光刻膠涂覆晶圓隨后會(huì)被涂覆光敏材料“光刻膠”(也叫“光阻”)。光刻膠也分為兩種——“正性光刻膠”和“負(fù)性光刻膠”。正性和負(fù)性光刻膠的主要區(qū)別在于材料的化學(xué)結(jié)構(gòu)和光刻膠對(duì)光的反應(yīng)方式。對(duì)于正性光刻膠,暴露在紫外線下的區(qū)域會(huì)改變結(jié)構(gòu),變得更容易溶解從而為刻蝕和沉積做好準(zhǔn)備。
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第三代半導(dǎo)體聯(lián)合創(chuàng)新孵化中心 ??? 3年前