納米壓印，終于走向臺前？ 
模板壽命低，更換成本高：不管是DUV光刻、EUV光刻還是納米壓印，最貴的耗材都是掩膜版或者壓印模板。納米壓印的模板，因為是需要直接接觸壓印膠工作的，在接觸的過程中，難免會有各種各樣的損傷或者污染，縮短模板壽命。 對準復(fù)雜：壓印模板需要與承載壓印膠的基臺精確對準與貼合，需要精密的機械裝置配合檢測設(shè)備實施壓印過程。然而現(xiàn)有納米壓印設(shè)備在平行與垂直對準方面缺少高精密的調(diào)準機構(gòu)。
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Will王 ??? 3年前
Feature Article：便捷加工厘米級超表面透鏡——基于水溶性模具的納米壓印技術(shù) 
論文導(dǎo)讀 有別于電子束光刻，納米壓印兼具低成本、高產(chǎn)量和高分辨率的優(yōu)勢[3]。顧名思義，納米壓印通過機械“壓印”的方式將主模板的圖形轉(zhuǎn)移到另一媒介上，如同印章過程。然而，納米壓印用于超表面加工依然存在著許多問題。
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光與影 ??? 2年前
利用lammps模擬不同壓頭半徑對單晶鋁納米壓痕的影響 
2.1.問題描述納米壓痕是確定金屬材料特性的最廣泛使用的方法之一。分子動力學(xué)（MD）模擬是一種強大的工具，可以研究納米壓痕過程中原子尺度上的材料行為，并深入了解材料的塑性變形。本工作采用單晶鋁作為原材料，旨在為使用MD設(shè)計納米壓痕模擬提供指導(dǎo)。
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320科技工作室 ??? 2年前
單晶納米壓痕晶體塑性模擬案例 
測量樣品中殘余壓痕的面積，硬度表示為，載荷與面積的比值（誤差較大）納米壓痕通過在納米尺度上以非常精確的尖端形狀、高空間分辨率進行壓痕，以及在壓痕過程中提供實時載荷位移（進入表面）數(shù)據(jù)，改進了這些宏觀和微觀壓痕測試。在納米壓痕中，使用了較小的載荷和尖端尺寸，因此壓痕面積可能僅為幾平方微米甚至納米。這在確定硬度方面存在問題，因為接觸面積不容易找到。
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晶體塑性有限元 ??? 3年前
abaqus納米壓痕？
請教abaqus大佬，納米壓痕載荷位移曲線平臺段怎么設(shè)置，是材料出問題了嘛，用位移加載，試了很多方法都加載不出來平臺的保載段，求大佬賜教！！！
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用戶_82035 ??? 1年前
鉚接_無鉚釘鉚接_壓印連接仿真 
鉚接_無鉚釘鉚接_壓印連接仿真教學(xué)視頻，附贈源文件，視頻講解壓印仿真關(guān)鍵點和注意事項，按照視頻能保證你做出來，有不懂的也可以找我交流。
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郭亞濤 ??? 3年前
Abaqus納米壓痕仿真該怎么做?
我根據(jù)網(wǎng)上的視頻教程建立了二維納米壓痕模型，壓頭設(shè)定為剛體，材料賦予其屬性，得到了載荷位移曲線。 可是根據(jù)仿真得到載荷位移曲線反推材料屬性的過程中，計算得出的材料的彈性模量，屈服應(yīng)力，和硬化指數(shù)都有很大的偏差，請各位幫幫忙，給一點意見。 如果根據(jù)網(wǎng)上視頻建立的模型沒問題的話，想知道如何在已知彈性模量，泊松比，屈服強度，硬化指數(shù)的情況下，對材料的屬性進行輸入（冪率模型）? 謝謝各位大佬
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不是夜貓子 ??? 2年前
鉚接_無鉚釘鉚接_壓印連接仿真 
本人做的壓印連接教學(xué)視頻，有興趣的朋友可以學(xué)習(xí)下，課程附贈源文件。
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郭亞濤 ??? 3年前
基于無網(wǎng)格SPH法的納米壓痕仿真方法（分析裂紋的萌生及擴展） 
基于無網(wǎng)格SPH法的納米壓痕仿真方法（分析裂紋的萌生及擴展）建模分析流程：用WB建立FEM幾何模型，用APD前處理，用LSPP進行femsph轉(zhuǎn)化，生成SPH粒子，進行虛粒子約束等便捷處理，定義接觸設(shè)置求解時間，定義裂紋損傷的輸出等，最后用UE軟件對K文件進行查看，替換硬脆材料的JH-2本構(gòu)模型，檢查K文件正確性等。
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程蔚 ??? 4年前
ASML勁敵跳過EUV光刻機造5nm：或可繞過美國限制！ 
最后，將掩膜對準涂覆有光刻膠的晶圓，以極高的精度對正確的位置進行“壓印”，形成線路。 NIL技術(shù)中采用的壓印掩膜（Mask）掩膜的放大圖（圖片出自：佳能官網(wǎng)）●僅需一次“壓印”，即可形成復(fù)雜的2D、3D線路圖案。
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CINNO ??? 2年前
Science | 納米尺度光的“反常”折射現(xiàn)象 
（拓展閱讀： 《Nature Nanotechnology | 納米尺度“操控”光傳輸》 ） 由于不同光學(xué)拓撲態(tài)展現(xiàn)材料的光學(xué)物性不同，其外在的光學(xué)響應(yīng)（玻印亭矢量與波矢）也會出現(xiàn)極大的差別。
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光與影 ??? 3年前
2024年-深圳國際納米材料及微納制造展會 
微納制造：納米研磨設(shè)備(干濕法研磨、臥式砂磨機、珠式砂磨機、三棍研磨機），納米微粒混合物，分散技術(shù)，薄膜制造技術(shù)，蝕刻，離子束激光處理器，電子束處理，填裝充電處理，微電路制造，超精度表面加工技術(shù)，融合接合技術(shù)，下一代光刻技術(shù)，納米壓印技術(shù)，飛秒激光曝光設(shè)備，MEMS、噴墨機，NEMS，傳感器，納米電子，光電，射流，模型，WCM。
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用戶_38817 ??? 2年前
納米銀膏增強大功率LED器件散熱性能研究 
本研究提出采用無壓燒結(jié)納米銀膏，以提升大功率發(fā)光二極管散熱性能．金屬銀本身具有優(yōu)異的導(dǎo)電導(dǎo)熱性能，同時該納米銀膏可實現(xiàn)無壓低溫燒結(jié)，既保護芯片又可獲得耐高溫互連接頭．將納米銀膏作為大功率發(fā)光二極管貼片材料，可顯著提高發(fā)光二極管產(chǎn)生熱量的耗散速率．本研究分析了納米銀膏燒結(jié)溫度對電學(xué)、界面孔隙率和發(fā)光二極管結(jié)溫及熱阻的影響，此外對比分析了該納米銀膏與幾種傳統(tǒng)固晶材料對發(fā)光二極管散熱性能及光學(xué)性能的影響．
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電子產(chǎn)品世界 ??? 3年前
章節(jié)四、simufact.forming14.0壓印成形 
１）幾何模型：見ＣＡＤ文件２）材料模型：DB.X10CrNiTi18-9_c３）設(shè)備參數(shù)：曲柄壓力機 Ｒ ２０ＭＭ Ｌ １００ＭＭ ＲＥＶ ３０ＲＰＭ４）摩擦條件：庫倫摩擦０.０５ 剪切摩擦０.０３５）溫度條件：模具溫度２０℃ 工件溫度２０℃ 環(huán)境溫度２０℃６）其它邊界條件：無７）網(wǎng)格劃分：成形區(qū)間自動細化８）成形控制：行程１.５ｍｍ９）模型檢查，提交計算１０）
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Hubert.Wang ??? 8年前
用于極端環(huán)境下的熱防護材料——仿貝殼納米復(fù)合氣凝膠 
03 圖文導(dǎo)讀 圖1 納米復(fù)合氣凝膠設(shè)計原則 圖2 納米復(fù)合氣凝膠仿貝殼結(jié)構(gòu) 圖3 納米復(fù)合氣凝膠抗壓性能 圖4 納米復(fù)合氣凝膠的恒溫力學(xué)性能 圖5 納米復(fù)合氣凝膠高絕熱性能
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熱管理博覽會 ??? 3年前
納米氧化鋁對氧化鋁陶瓷的影響 
2.實驗過程本實驗采用常規(guī)燒結(jié)方法來燒結(jié)氧化鋁陶瓷，其具體過程如下：首先30nm的Al2O3粉（晶瑞VK-L30）成形前需用超聲波分散；然后，按照配方的要求準確稱取所需的量加入到1μ的Al2O3粉中；其次，再將質(zhì)量分數(shù)為5%的PVA(聚乙烯醇）作為粘結(jié)劑加入到Al2O3粉中，最后，研磨均勻，在250MPa的壓力下壓成尺寸約為 3mm×4mm×36mm 的坯體。
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晶瑞孫618 ??? 3年前
Photonics | 等離激元納米天線揭示細菌酶分子振蕩 
實驗中，他們將所構(gòu)建的等離激元光學(xué)納米天線放置于細菌生存環(huán)境中，根據(jù)等離激元光學(xué)納米天線散射光譜強度的變化，分別對單個大腸桿菌和金黃色葡萄球菌外膜囊泡釋放的偶氮還原酶分子進行了持續(xù)實時探測。外膜囊泡釋放到周圍環(huán)境后，周圍滲透壓的改變和等離激元光學(xué)納米天線的局域光熱效應(yīng)會促進外膜囊泡的破裂，使得酶分子釋放而被等離激元光學(xué)納米天線探測到。
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光與影 ??? 2年前
自堆疊三維各向異性的PANF- BNNS/EP高導(dǎo)熱納米復(fù)合材料 
該團隊提出利用聚合誘導(dǎo)的對芳綸納米纖維(PANF)的框架形成特性和六方氮化硼納米片(BNNS)的高導(dǎo)熱性，通過簡單的真空輔助自堆疊方法成功制備了三維層壓的PANF- BNNS氣凝膠，該氣凝膠可作為環(huán)氧樹脂(EP)的導(dǎo)熱骨架。在所制備的PANF-BNNS/EP納米復(fù)合材料中，13.2%的BNNS負載時，其導(dǎo)熱系數(shù)為3.66 W/mK。通過有限元分析驗證了熱傳導(dǎo)路徑的有效性。
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熱管理博覽會 ??? 2年前
21種表面處理工藝，看完十分過癮 
18燙印燙印俗稱"燙金",是指在精裝書封殼的封一或封四及書背部分燙上色箔等材料的文字和圖案，或用熱壓方法壓印上各種凸凹的書名或花紋。19水轉(zhuǎn)印水轉(zhuǎn)印是利用水壓將帶彩色圖案的 轉(zhuǎn)印紙/塑料膜進行高分子水解的一種印刷。工藝流程包括水轉(zhuǎn)印花紙的制作，花紙浸泡，圖案轉(zhuǎn)貼，干燥，成品。
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UG模具設(shè)計材料 ??? 4年前
二元光柵設(shè)計流程 
感謝納米壓印技術(shù)，使小尺寸的光柵的制造已經(jīng)變得可行。 VirtualLab Fusion采用內(nèi)置的傅里葉模態(tài)方法（FMM，也稱為RCWA）和不同的優(yōu)化算法，為二元光柵提供了完整的用戶友好的設(shè)計工作流程，和隨后的制造誤差分析，如圓邊效應(yīng)。 利用傅立葉模態(tài)法（FMM）優(yōu)化傾斜光柵，以實現(xiàn)將光耦合到波導(dǎo)中的高衍射效率。 分析制造公差，如圓形邊緣。
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追光ing ??? 5月前
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