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ZEMAX軟件技術應用專題:在 OpticStudio 中模擬高階雷射光束
存在依賴於給定係統
對
稱
性
的其他正交解集。1 它們可用於
對
高階光束模式進行建模。在這篇Blog中,我們描述了 OpticStudio 中可用於表徵高階雷射光束的
模型
。定義後,此類光束可以在 OpticStudio 中使用物理光學傳播設計的任何光學系統中傳播。
2057
w**elab86_Swsp
??? 3年前
帖子
ZEMAX軟件技術應用專題:如何為光學相干斷層掃描系統建模
OCT測量系統依賴於邁克森干涉儀 (Michelson interferometer),使得從參考物反射的光與樣品之間的相干
性
表明散射光源自樣品中與參考鏡的位置相
對
應的深度。本文將逐步介紹如何在OpticStudio中創建商業上可用的OCT
模型
。
模型
系統健康人眼的角膜和虹膜(A)以及視網膜組織(B)的橫截面圖像如下所示。 顏色變化
對
應於返迴光強度的變化。
2221
w**elab86_Swsp
??? 3年前
帖子
Ansys Zemax光學設計軟件技術教程:眼科鏡片設計
如下圖,
對
一個遠視的眼睛而言,其遠點球位於眼球的後方。在OpticStudio中,眼科鏡片的設計看起來是十分簡單的。我們可以輸入鏡片後表面頂點處的屈光率作為此表面的一組解,此時系統便只剩鏡片前表面的曲率半徑(或
稱
為基本曲線)這個唯一變數。下圖我們可以看到前述的-3.00D範例的LDE設定 (此時後表面頂點的屈光率是-0.003mm^-1)。
2212
w**elab86_Swsp
??? 3年前
帖子
ZEMAX軟件技術應用專題:在薄膜計算中Ray以及Field系數是什麼?
經過一番如魔術般建設
性
以及破壞
性
干涉後,最後的結果可以用巨觀的反射以及穿透係數來表示。入射光的電場並非用單一個點來描述,相
對
的,我們會假設該電場比多重光束干涉發生的區域更大許多。在Zemax OpticStudio中,我們使用field係數來表示這個結果,這些係數已經被薄膜膜層的程式驗證過許多次。
1939
w**elab86_Swsp
??? 3年前
帖子
ZEMAX軟件技術應用專題:利用Kogelnik方法模擬體積全像光柵的繞射效率
這篇Blog介紹了 OpticStudio 中的原生體積全像模擬功能,該功能可以在考慮其物理特性的情況下,在序列模式下
對
全像光柵進行全面模擬和分析。在非序列模式下也透過使用 DLL 展示了相同的功能。這些分析
對
於設計用於虛擬實境 (VR) 和增強實境 (AR) 的抬頭顯示器 (HUD) 和頭戴型顯示器 (HMD) 等系統非常重要。我們將介紹
模型
中使用的理論和參數。
2122
w**elab86_Swsp
??? 3年前
帖子
Zemax光學設計技術教程:如何使用Jones Matrix表面
一般的情況下,OpticStudio可以
對
大多數的鍍膜或雙折射材料進行完整的分析。但有時因為分類數據報告(Prescription data)不夠齊全,在進行模擬時會需要簡化後的
模型
。舉例而言,當我們無法得到真實的鍍膜資訊時,OpticStudio中的理想(IDEAL)和表定(TABLE)鍍膜設定就可以派上用場。相似的,Jones Matrix可以在缺乏實際
模型
的情況下,用來表示偏振元件。
2425
w**elab86_Swsp
??? 3年前
視頻
地表最強半導體封裝前處理 - Ansys Mechanical/Stacker Mesh Workflow
局部加密技術:如何在維持全局 Stacker 邏輯下,針
對
錫球進行精細化網格處理。確保錫球與基板 (Substrate)、晶圓 (Die) 介面間的節點匹配與應力傳遞精度。第四單元:Underfill Fillet 建模與複雜曲面處理高階挑戰:處理底層填膠 (Underfill) 溢料圓角的網格連續
性
。
1421
2
鄭鈞 Adam
??? 4月前
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