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實(shí)際的熔化溫度非常困難取得，通常會(huì)用噴嘴溫度或最後區(qū)域溫度取代。然而，不真實(shí)的熔化溫度會(huì)誤導(dǎo)進(jìn)一步的製程，而無(wú)法透過(guò)射出成型產(chǎn)生高性能產(chǎn)品。然而，ScrewPlus 在射出成型初期階段擷取真實(shí)熔化溫度上扮演著重要的角色。尤其是，ScrewPlus 可幫助我們?cè)诼菅兰羟嗅峁烙?jì)真實(shí)的熔化溫度，而非只能挑選噴嘴溫度或最後區(qū)域溫度。此外，可用於評(píng)估熔件的溫度均勻性，這可控制整個(gè)射出成型的品質(zhì)。

入射光的電場(chǎng)並非用單一個(gè)點(diǎn)來(lái)描述，相對(duì)的，我們會(huì)假設(shè)該電場(chǎng)比多重光束干涉發(fā)生的區(qū)域更大許多。在Zemax OpticStudio中，我們使用field係數(shù)來(lái)表示這個(gè)結(jié)果，這些係數(shù)已經(jīng)被薄膜膜層的程式驗(yàn)證過(guò)許多次。薄膜理論的慣例是計(jì)算平面法向量方向上的相位變化，這表示其假設(shè)了一個(gè)虛擬的平面波從薄膜最外層一路傳播到基板。

該模型的輸入是階數(shù) p 和度數(shù) m、束腰 (w0)、光束的半焦距 (f0) 和光束極性（0 = 偶數(shù)；1 = 奇數(shù)）；最後一個(gè)輸入決定了光束是由偶數(shù)還是奇數(shù) Ince 多項(xiàng)式描述的。 Bandres 和 Gutiérrez-Vega 的論文中提供了上述每個(gè)輸入的完整描述。 2 列出了一些未使用的輸入，以便該模型的輸入表結(jié)構(gòu)與 OpticStudio 中內(nèi)置的高斯腰模型的結(jié)構(gòu)相匹配。

最後在確保把Chief的長(zhǎng)度設(shè)定到出瞳的Radius上。便可以看到系統(tǒng)現(xiàn)在如下。打開(kāi)評(píng)價(jià)函數(shù)，重新輸入以下數(shù)值驗(yàn)證。可以看到目前的最大視場(chǎng) (Hy=1) 邊緣光線 (Py=-1) 的波前差等於3.555676，跟OPD Fan中的結(jié)果一致。在Wavefront Map中也可以驗(yàn)證到。

OpticStudio實(shí)際上測(cè)量的不是時(shí)間，而是光線路徑長(zhǎng)度，也就是物體和探測(cè)器之間的距離。探測(cè)器檢視器(Detector Viewer)可以顯示探測(cè)器上輻射特性的測(cè)量結(jié)果，但它不顯示從雷射雷達(dá)光源返回到雷射雷達(dá)探測(cè)器的光線經(jīng)過(guò)的距離。這就是ZOS-API派上用場(chǎng)的時(shí)候！自訂分析可以顯示探測(cè)器到物體的距離資料，從而反映飛行時(shí)間的資訊。

隨著手機(jī)變得更薄，軌道總長(zhǎng)度通常小於 5 毫米。 OpticStudio 中可用的表面類型範(fàn)圍，包括 Even 和 Q 型非球面，為設(shè)計(jì)人員提供了滿足規(guī)格的靈活性。雖然性能要求至關(guān)重要，但確保設(shè)計(jì)可以製造並在構(gòu)建時(shí)性能良好也同樣重要。這裡有許多考慮因素。可製造的特定鏡片形狀將受到限制。

有保溫或飾面過(guò)厚時(shí)，須在保溫層和飾面施工前用小一號(hào)的 PVC 管接長(zhǎng)預(yù)埋 的 PVC 管與飾面或保溫層面平齊，接管應(yīng)膠接或用牢固且不滲漏的可靠連接方 法。外保溫與 PVC 管間若有縫隙，用打發(fā)泡膠的方式封堵。