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<p>緊接上篇《OptiStruct非線性之前車門下沉分析》，本篇將介紹 OptiStruct 非線性系列之車門過開分析，該文涉及的基礎模型與上篇模型一致（<strong>模型可在文末進行下載~</strong>），僅載荷約束及分析目標有所變化，一起來看看本期的內容吧~</p><p><br></p><p><strong>分析目的</strong></p><p>檢驗車門在過開濫用工況下的強度性能，需滿足加載和卸載位移需求

從建立聯系到發生碰撞的11分鐘里，兩船關于是“左對左”過還是“右對右”過進行了多達8個來回的交鋒，期間甚至有長達2分鐘的各不相讓。在難得達成一致后約4分鐘，“M”輪又再次提出更改避讓方式，遭到了“J”輪的反對。直到碰撞即將發生，兩船仍在通過VHF確認如何過，但為時已晚。

CINNO Research產業資訊，日本佳能官網宣布，公司自2023年10月13日起開始發售一款型號為“FPA-1200NZ2C”的半導體納米壓印設備，該設備“擔當”半導體制程中最重要的工序一一圖形轉移。該設備采用的是一種名為NIL（Nanoimprint Lithography，納米壓印光刻技術）的技術形成半導體線路圖案，且該技術不同于傳統“投影曝光”。佳能此次發售的新設備，不僅擴充了公司產品陣容，還可覆蓋客戶從尖端制程、到傳統制程的廣范圍需求。 FPA-1200NZ2C（圖片出自：佳能官網） 工廠內的FPA-1200NZ2C。（圖片出自：佳能官網） 用NIL技術刻畫的非半導體類3D立體結構光學晶圓（接收到光后，即分光）（圖片出自：佳能官網） 傳統的投影式曝光設備的工作原理是將光照射在涂覆了光刻膠（樹脂）的晶圓上后燒結形成線路。而佳能此次研發的設備則采用的是一種類似于“印章”的方式，將刻有電路（Pattern，即“圖案”）的掩膜（Mask，即“模具”）壓印在晶圓上的光刻膠上，以此形成線路。在形成線路的過程中，由于不采用光學系統，所以可以“忠實”地將掩膜上的線路復制到晶圓上。此外，利用該設備只需一次“壓?。↖mprint）”即可形成復雜的2D、3D線路，有助于削減CoO（Cost of Ownership，即“購置成本”）。利用佳能的NIL 技術，可繪制出最小線寬為14納米的線路，相當于當下最尖端的邏輯半導體的5納米節點。另外，通過改良掩膜，還有望繪制出10納米線路，即相當于2納米節點。 利用NIL技術，助力實現尖端半導體的制造 此外，該款新設備還采用了佳能新研發的環境控制技術，即可有效控制設備內部微粒子的產生和混入，以此不僅可以滿足半導體制程的高精度定位要求、還可減少因微粒子等異物導致的缺陷問題，助力細微、復雜線路的形成，為尖端半導體制造做出貢獻。 結構簡易、設備環保 該設備不像傳統的投影曝光機一樣通過調整光的波長來實現線路的微縮化，因此利用該設備形成5納米節點（即線寬15納米）所消耗的電力遠低于投影曝光技術，且有助于削減二氧化碳排放。 可用推廣至半導體以外的其他諸多應用領域 由于利用該設備可一次性形成3D線路，因此除半導體（如邏輯半導體、存儲半導體等）應用外，還可應用于其他諸多領域，如具有納米級結構的XR方向的超透鏡（Meta-lens）等。 【主要特點】 （1）利用NIL技術助推尖端半導體制造。 ●該設備采用NIL技術，即將掩膜（Mask，即“模具”）直接按壓在晶圓的光刻膠上，從而“忠實”地將掩膜上的線路復制到晶圓上。佳能利用在噴墨打印機（Inject Pinter）領域中積累的“噴墨技術”，依據電路圖案調整光刻膠，并在最準確的位置涂覆最合適的量。最后，將掩膜對準涂覆有光刻膠的晶圓，以極高的精度對正確的位置進行“壓印”，形成線路。 NIL技術中采用的壓印掩膜（Mask）掩膜的放大圖（圖片出自：佳能官網） ●僅需一次“壓印”，即可形成復雜的2D、3D線路圖案。 （研發事例）利用NIL技術形成的2D、3D線路圖（圖片出自：佳能官網） ●佳能綜合研發了硬件、軟件、材料、環境控制（如有效控制設備內部微粒子的產生、混入）等技術，并在1納米以下的精度內測量位置、調整掩膜和晶圓的位置、去除微小粒子。以此不僅可以提升半導體廠家的生產效率，而且可以形成極細、復雜的線路，為生產尖端半導體做出貢獻。 ●與傳統的投影曝光技術不同，該設備的對準技術采用的是“逐個芯片對準（Die by Die Alignment）”的方式，即在每次壓印過程中進行“位置（Shot）對齊”。此外，還通過調整激光光的熱分布來促使晶圓產生熱膨脹，再利用晶圓的熱膨脹高精度調整線路歪曲問題。 左圖：采用“逐個芯片對準（Die by Die Alignment）”的方式，即逐個對準位置。右圖：通過調整熱分布，修正線路歪曲問題。（圖片出自：佳能官網） ●通過將高精度過濾器（Filter）、空氣簾(Air Curtain)引入該設備，有效除去設備內部的微小顆粒異物。 左圖：設備內部顆粒物控制技術。右圖：利用“空氣簾”控制顆粒物產生（圖片出自：佳能官網） （2）結構簡易、設備環保。 ●與傳統的投影曝光技術相比，NIL技術工藝易行，設備體積小，僅需較低的功耗即可形成精細線路。NIL技術所消耗電力僅為傳統投影曝光設備的1/10，同時也有助于削減二氧化碳排放。 （3）可應用于半導體以外的領域。 ●由于該設備可一次“壓印”形成3D線路，因此除邏輯半導體、存儲半導體等應用外，還可應用于具有納米級結構的XR方向的超透鏡（Meta-lens）等其他諸多領域。 利用NIL技術可一次性形成如超透鏡（Meta-lens）般的形狀。（上圖：在實施NIL技術后，蝕刻加工的SEM照片）。（圖片出自：佳能官網） 【參考】 ●傳統的投影曝光設備的結構 在傳統的投影曝光工藝中，使用多個鏡頭（Lense）來曝光在光罩（Reticle，即“原版、掩膜版”）上繪制的線路圖案。 【半導體曝光設備市場動向】 如今半導體制造行業，環保要求愈來愈嚴格。如果NIL技術被應用于最尖端的半導體制程，相較于當下最先進的邏輯半導體所采用的投影曝光技術，可將消耗電力削減至1/10，從而大幅度削減二氧化碳排放。 季度全球半導體裝備行業市場分析報告（大綱） 一、全球半導體裝備企業市場規模分析（Top10） 1. 全球主要半導體裝備企業季度經營情況分析 2. 中國大陸主要半導體裝備企業季度經營情況分析 二、中國大陸半導體裝備行業市場投資情況分析 1. 中國大陸半導體裝備行業季度投資規模分析 2. 中國大陸半導體裝備行業季度投資區域分析 3. 中國大陸半導體裝備行業季度投資分布分析 三、全球半導體裝備行業新技術發展洞察 1. 全球半導體裝備行業細分領域新技術趨勢洞察 2. 中國大陸半導體裝備行業細分領域技術發展洞察 四、全球半導體行業裝備產業最新動態 1. 半導體裝備行業相關最新政策解讀 2. 半導體裝備行業企業投資動態簡析 聯系我們 媒體關系： 市場部經理 Cherry Zeng TEL：（+86）186-2523-4072 Email：CherryZeng@cinno.com.cn 商務合作： 市場部總監 Ann Bao TEL：（+86）189-6479-8590 Email：AnnBao@cinno.com.cn 產業咨詢： 銷售部副總 Venia Yang TEL：（+86）137-7184-0168 Email：VeniaYang@cinno.com.cn - END - 更多商務合作，歡迎與小編聯絡！ 掃碼請備注：姓名+公司+職位 我是CINNO最強小編, 恭候您多時啦！ CINNO于2012年底創立于上海，是致力于推動國內電子信息與科技產業發展的國內獨立第三方專業產業咨詢服務平臺。公司創辦十年來，始終圍繞泛半導體產業鏈，在多維度為企業、政府、投資者提供權威而專業的咨詢服務，包括但不限于產業資訊、市場咨詢、盡職調查、項目可研、管理咨詢、投融資等方面，覆蓋企業成長周期各階段核心利益訴求點，在顯示、半導體、消費電子、智能制造及關鍵零組件等細分領域，積累了數百家大陸、臺灣、日本、韓國、歐美等高科技核心優質企業客戶。

</div><div contenteditable="false" width="100%"> 屬性自動創建與關聯：若組件無屬性，則自動創建屬性并綁定至組件；若已存在，則跳過避免重復； </div><div contenteditable="false" width="100%"> 材料自動創建與關聯：若組件無材料，則自動創建材料并綁定至組件；若已存在，則跳過避免重復；內置可拓展的材料基礎參數庫

Altair Optistruct Altair Optistruct是我做碩士論文期間使用的一款軟件，在之前我沒有聽說過，但是使用之后感覺很方便，而且很實用。

工程師們經常會遭遇如下困境：對于著重關注的區域，計算網格太疏會跳過極值應力且收斂性差，不能得到滿意的結果，需細化網格以捕捉應力梯度；對于這些區域外的部分，網格密度已經富余，粗糙的網格分布已足夠求解近似的結果，如果耗費大量的計算資源、時間在這些不關注區域，影響分析的效率，不可取?；诖?，子模型法倒不失為一種處理此類問題的捷徑。

隨著設計流程往前推進，OptiStruct通過強大的形態和尺寸優化功能來進一步提高設計性能。OptiStruct采用極為先進的優化算法，可以在短時間內通過數千種設計變量解決復雜的優化難題。設計區域被導入OptiStruct并進行網格劃分。施加的荷載工況采用2g的顛簸加速度、1.6g的過彎加速度、1.6g的制動加速度，并對制動、顛簸和過彎等荷載工況進行組合。

此時我們可以借鑒前輩們已經設計過的類似的結構，但是如果想要創造一個新結構出來，合理的方法是進行拓撲優化，得到一個初始結構。 我們通過一個簡單的例子來說明上述問題。 比如，我們想設計一個夾子，它大概應該是下圖的形狀，它在A,B兩點承受的最大力是100N，這兩個力就是夾持力。

?P-FSI和DC-FSI的流體都要求是瞬態計算，估算時間步長，既要滿足振動最高頻率的要求，還要滿足一個時間步內網格變形量不能過大（否則造成CFD網格負體積而發散）。?避免在一個時間步內傳遞很大的力給OptiStruct，或反之，在一個時間步內傳遞很大的位移給AcuSolve?？梢酝ㄟ^增加一個Multiplier的方法分步加載，提高FSI耦合計算的收斂穩定性。

接著把燈打開，看看空開跳不跳。若不跳，再逐個試插座，若有跳閘，就排查該插座的對應線路。 另外要計算家中電器總功率是多少，然后除以220，根據實際電流選擇空開大小。 PS：需要注意你進戶線，若空開選定20A以上的，線徑要保持4平以上。

提交計算與監控：①將定義好的模型（網格、屬性、載荷、邊界條件、優化設置）提交給 OptiStruct 求解器。②監控求解日志文件 (.out/.log) 和迭代過程文件 (.iter)，了解收斂情況、警告和錯誤信息。

實際上，振動僅發生在汽輪機非聯軸器側，2010年12月3日振動導致機組連鎖跳車，復查聯軸器對中度，徑向和軸向偏差值均在指標范圍內，該原因可排除。 （2）轉子彎曲度較大也可導致異常振動。

P-FSI和DC-FSI的流體都要求是瞬態計算，估算時間步長，既要滿足振動最高頻率的要求，還要滿足一個時間步內網格變形量不能過大（否則造成CFD網格負體積而發散）。 避免在一個時間步內傳遞很大的力給OptiStruct，或反之，在一個時間步內傳遞很大的位移給AcuSolve。

P-FSI和DC-FSI的流體都要求是瞬態計算，估算時間步長，既要滿足振動最高頻率的要求，還要滿足一個時間步內網格變形量不能過大（否則造成CFD網格負體積而發散）。 避免在一個時間步內傳遞很大的力給OptiStruct，或反之，在一個時間步內傳遞很大的位移給AcuSolve。

家用配電箱跳閘，是很多市民朋友們都遇到過的事情，確實很煩人。比如說打著LOL定級賽呢，突然就停電了，是不是很惱火？其實這是好事，總比家庭電路出現問題了，保護裝置還沒動作要好得多，因為配電箱跳閘是你家電路出現嚴重問題的先兆。要知道，普通家庭發生家用電事故，配備漏電保護器的配電箱，是保證你生命財產安全的第一道防線，也是最后一道防線。

投放跳過提示：當指定的多面體面數過少時，可能會存在無法生成多面體實體的情況，這時程序會跳過當前多面體的投放（但是多面體所在區域的干涉檢測會存在），可以適當增加多面體的面數參數來避免該現象的發生。提示中的輸出序列為跳過的partAgg編號。建模教程 ?打開插件設置參數，點擊OK自動生成裝配體模型。 ?可在裝配中將骨料進行合并，方便批量操作。

每段一般有兩級延時，以較短延時縮小故障范圍（跳母聯或條本側開關），以較長延時切除變壓器（跳三側開關）。具體保護配置根據實際情況確定。如圖，零序方向電流保護I段或II段動作后，先經較短延時t1或t3跳母聯或跳本側開關，以縮小故障影響范圍，若故障量仍在，再經過較長延時t2或t4跳三側開關切除變壓器。III段不帶方向，直接經延時切除變壓器。

6、安全閥的頻跳 頻跳指的是安全閥回座后，待壓力稍一升高，安全閥又將開啟，反復幾次出現，這種現象稱為安全閥的“頻跳”。安全閥機械特性要求安全閥在整動作過程中達到規定的開啟高度時，不允許出現卡阻、震顫和頻跳現象。發生頻跳現象對安全閥的密封極為不利，極易造成密封面的泄漏。