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同一個k文件,設(shè)置的侵蝕接觸,用SMP正常,但用MPP就會出現(xiàn)穿透,請問是為什么,該怎么調(diào)整

請問大佬們,如果LSDYNA用工作站計算,mpp版本和個人電腦的smp版本計算結(jié)果差別大么?如果用mpp計算,在關(guān)鍵字設(shè)置上和smp有什么區(qū)別么,需要額外添加什么關(guān)鍵字么?


我看dyna手冊上說這個關(guān)鍵字從面要定義為節(jié)點集,但是在失效前這個part是lag單元,沒法設(shè)置節(jié)點集,還是只要從面設(shè)置成SPH粒子的part就可以了,dyna計算中可以自動設(shè)置定義?迷惑,請大佬指點

麻煩大佬幫忙看一眼,我的方塊后表面是要反射的,我一旦設(shè)置了反射屬性,就沒法建立“對”——就無法設(shè)置熱接觸。但是我是想進(jìn)行STOP分析的,找了很久沒找到辦法。
在SMP版本的LS-DYNA中提交了設(shè)有*CONTROL_ADAPTIVE關(guān)鍵字的模型,與沒有設(shè)置*CONTROL_ADAPTIVE關(guān)鍵字的模型相比,結(jié)果沒有變化。 預(yù)期模型應(yīng)該發(fā)生以下變化:單元隨著變形的增大,自動分裂加密,如下圖所示。實際后處理時發(fā)現(xiàn),單元沒有分裂加密。不知道這是什么原因呢?
但是我在Maxwell和HFSS設(shè)置中根本就沒有求解這個點,為什么還會報這樣的錯呢,如何解決呢一開始以為是log掃不精準(zhǔn),后來直接改為單點,還是沒法解決 電磁仿真萌新求大佬幫助!!!!

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