高效偏振無關透射光柵的分析與設計

 

具有直壁或傾斜側壁的二元光柵已成為許多光學應用中的關鍵部件。 感謝納米壓印技術，使小尺寸的光柵的制造已經變得可行。 VirtualLab Fusion采用內置的傅里葉模態方法（FMM，也稱為RCWA）和不同的優化算法，為二元光柵提供了完整的用戶友好的設計工作流程，和隨后的制造誤差分析，如圓邊效應。