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摘要 雙螺旋(DH) PSF工程在縱向上為三維成像提供了高分辨率，它可以通過在光瞳平面上增加一個帶有漩渦的相位掩膜來產生[Ginni Grover等，Opt. Exp. 2012]。VirtualLab Fusion提供了一種快速方便的方法來計算高NA顯微鏡系統小離焦的DH PSFs。這個用例說明了DH-PSFs在離焦約130nm時有明顯的變化。

摘要 雙螺旋(DH) PSF工程在縱向上為三維成像提供了高分辨率，它可以通過在光瞳平面上增加一個帶有漩渦的相位掩膜來產生[Ginni Grover等，Opt. Exp. 2012]。VirtualLab Fusion提供了一種快速方便的方法來計算高NA顯微鏡系統小離焦的DH PSFs。

摘要 雙螺旋(DH) PSF工程在縱向上為三維成像提供了高分辨率，它可以通過在光瞳平面上增加一個帶有漩渦的相位掩膜來產生[Ginni Grover等，Opt. Exp. 2012]。VirtualLab Fusion提供了一種快速方便的方法來計算高NA顯微鏡系統小離焦的DH PSFs。這個用例說明了DH-PSFs在離焦約130nm時有明顯的變化。

摘要 雙螺旋(DH) PSF工程在縱向上為三維成像提供了高分辨率，它可以通過在光瞳平面上增加一個帶有漩渦的相位掩膜來產生[Ginni Grover等，Opt. Exp. 2012]。VirtualLab Fusion提供了一種快速方便的方法來計算高NA顯微鏡系統小離焦的DH PSFs。這個用例說明了DH-PSFs在離焦約130nm時有明顯的變化。

使用高NA顯微鏡系統分析偶極子源的PSF 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析偶極子源的PSF。 該實驗證明了當偶極子源的方向改變時，PSF具有不同的形狀。 用于3D成像顯微鏡的雙螺旋PSF 在VirtualLab Fusion中，通過在高NA顯微鏡系統的光瞳平面中插入相位掩模，以簡單快捷的方式分析雙螺旋PSF。

用于3D成像顯微鏡的雙螺旋PSF 在VirtualLab Fusion中，通過在高NA顯微鏡系統的光瞳平面中插入相位掩模，以簡單快捷的方式分析雙螺旋PSF。 結果表明，即使只有一點散焦（?130 nm）的物點，雙螺旋PSF也會有旋轉。

使用高NA顯微鏡系統分析偶極子源的PSF 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析偶極子源的PSF。 該實驗證明了當偶極子源的方向改變時，PSF具有不同的形狀。 用于3D成像顯微鏡的雙螺旋PSF 在VirtualLab Fusion中，通過在高NA顯微鏡系統的光瞳平面中插入相位掩模，以簡單快捷的方式分析雙螺旋PSF。

在超分辨率顯微鏡中，傅里葉環相關[1]用于評估分辨率。 在衍射極限顯微鏡中，分辨率是用瑞利或斯派羅準則估算的[2]。在實踐中，這些系統的分辨率也可以用微粒測量，微粒選擇明顯小于預期分辨率，選定上述標準之一。這些微粒充當形成PSF的點發源，其尺寸給出了圖像分辨率的估計值，同樣，該尺寸根據其定義而變化。在本文中，我們使用OpticStudio中的PSF來更客觀地評估衍射極限成像系統的分辨率。

簡介 成像系統的性能與其分辨率有關，但分辨率的定義各不相同。在超分辨率顯微鏡中，傅里葉環相關[1]用于評估分辨率。在衍射極限顯微鏡中，分辨率是用瑞利或斯派羅準則估算的[2]。在實踐中，這些系統的分辨率也可以用微粒測量，微粒選擇明顯小于預期分辨率，選定上述標準之一。這些微粒充當形成 PSF 的點發源，其尺寸給出了圖像分辨率的估計值，同樣，該尺寸根據其定義而變化。

簡介成像系統的性能與其分辨率有關，但分辨率的定義各不相同。在超分辨率顯微鏡中，傅里葉環相關[1]用于評估分辨率。在衍射極限顯微鏡中，分辨率是用瑞利或斯派羅準則估算的[2]。在實踐中，這些系統的分辨率也可以用微粒測量，微粒選擇明顯小于預期分辨率，選定上述標準之一。這些微粒充當形成 PSF 的點發源，其尺寸給出了圖像分辨率的估計值，同樣，該尺寸根據其定義而變化。

摘要成像系統的離軸PSF經常受到由應用的光學部件（例如顯微鏡系統）引入的像差的影響。因此，焦點并不像理想預期的那樣對偏移完全不變。VirtualLab Fusion提供了一種快速方便的方法，可以使用高NA顯微鏡檢查光傳播和離軸成像的PSF。該用例演示了具有不同橫向偏移距離的離軸物點的成像，來檢查像差的影響。

顯微鏡系統的設計 通過瑞利判據對顯微鏡物鏡進行分辨率研究 熒光顯微鏡的彩色效應分析 高NA傅里葉顯微鏡單分子成像 高NA顯微鏡系統分析偶極子源的PSF 顯微鏡系統中來自光圈的衍射5光學系統的公差分析 考慮加工公差下的傾斜光柵魯棒性優化 鏡頭粗糙度對PSF的影響 衍射光學元件的加工圓角和高度公差分析

摘要 成像系統的離軸PSF經常受到由應用的光學部件（例如顯微鏡系統）引入的像差的影響。因此，焦點并不像理想預期的那樣對偏移完全不變。 VirtualLab Fusion提供了一種快速方便的方法，可以使用高NA顯微鏡檢查光傳播和離軸成像的PSF。

在材料科學領域中，激光共聚焦顯微鏡以轉盤共聚焦光學系統為基礎，結合高穩定性結構設計和3D重建算法，共同組成測量系統。它可以通過使用空間針孔來阻擋散焦光來提高顯微圖像的光學分辨率和對比度。在圖像形成中，捕獲樣品中不同深度的多個二維圖像可重建三維結構（即光學切片過程）。該技術廣泛用于科學和工業界，典型的應用是生命科學、半導體檢查和材料科學。

目前主要的提高3D打印分辨率的方法就是利用雙光子吸收效應，將雙光子3D打印系統與超分辨率顯微成像方法(如受激輻射損耗STED、雙色非簡并雙光子吸收ND-TPA、時空聚焦或者4Pi顯微鏡成像等技術)相結合，以顯著提高3D打印的橫向和縱向分辨率。根據阿貝衍射極限，微納3D打印的分辨率主要取決于光學系統的衍射極限[94]，即0.61λ/NA(λ和NA分別為光源波長和成像系統的數值孔徑)。

用于材料科學領域的共聚焦顯微鏡，基于光學共軛共焦原理，其超高的空間分辨率和三維成像能力，提供了全新的視角和解決方案。 工作原理 共聚焦顯微鏡通過在樣品的焦點處聚焦激光束，在樣品表面進行快速點掃描并逐層獲取不同高度處清晰焦點并重建出3D真彩圖像，從而進行分析。 儀器結構 共聚焦顯微鏡主要有四部分組成：1、顯微鏡光學系統。

其多功能性，如偏振和空間復用能力，可產生復雜的干涉圖案，用于獲取物體的二維相位輪廓。目前，一些基于超表面的定量相位表征技術已取得進展，例如受經典微分干涉對比（DIC）顯微鏡啟發的緊湊型定量相位顯微鏡，利用雙層多功能介質超表面實現了小至0.207 rad的相位差測量，其示意圖如圖6（a）所示 ；還有基于超表面的其他定量相位顯微鏡，可測量一維或二維的相位梯度，且具有較高的分辨率和相位精度。

為了突破這一限制，研究者們提出了一些方法，包括使用雙聚焦微透鏡陣列[1]或者采用共聚焦光場顯微系統[2]等等，但是這些方法增加了系統的復雜性。如何低成本地擴大光場成像的高分辨率范圍仍是一個充滿吸引力的課題。

激光共聚焦顯微鏡用于測量復雜零件表面形貌及粗糙度 激光共聚焦顯微鏡以轉盤共聚焦光學系統為基礎，結合高穩定性結構設計和3D重建算法，共同組成測量系統。它可以獲得高達亞納米級的空間分辨率（高度分辨率0.5nm；寬度分辨率1nm。）

支持點激光輪廓掃描測量，進行高度方向上的輪廓測量； 支持線激光3D掃描成像，可實現3D掃描成像和空間測量； 支持頻閃照明和飛拍功能，可進行高速測量，提升測量效率； 具有可獨立升降和可更換RGB光源，可適應更多復雜工件表面。 2、共焦激光掃描顯微法-共聚焦顯微鏡激光共焦掃描顯微術是一項高分辨率三維光學成像技術。