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然而，為了準確地說明體積全像的特性，除了考慮繞射光線的傳播方向外，還必須考慮繞射效率、材料收縮或折射率變化等因素。考慮繞射效率使用戶能夠進行圖像模擬和綜合優化等高級分析。表面反射光柵與體積全像光柵的比較在介紹這個模型之前，我們先簡單解釋一下表面反射光柵（SRG）和體積全像光柵（VHG）的區別。

如參考文獻[4]中所述，需要一個巨集來掃描不同Z位置的PSF並創建圖。1.4 參數化 DOE 矢高-> POP像上述方法一樣，可以透過在OpticStudio中對二進制矢高建模來模擬菲涅耳波帶片。但是，對於這種類型的DOE，光線追跡引擎將無法正常工作。垂直入射到DOE上的光線不會改變其方向，因為表面沒有傾斜。但是，垂直入射的光束可以用適當設計的菲涅耳波帶片聚焦。

透鏡參數在光學設計上常使用的最小化Seidel斜向像散的方法可透過在OpticStudio的評價函數中加入ASTI操作數達成目的，此時我們將目標值設為0、加大權重，並且使用單一波長。在縮小遠點球面上最小模糊圈的方面，我們可以透過OpticStudio的預設優化函數和光點半徑標準等功能達成目的。

記住這三個數字：* Chief ray 在出瞳上的位置是1.651577781670081* Chief ray在出瞳空間中的角度是11.96474523412040* Chief ray從出瞳到像面的距離是110.4592649799319 接下來我們使用Tilt/Decenter工具來移動並傾斜出瞳，如下。

同樣，OpticStudio 提供了分析特性的能力，例如最大局部表面斜率，並在優化過程中控制這些特性以確保最終的光學設計是可製造的。射出成型技術使可能的創新光學機構設計技術，具有大規模生產的模塊很多好處。鏡頭可以設計成具有復雜的邊緣特徵，使它們能夠堆疊，從而簡化組裝並消除對齊的需要。Zemax 工具使注塑光學元件的可能性最大化變得簡單。

圖4 雙遠心系統MTF傳遞函數圖 圖5 雙遠心系統場曲/畸變圖 圖6 雙遠心系統點列圖（二）公差分析：保障工業可制造性實際加工裝配中的誤差可能導致系統性能下降，團隊通過Zemax的靈敏度分析工具開展公差分析： 設定公差范圍：曲率半徑±0.01mm，厚度±0.02mm，X/Y偏心±0.01mm，傾斜±0.02°，折射率±0.0003

5.入子的靠位部分長度公差為-0.02，大小公差為-0.10，模仁相對應的靠位公差為+0.02。6.有C 角的入子最底端到C 角部位的公差為+0.01，以防跑毛邊。7. 本體模具的主體部分用NAK80 的材料，入子、梢等用SKH9、SKH51（材料處理：室化處理，也可以不要）的材料，必要時可以使用VIKING 材料。

165.當3D 寸法公差為單向公差時，應向客戶檢討，盡量調為雙向公差﹔對大面積肉薄部品為保證成形厚度，采用追加澆口﹔有時表面不能拋太光，特別是作鏡面時，會粘住離型不良，#5000 就會發生真空凝質，可再拋粗一些﹔做光學鏡片的材料，鋼材應含鎳15%以上。

附件下載聯系工作人員獲取附件本文提出并演示了一種以二維光柵為外耦合器的出瞳擴展器（EPE）系統的仿真方法，并給出了優化和公差分析的實例。在此工作流程中，我們使用 Lumerical 構建光柵模型，并使用 RCWA 求解器模擬其響應。完整的EPE系統內置于OpticStudio中，并動態鏈接到Lumerical，以集成精確的光柵模型。