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光學相干斷層掃描（OCT）是一種斷層成像系統，可以根據從圖像反射或散射的光生成橫截面或三維圖像。 醫用組織成像是該系統的最典型應用，因為OCT安全且具有高分辨率，儘管光可以穿透的深度限制在毫米量級。OCT測量系統依賴於邁克森干涉儀 (Michelson interferometer)，使得從參考物反射的光與樣品之間的相干性表明散射光源自樣品中與參考鏡的位置相對應的深度。

模型頁簽 (Model Tab) 2. 建立流道系統 (Runner System) 流道系統由澆口、流道與進澆點組成。若要建置流道系統，必須先設定澆口、建立下一個流道，最后是定義進澆點。 ?設定澆口 (Set Gate) 點擊澆口 Gate 將會顯示澆口型式選擇面板。面板會顯示 Moldex3D 支持澆口的類型：針點澆口、直接進澆點、側邊澆口、扇形澆口、

4．1 磁制冷 是指利用具有磁化放熱、退磁吸熱的磁制冷材料獲取冷量的制冷方式，因為系統小、無運動部件、運行可靠、無環境污染等特點，磁制冷在微型制冷系統中的應用不斷擴展。磁制冷材料是磁制冷系統的核心，Gd系材料，GdSiGe 系材料，Mn 基化合物，LaFeSi 系材料等是目前磁制冷材料的研究重點。

我們在一個光學系統中有幾組透鏡元件，它們沿著光軸沿著預定義的軌跡移動，從而提供了光學系統最終焦距（變焦係數）的變化。在 Alvarez變焦鏡頭的情況下，我們有一對所謂的Alvarez鏡頭，這些鏡頭元件相互之間的橫向位移提供了光學系統焦距的變化。傳統變焦鏡頭與 Alvarez變焦鏡頭的主要區別在於，傳統系統鏡頭沿光軸運動，而Alvarez系統鏡頭則沿垂直於光軸的方向運動。

在這里，制冷百科在啰嗦一句，R32制冷劑設備一定要抽真空，一定要禁明火！R32制冷劑易溶于油，難溶于水。破壞臭氧潛能值ODP為 0，全球變暖系數值GWP為670。壓力比R22約高60%。產品需耐高壓，用于維修的工具與設備也需耐高壓。壓力與R410A相當，R32與R410A熱力性能非常接近。

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繞射光學元件（DOE）和超表面/超穎透鏡在光學系統設計中越來越受歡迎，其應用範圍從手機鏡頭到AR / VR耳機，從3D傳感到照明。但是，對於包含 DOE 或超穎透鏡的系統進行模擬和設計總是很棘手的。沒有通用的方法可以處理所有情況。設計人員需要根據具體情況決定其系統的策略。

而在大多數實際環境中，單選擇型熱發射體的制冷性能會劇烈降低，相比非選擇型發射體的制冷優勢并不明顯，甚至可能更差，這顯然限制了輻射制冷材料的實際應用。02成果掠影近日，清華大學化工系張如范課題組在輻射制冷材料研究方面取得重要進展。

2.3 典型應用案例 離心式制冷壓縮機在設計階段經過結構強度和轉子軸系動力學校核后，以及裝配過程中滿足動平衡精度等級后，機械性振動噪聲得到有效控制，而氣動噪聲相對突出。離心式制冷壓縮機氣動噪聲與葉輪、蝸殼和擴壓器等部件密切相關。如葉輪的翼型、葉片的出口角、葉片前緣傾斜、葉片尾緣傾斜、蝸殼的前蓋傾斜和蝸殼的寬度等，對離心式制冷壓縮機噪聲均有影響。

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但人眼系統具有相對較小的光瞳尺寸，因此在此類系統的設計上，一般會認為球差和彗差並不十分重要。同理，其餘的像差在此也可先行忽略。隨著自由曲面製程技術的演進，光學設計者得以摒除許多以往的限制條件。同時，OpticStudio具有優越的運算能力，可以進行規模較大的系統和更多影像參數的模擬。得益於此，眼科鏡片的設計可以有更進一步的改善，我們將在以下的文章中詳述。

空間上相同經緯度坐標點在1954年北京坐標系、1980西安坐標系及2000國家大地坐標系下具有不同的大地平面坐標（統充一采用高斯投影6度分帶)。

其中二氧化釩(VO2，相變溫度約為 68℃) 和硫系化合物(GST，相變溫度約為 150℃) 熱致變色材料在相變前為紅外透射率高的半導體態，相變后為紅外吸收率高的金屬態。Tang Kechao 等將 WxV1-xO2 嵌入到銀膜上層的 BaF2 介質層中，其結構如圖 3(a) 所示，通過吸收共振的設計可將材料室溫熱發射率從半導體態的 0.20 切換至金屬態的 0.90。

此模式不允許對當前鏡頭系統或使用者介面進行更改（即：在這種模式下只允許對系統的副本進行更改）。自訂分析可以用C++ (COM)或C# (.NET)編寫。本文的自訂分析是用C#編寫的。有關自訂分析的更多資訊，請點擊程式設計(Programming)選項卡>關於ZOS-API (About the ZOS-API) >自訂分析 (User Analysis)，查看內置幫助檔。

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存在依賴於給定係統對稱性的其他正交解集。1 它們可用於對高階光束模式進行建模。在這篇Blog中，我們描述了 OpticStudio 中可用於表徵高階雷射光束的模型。定義後，此類光束可以在 OpticStudio 中使用物理光學傳播設計的任何光學系統中傳播。

陣列透鏡是照明系統中有用的光學元件。它是將單個光學元件組裝或形成為單個光學元件的二維陣列，用於在照明平面上將光從非均勻分佈空間轉換為均勻輻照度分佈。這篇文章討論了複眼空間光學積分器在數位投影機中的使用，以及如何在 OpticStudio 中對此類元素進行建模。在數位投影器設計中，我們希望確保數位光源在輻照度分佈方面與投影圖像相匹配。

智慧型手機是地球上最普遍的消費技術之一，包含大量高科技光學系統。大多數都有多個相機單元，這對設計師和製造商提出了挑戰，以滿足嚴格的性能、成本和尺寸要求。在這篇Blog中，我們將討論 Zemax 解決方案如何幫助應對和克服這些挑戰。智慧型手機鏡頭模組用於智慧型手機相機的鏡頭模組非常複雜，每個模組都包含多個鏡頭元件。

現任全國制冷標準化技術委員會（TC119）委員、全國家用電器標準化委員會智能家電分技術委員會（TC46/SC15）委員、中國制冷學會學術工作委員會委員、中國制冷學會科技評估工作委員會副秘書長、中國制冷學會數據中心冷卻工作組委員、中國電子學會綠色數據中心專家工作委員會委員、暖通空調產業技術創新聯盟數據中心專業委員會理事、天津市制冷技術重點實驗室學術委員會委員等。