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帖子 ZEMAX軟件技術應用專題:在 OpticStudio 中模擬高階雷射光束
所有這三種解決方案都可以在物理光學 (POP) 中的 OpticStudio 中建模。一旦確定了由這些解決方案中的任何一個定義的光束的輸入分佈,就會使用 POP 將光束通過感興趣的光學系統。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
ZEMAX軟件技術應用專題:在 OpticStudio 中模擬高階雷射光束
帖子 ZEMAX軟件技術應用專題:如何在OpticStudio中設計DOE透鏡或超穎透鏡
在布局圖視窗中,您可以看到光線沒有改變其方向,並且光束保持準直,從物件到成像表面。注意,採用這種結構,透鏡的最大允許直徑可能嚴格取決於入射光束的相干程度和透鏡焦距。本文將不討論設計帶區透鏡的原理。Figure 3 菲涅耳波帶片系統佈局圖但是,如果現在使用POP分析建模相同的情況,則將觀察到光束開始聚焦在成像表面上,如圖4所示。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
ZEMAX軟件技術應用專題:如何在OpticStudio中設計DOE透鏡或超穎透鏡
帖子 ZEMAX軟件技術應用專題:在薄膜計算中Ray以及Field系數是什麼?
在Zemax OpticStudio中,我們使用field係來表示這個結果,這些係已經被薄膜膜層的程式驗證過許多次。薄膜理論的慣例是計算平面法向量方向上的相位變化,這表示其假設了一個虛擬的平面波從薄膜最外層一路到基板。這個慣例暗示了相位變化在正向入射上為最大,並且隨著入射角變大、相對應餘弦值變小而相位變化也漸漸變小。但光線追跡上,我們是使用不同的方法來描述的。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
ZEMAX軟件技術應用專題:在薄膜計算中Ray以及Field系數是什麼?
帖子 Zemax光學設計技術教程:如何使用Jones Matrix表面
此外,E具有{Ex, Ey, Ez}三個複型式的分量。而向量k的三個分量{l, m, n}則是電磁波在x, y, z方向上的Cosine分量。為了使下方的式子成立,E和k必須互相垂直。將E和k分別以分量的形式帶入,我們可以得到下方的結果。任意兩種材料間的介面都可以使入射光產生偏極化的現象,而OpticStudio可以將這個結果完整的呈現。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
Zemax光學設計技術教程:如何使用Jones Matrix表面
帖子 Ansys Zemax光學設計軟件技術教程:眼科鏡片設計
本文介紹了眼科鏡片的設計原理,並討論了鏡片、眼睛和視覺環境中對鏡片設計十分關鍵的參,其中包括了見鏡片材料(涵蓋了玻璃和聚合物)的玻璃目錄。本文不包括漸進式鏡片設計,儘管漸進式鏡片時根據一般的鏡片曲率原則進行設計,但這些基礎的原則多以消除近視為目的,無法為特殊用途的鏡片設計提供太多的幫助。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
Ansys Zemax光學設計軟件技術教程:眼科鏡片設計
帖子 Moldex3D模流分析之Tokyo Seiki公司使用模流大幅減少試模次數
設計變更的主導權,已大幅度的由統式的只做代工向上提升,每一批模具代工至少有一半以上的模具,是由 Tokyo Seiki 主導修改產品設計,例如最近接手的印表機組件的流道不平衡問題,以及某知名國際相機廠牌的產品翹曲改良。對癥下藥,增加產品強度:流動平衡與結合線問題改良流動平衡目的是避免成品後所發生變形的主要改善方案,尤其針對精密性產品,在分析過程中以流動平衡指來作為比較據。
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Moldex3D 中國 ??? 3年前
Moldex3D模流分析之Tokyo Seiki公司使用模流大幅減少試模次數
帖子 ZEMAX軟件技術應用專題:利用Kogelnik方法模擬體積全像光柵的繞射效率
考慮一個簡單的情況,即一個法向量n的全像平面被兩個波長相同的平面波照射,沿波向量k1和k2的方向。平面波在穿過全像時,首先受到司乃耳定律 (Snell’s law)的折射,在全像內有新的波向量k1’和k2’(圖2(a))。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
ZEMAX軟件技術應用專題:利用Kogelnik方法模擬體積全像光柵的繞射效率
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