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Figure 3 菲涅耳波帶片系統(tǒng)佈局圖但是，如果現(xiàn)在使用POP分析建模相同的情況，則將觀察到光束開始聚焦在成像表面上，如圖4所示。在這裡，我們從束腰尺寸為2.6 mm的高斯光束開始並將光束聚焦下降到束腰約0.4毫米的斑點。此範例說明只能使用POP模擬這種類型的結(jié)構(gòu)。Figure 4 菲涅耳波帶片在成像平面上的 POP結(jié)果。

Alvarez 鏡組 (圖片來源: www.spiedigitallibrary.org) 如下圖所示，每個 Alvarez 鏡組代表一個具有光功率變化的光學元件。每對中Alvarez鏡片的橫向位移會改變Alvarez鏡組的光焦度。圖4. Alvarez鏡組的一般工作原理。圖2.

對于涂布工藝，涂層厚度以及均勻性直接與漿料材料特性相關(guān)［55-56］，工業(yè)實踐中多以鋁（銅）片幅上涂布層厚度以及均勻性程度作為評價指標。針對涂布相關(guān)工藝設(shè)備建模并對涂布厚度以及均勻性進行仿真是目前研究的重點方向之一。如上文所述Lombardo等［44］利用CGMD在勻漿仿真模型的基礎(chǔ)上對不同成分混勻后的漿料給予一個恒定剪切速率，從而得到漿料涂覆在幅片后的狀態(tài)。

這種新現(xiàn)象與有限元分析建模結(jié)果相吻合，使我們能夠在不改變氣凝膠框架材料的情況下優(yōu)化EMI屏蔽性能。圖4.