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方形光斑的應(yīng)力和應(yīng)變整體相對(duì)均勻，實(shí)際激光噴丸過(guò)程中方形光斑的沖擊對(duì)表面完整性更加有利。

渦旋透鏡 也稱為螺旋相位板，渦旋透鏡將高斯輸入剖面轉(zhuǎn)換成一個(gè)donut或者方形能量環(huán)。渦旋透鏡的典型應(yīng)用包括光學(xué)捕獲、量子光學(xué)和高分辨率顯微鏡。 螺旋相位板是一個(gè)獨(dú)特的光學(xué)元件，其結(jié)構(gòu)是由螺旋或螺旋相位步驟組成，目的是控制傳輸光束的相位。其拓?fù)潆姾桑谖墨I(xiàn)中表示為m，指的是2π的循環(huán)次數(shù)（鋸齒）蝕刻衍射表面的360°轉(zhuǎn)變。

渦旋透鏡 也稱為螺旋相位板，渦旋透鏡將高斯輸入剖面轉(zhuǎn)換成一個(gè)donut或者方形能量環(huán)。渦旋透鏡的典型應(yīng)用包括光學(xué)捕獲、量子光學(xué)和高分辨率顯微鏡。 螺旋相位板是一個(gè)獨(dú)特的光學(xué)元件，其結(jié)構(gòu)是由螺旋或螺旋相位步驟組成，目的是控制傳輸光束的相位。其拓?fù)潆姾桑谖墨I(xiàn)中表示為m，指的是2π的循環(huán)次數(shù)（鋸齒）蝕刻衍射表面的360°轉(zhuǎn)變。

根據(jù)二極管子底座的尺寸，這些元件可以輕松占據(jù)平臺(tái)可用空間的三分之一，這進(jìn)一步說(shuō)明了使用方形微光學(xué)元件而非圓形光學(xué)元件的重要性。光束經(jīng)過(guò)準(zhǔn)直后，需要使用第三塊方形透鏡（通常是非球面透鏡）將光耦合到光纖中。就像在準(zhǔn)直步驟中監(jiān)控光束輪廓和發(fā)散角一樣，光纖耦合過(guò)程也會(huì)受到主動(dòng)監(jiān)控，以確保最大輸出功率。對(duì)于某些單模光纖耦合激光器，也可以觀察到偏振消光比。

Micro LED巨量轉(zhuǎn)移設(shè)備是采用激光轉(zhuǎn)移技術(shù)，利用特殊整形后的方形光斑，結(jié)合高速振鏡掃描，可以實(shí)現(xiàn)高速加工，將微米級(jí)Micro LED芯片逐一轉(zhuǎn)移到下層基板（玻璃或者膜材）上。Micro LED巨量轉(zhuǎn)移設(shè)備是Micro LED生產(chǎn)過(guò)程中的核心裝備之一，是影響Micro LED的良率與制造成本的關(guān)鍵。

常規(guī)的金屬增材制造系統(tǒng)的光斑直徑為100微米，對(duì)于單激光系統(tǒng)，就是使用直徑100微米的激光進(jìn)行掃描打印。而Seurat系統(tǒng)將200萬(wàn)個(gè)激光點(diǎn)射向15平方毫米的方形區(qū)域，每個(gè)光點(diǎn)的直徑大約為10微米，也就是說(shuō)一次打印一個(gè)區(qū)域。

（2）動(dòng)態(tài)整形的仿真價(jià)值與應(yīng)用效果動(dòng)態(tài)性能可視化：可生成LC-SLM動(dòng)態(tài)相位調(diào)制的仿真視頻，直觀呈現(xiàn)不同電壓下光束形狀的變化過(guò)程，驗(yàn)證輸出光束與預(yù)定目標(biāo)光斑99.83%的相似度。多目標(biāo)優(yōu)化：針對(duì)光束均勻性與能量利用率難以兼顧的問(wèn)題，通過(guò)多目標(biāo)優(yōu)化算法，仿真疊加閃耀光柵移除零級(jí)光的效果，實(shí)現(xiàn)能量利用率72.3%、均勻性97.2%的方形平頂光束。

例如，焦距（或MTF、光斑半徑、畸變）為一個(gè)固定的數(shù)字，易于作為評(píng)價(jià)函數(shù)。照明目標(biāo)表面的均勻性可以用幾種不同的方法來(lái)定義。當(dāng)然，完全均勻的表面是很容易定義的。然而，以下哪個(gè)是更加均勻照明的表面呢？a)中心照度分布均勻但在角落有所下降的表面；b) 角落有更好的照度分布但在中間區(qū)域有環(huán)狀或波紋狀分布的表面？簡(jiǎn)而言之，這完全取決于我們的目標(biāo)性能。

常規(guī)的金屬增材制造系統(tǒng)的光斑直徑為100微米，對(duì)于單激光系統(tǒng)，就是使用直徑100微米的激光進(jìn)行掃描打印。而Seurat系統(tǒng)將200萬(wàn)個(gè)激光點(diǎn)射向15平方毫米的方形區(qū)域，每個(gè)光點(diǎn)的直徑大約為10微米，也就是說(shuō)一次打印一個(gè)區(qū)域。

離軸光源近似為在全息圖平面上產(chǎn)生非平面離軸波前的衍射受限光斑。基于平面AM1.5光譜的照明在焦平面上再現(xiàn)離軸衍射受限點(diǎn)。本文介紹了光線追跡和耦合波理論仿真，用于量化通過(guò)像差校正實(shí)現(xiàn)的損失減少。關(guān)鍵詞：光譜分裂；全息；太陽(yáng)能；聚焦光伏；像差補(bǔ)償；光管理；損耗減少 1.

您也可以通過(guò)轉(zhuǎn)動(dòng)鼠標(biāo)滾輪或者點(diǎn)擊鼠標(biāo)左鍵拖動(dòng)選取一個(gè)方形區(qū)域的方式來(lái)放大布局圖中的一部分。通過(guò)對(duì)布局圖進(jìn)行多次放大，您可以看到很多系統(tǒng)的設(shè)計(jì)細(xì)節(jié)。如果想讓布局圖恢復(fù)到原先的比例大小，您可以點(diǎn)擊窗口工具欄中的整屏顯示 (Reset Zoom) 按鈕。您可以在分析 (analyze) 菜單欄的視圖 (System Viewers) 中打開(kāi)其他類型的布局圖。

在這個(gè)窗口中展示了不同的視場(chǎng)和波長(zhǎng)組合下像面上的光斑形狀。 OpticStudio還支持其他類型的點(diǎn)列圖分析。選擇分析菜單欄中的光線跡點(diǎn) (Rays & Spots) 中的標(biāo)準(zhǔn)點(diǎn)列圖 (Standard Spot Diagram) 功能。您將看到當(dāng)前透鏡系統(tǒng)的點(diǎn)列圖分析結(jié)果。 點(diǎn)擊點(diǎn)列圖分析窗口的設(shè)置 (Settings) 選項(xiàng)。