聚焦光束的兩個維度即可完成聚焦。系統可以將入射的X射線聚焦到納米級的光斑尺寸。

摘要 掠入射反射光學在x射線束線中得到了廣泛的應用，特別是在Kirkpatrick-Baez橢圓鏡系統中 [A. Verhoeven, et al., Journal of Synchrotron Radiation 27.5 (2020): 1307-1319]。使用兩個物理上分離的橢圓鏡聚焦光束的兩個維度即可完成聚焦。

摘要 掠入射反射光學在x射線束線中得到了廣泛的應用，特別是在Kirkpatrick-Baez橢圓鏡系統中 [A. Verhoeven, et al., Journal of Synchrotron Radiation 27.5 (2020): 1307-1319]。使用兩個物理上分離的橢圓鏡聚焦光束的兩個維度即可完成聚焦。系統可以將入射的X射線聚焦到納米級的光斑尺寸。

摘要 掠入射反射光學在x射線束線中得到了廣泛的應用，特別是在Kirkpatrick-Baez橢圓鏡系統中 [A. Verhoeven, et al., Journal of Synchrotron Radiation 27.5 (2020): 1307-1319]。使用兩個物理上分離的橢圓鏡聚焦光束的兩個維度即可完成聚焦。系統可以將入射的X射線聚焦到納米級的光斑尺寸。

但是，對於這種類型的DOE，光線追跡引擎將無法正常工作。垂直入射到DOE上的光線不會改變其方向，因為表面沒有傾斜。但是，垂直入射的光束可以用適當設計的菲涅耳波帶片聚焦。此效果應由OpticStudio中的POP處理。如圖3所示，在該系統中，準直光束入射在玻璃板上。在玻璃板的背面，已使用菲涅耳波帶片表面類型創建了同心二元結構。

用于X射線束的掠入射聚焦鏡 Kirkpatrick-Baez (KB)反射鏡將掠入射的X射線場聚焦成一個納米尺度的光斑。在這個用例中，演示了這種 KB 反射鏡系統的建模和評價。

X射線束的掠入射聚焦鏡 Kirkpatrick-Baez 鏡將掠入射X射線場聚焦到一個納米級的點上。本用例展示了Kirkpatrick-Baez鏡的分析設計過程和焦點區域的衍射圖樣。 用于X射線成像的單光柵干涉儀 在用于X射線的單光柵干涉儀中采用了三種類型的光柵(僅通過相位傳輸建模)，并對所選光柵的自成像進行了研究。

在本通訊中，我們展示了兩個X射線成像實驗：(1)使用Kirkpatrick-Baez鏡創建納米級X射線成像點；(2)用單光柵干涉儀說明相襯X射線成像原理。 X射線束的掠入射聚焦鏡 Kirkpatrick-Baez 鏡將掠入射X射線場聚焦到一個納米級的點上。

X射線束的掠入射聚焦鏡 Kirkpatrick-Baez 鏡將掠入射X射線場聚焦到一個納米級的點上。本用例展示了Kirkpatrick-Baez鏡的分析設計過程和焦點區域的衍射圖樣。 用于X射線成像的單光柵干涉儀 在用于X射線的單光柵干涉儀中采用了三種類型的光柵(僅通過相位傳輸建模)，并對所選光柵的自成像進行了研究。

摘要掠入射反射光學元件在X射線光路中廣泛使用，特別是Kirkpatrick-Baez（KB）橢圓反射鏡系統。（A. Verhoeven, et al., Journal of Synchrotron Radiation 27.5 (2020): 1307-1319）聚焦是通過使用兩個物理分離的橢圓反射鏡聚焦二維光束來實現的。進入系統的X射線可以通過系統聚焦到納米尺度大小的光斑。

參數：非準直入射激光束 4. 參數：準直透鏡和后續光線 5. 參數：雙合透鏡(*)來自肖特2014玻璃 應用示例詳細內容 仿真&結果 1. 如何優化(預設置) ? 通過雙合透鏡的優化，使給定條件的準直入射光束聚焦在透鏡后20mm處。

應用示例詳細內容 系統參數 1.應用實例的內容 該案例是一組相關示例中的一部分： BDS.0001，BDS.0002以及BDS.0003主要關于一個折射型光束傳輸系統 2.設計任務 3.參數：非準直入射激光束 4.參數：準直透鏡和后續光線 5.參數：雙合透鏡

操作原理非常簡單：對于準直入射光束，輸出光束以預先設計的分離角度和強度出射DOE，通過光束整形器，激光束被聚焦成設計好的尺寸和形狀。 DOE的常見應用包括醫療系統、測量以及科學/研究應用——特別是DOE提供的激光束成形和均勻化技術對于材料加工至關重要1。 雖然DOE用途廣泛，功能強大，但由于功能強烈依賴于光波波長2 ，其具有很高的色散效應。

操作原理非常簡單：對于準直入射光束，輸出光束以預先設計的分離角度和強度出射DOE，通過光束整形器，激光束被聚焦成設計好的尺寸和形狀。 DOE的常見應用包括醫療系統、測量以及科學/研究應用——特別是DOE提供的激光束成形和均勻化技術對于材料加工至關重要1。 雖然DOE用途廣泛，功能強大，但由于功能強烈依賴于光波波長2 ，其具有很高的色散效應。

菲涅爾波帶片可用于不同的波長，因此其在X射線成像、光譜學、攝影和望遠鏡等許多應用中極具價值。衍射分束器衍射分束器是將入射光光束分成多個光束輸出或衍射級次的光柵。每個輸出光束都保留與輸入光束相同的光學特性。這類器件通常用于激光等設備中的單色光，并針對特定的波長和衍射角進行設計。

如果選擇"Both"，將為X和Y偏振的場和波長的每個組合構建兩條光線。 如果"基板中的射線"選項被選中，則入射射線來自光柵基板。否則光線會從基板外射出并擊中光柵。 設置系統后，單擊"創建測試系統"，會在\Zemax\Samples\RCWA_Analyze_x.zmx生成相應系統文件，其中x是累積的整數。該系統包括光柵、探測器和圖36中示例中的若干測試光線。

串行模式示例 1在這個范例中，我們演示了如何快速檢查全息上不同入射角的衍射效率。首先，我們打開附件中的native_vhg_kog_seq_example1.zar。在這個文件中，設計了一個全息，將45度的入射準直光束衍射和聚焦到遠處。圖 16. 布局途中的全像范例建構系統的參數設置如下圖 17. 鏡頭數據編輯器中的全息建構參數這意味著構建系統如下圖所示。

如果光線確實沿Z軸準直入射系統，則該表面可以提供理想的分析結果，并描述出P和S偏振態的變化及透過率的變化。OpticStudio也允許在斜入射的情況下使用瓊斯矩陣表面，但這種情況下該分析功能只能提供近似結果。并且矩陣無法考慮電場在Z方向上的分量產生的影響，即雙折射現象或菲涅爾效應等。如果使用瓊斯矩陣來模擬光延遲器件，則入射光必須垂直于該表面。

如果光線確實沿Z軸準直入射系統，則該表面可以提供理想的分析結果，并描述出P和S偏振態的變化及透過率的變化。OpticStudio也允許在斜入射的情況下使用瓊斯矩陣表面，但這種情況下該分析功能只能提供近似結果。并且矩陣無法考慮電場在Z方向上的分量產生的影響，即雙折射現象或菲涅爾效應等。如果使用瓊斯矩陣來模擬光延遲器件，則入射光必須垂直于該表面。

混合模式的布局光線先經過一個常規的序列模式系統，隨后入射到棱鏡或導光管等非序列系統光路中對像面進行照明。下圖展示了一個光線在混合模式系統中傳輸的例子。平行光從輸入口進入30-60-90棱鏡中，發生數次全反射，并最終由輸出口射出。射出后恢復光線追跡，經過一個凸透鏡進行聚焦。 混合模式的光線追跡要依靠名為輸入口和輸出口的端口。