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1.摘要偶極子源可以很好地模擬熒光分子的發射光和納米球的散射光。 因此，偶極子源是點源的良好模型，其在實際中考慮了矢量效應。對此類點源的PSF進行分析是非常重要的。在VirtualLab Fusion中內置了偶極子源。通過連接復雜的高數值孔徑顯微鏡系統，可以在VirtualLab Fusion中直接計算其PSF。

摘要 偶極子源可以很好地模擬熒光分子的發射光和納米球的散射光。 因此，偶極子源是點源的良好模型，其在實際中考慮了矢量效應。對此類點源的PSF進行分析是非常重要的。在VirtualLab Fusion中內置了偶極子源。

1.摘要偶極子源可以很好地模擬熒光分子的發射光和納米球的散射光。因此，偶極子源是點源的良好模型，其在實際中考慮了矢量效應。對此類點源的PSF進行分析是非常重要的。在VirtualLab Fusion中內置了偶極子源。通過連接復雜的高數值孔徑顯微鏡系統，可以在VirtualLab Fusion中直接計算其PSF。

摘要偶極子源可以很好地模擬熒光分子的發射光和納米球的散射光。 因此，偶極子源是點源的良好模型，其在實際中考慮了矢量效應。對此類點源的PSF進行分析是非常重要的。在VirtualLab Fusion中內置了偶極子源。通過連接復雜的高數值孔徑顯微鏡系統，可以在VirtualLab Fusion中直接計算其PSF。 2.

使用高NA顯微鏡系統分析偶極子源的PSF 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析偶極子源的PSF。 該實驗證明了當偶極子源的方向改變時，PSF具有不同的形狀。

使用高NA顯微鏡系統分析偶極子源的PSF 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析偶極子源的PSF。 該實驗證明了當偶極子源的方向改變時，PSF具有不同的形狀。 用于3D成像顯微鏡的雙螺旋PSF 在VirtualLab Fusion中，通過在高NA顯微鏡系統的光瞳平面中插入相位掩模，以簡單快捷的方式分析雙螺旋PSF。

使用高NA顯微鏡系統分析偶極子源的PSF 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析偶極子源的PSF。 該實驗證明了當偶極子源的方向改變時，PSF具有不同的形狀。 用于3D成像顯微鏡的雙螺旋PSF 在VirtualLab Fusion中，通過在高NA顯微鏡系統的光瞳平面中插入相位掩模，以簡單快捷的方式分析雙螺旋PSF。

文檔信息 進一步的閱讀-高鈉顯微鏡離軸成像分析-用高鈉顯微鏡系統分析偶極子源的PSF-高鈉傅里葉顯微鏡下的單分子成像

摘要成像系統的離軸PSF經常受到由應用的光學部件（例如顯微鏡系統）引入的像差的影響。因此，焦點并不像理想預期的那樣對偏移完全不變。VirtualLab Fusion提供了一種快速方便的方法，可以使用高NA顯微鏡檢查光傳播和離軸成像的PSF。該用例演示了具有不同橫向偏移距離的離軸物點的成像，來檢查像差的影響。

摘要 成像系統的離軸PSF經常受到由應用的光學部件（例如顯微鏡系統）引入的像差的影響。因此，焦點并不像理想預期的那樣對偏移完全不變。 VirtualLab Fusion提供了一種快速方便的方法，可以使用高NA顯微鏡檢查光傳播和離軸成像的PSF。

4先進顯微鏡系統的物理光學級仿真 顯微鏡系統的設計 通過瑞利判據對顯微鏡物鏡進行分辨率研究 熒光顯微鏡的彩色效應分析 高NA傅里葉顯微鏡單分子成像 高NA顯微鏡系統分析偶極子源的PSF 顯微鏡系統中來自光圈的衍射5光學系統的公差分析 考慮加工公差下的傾斜光柵魯棒性優化 鏡頭粗糙度對PSF的影響 衍射光學元件的加工圓角和高度公差分析

1.摘要 傅里葉顯微術廣泛應用于單分子成像、表面等離子體觀測、光子晶體成像等領域。它使直接觀察空間頻率分布成為可能。在高NA傅里葉顯微鏡中，不同的效應(每個透鏡表面上角度相關的菲涅耳損耗、衍射等)會影響單個分子最終獲得的圖像質量。快速物理光學軟件VirtualLab Fusion可以使用其強大的場追跡引擎對整個系統進行建模，包括菲涅耳損耗和孔徑衍射效應。

圖像模擬的源位圖設置如圖10所示。圖 10 - 源位圖的圖像模擬設置。視場高度為100 um（鏡頭單位為0.1 mm），輸入圖像以同軸視場為中心。視場高為100 um。對于這種方法，我們還將分析重點放在軸上場上，但也可以在不同的場位置進行相同的分析，我使用當前系統編輯器中定義的波長1到3的組合。PSF網格設置如圖11所示。

高NA物鏡的深聚焦能夠產生更小的PSF（點擴展函數），對于高分辨率顯微鏡系統至關重要。在許多其他顯微鏡系統中，如浸入式顯微鏡使用蓋玻片將浸沒液體和樣本分開。這可能會使焦平面上的PSF失真。 我們證明在蓋玻片后面不對稱的PSF被進一步拉長。 此外，廣泛用于數十納米分辨率的STED（受激發射損耗）顯微鏡則需要消耗環形的PSF。

高NA物鏡的深聚焦能夠產生更小的PSF（點擴展函數），對于高分辨率顯微鏡系統至關重要。在許多其他顯微鏡系統中，如浸入式顯微鏡使用蓋玻片將浸沒液體和樣本分開。這可能會使焦平面上的PSF失真。 我們證明在蓋玻片后面不對稱的PSF被進一步拉長。 此外，廣泛用于數十納米分辨率的STED（受激發射損耗）顯微鏡則需要消耗環形的PSF。

在顯微鏡設計中，瑞利準則 y Rayleigh 可由下式計算： 其中 λ Primary 是主波長0.588 um，NA 是物鏡的數值孔徑0.2（本文不討論聚光鏡 NA）。雖然瑞利準則可以作為系統分辨率的衡量標準，但它假定一個完美的圓形、無畸變孔徑光闌和非相干照明。

- Debye-Wolf積分計算器- 分析高NA物鏡- 用瑞利判據研究顯微鏡物鏡的分辨率

積分計算器 - 分析高NA物鏡 - 用瑞利判據研究顯微鏡物鏡的分辨率

這使工程師能夠徹底探索光學系統，如這些強大的高NA顯微鏡，包括所有相關的影響，并為他們提供全面探究的必要工具。 高分辨顯微鏡離軸成像分析 本用例演示了具有不同橫向移動距離的離軸目標點的成像，以探究像差對PSF的影響。

3.25um的視場間隔與1.8 um瑞利標準大不相同，并且顯示了分辨率的定義是多么模糊，但在本文中還沒有考慮顯微鏡的公差，這將進一步降低該指標。本節中介紹的方法考慮了兩個相鄰 PSF 的相干和，以及如何將它們彼此區分開來。雖然這種方法適用于相干成像系統，但對于非相干成像系統通常更為保守，并且可能導致性能過高的設計，這本身就成本更高。例如，在熒光顯微鏡中，分辨率是用熒光微珠測量的。