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此次，坐擁全球金屬掩膜版最高市占率的DNP率先在黑崎工廠增設面向第8代基板的大型金屬掩膜版產線。此次的新產線將被設在原生產液晶顯示屏彩色濾光片（Color Filter）的廠房內，以提高投資效率。金屬掩膜版的概要和DNP的實施措施金屬掩膜版是一種密布著細微開孔的薄型金屬材料，將RGB（Red、Green、Blue）三色OLED發光材料附著于基板上時會用到該材料。

此腳本的設計用于讀取舊版*.dat文件（僅輻照度）以及當前FRED網格數據*.fgd文件格式，后者包含輻照度或復數標量場數據。運行時，用戶首先從列表中選擇一個光源，并指定該光源是否為相干的。接下來，文件以對話框呈現，允許選擇*.fgd或*.dat文件。如果選擇了*.dat文件，腳本將創建并保存數據為*.fgd文件。然后，腳本為選定的光源填充振幅/相位掩模并設置數據類型。

另一方面，對于IT用第8代OLED用掩模版，豐元精密表示，到2025年將完成FMM和開放式金屬掩模版(OMM)的開發，從2026年開始量產FMM和OMM。該日程與三星顯示的IT用第8代OLED生產線安裝和啟動日程相匹配。

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光線會通過“掩模版”投射到晶圓上，光刻機的光學系統（DUV系統的透鏡）將掩模版上設計好的電路圖案縮小并聚焦到晶圓上的光刻膠。如之前介紹的那樣，當光線照射到光刻膠上時，會產生化學變化，將掩模版上的圖案印制到光刻膠涂層上。使曝光的圖案完全正確是一項棘手的任務，粒子干擾、折射和其他物理或化學缺陷都有可能在這一過程中發生。

在光刻工藝中，光刻機光學系統本身存在一定局限性，加之光路傳播過程中不可避免地會發生衍射與干涉現象，導致曝光在晶圓上的圖形與掩模版原始設計圖形出現明顯偏差。常見的失真表現包括線端縮短、線寬變窄、直角圖形被圓化等。

采用孤立線條、版密集線條和密集接觸孔的OPC和HSMO仿真參數 采用孤立線條、版密集線條和密集接觸孔的OPC和HSMO仿真結果05/PW擴展效果損失函數收斂：HSMO在30~35次迭代內可有效降低損失函數，可見下圖。

目前，FMM和FMM材料因瓦合金(Invar，鎳-鐵特殊合金)分別由日本的大日本印刷公司(DNP)和日本日立金屬（Hitachi Matel）獨家供應。DNP以濕蝕刻方式生產FMM。不同于APS Materials的主力技術-激光平移的方式。同時，FMM是指蒸鍍OLED時需要的掩模版。

光源掩模聯合優化（SMO）作為另一項核心技術，聚焦于通過協同優化光源與掩模圖形，降低工藝因子并突破單次曝光的分辨率極限。與傳統“先確定光源再優化掩模”的順向思路不同，SMO采用逆向計算邏輯：以芯片需要成型的目標圖像為出發點，通過精確的成像模型反推計算，得出最佳的掩膜版圖形與光源配置方案。

imec 將線邊緣粗糙度 (LER) 確定為使用薄抗蝕劑膜圖案化線/空間的最關鍵參數之一，并探索照明角度和掩模調節的作用以減輕這種情況。imec 還介紹了金屬氧化物抗蝕劑的使用以及旨在防止隨機印刷失敗的圖案和蝕刻方案。 低于 10nm 的特征尺寸和 20nm及以下的抗蝕劑薄膜也為高通量計量提出了新問題。

用于IT的8.5代OLED技術，就像現有的六代(1500x1850mm)OLED技術一樣，采用FMM（精細金屬掩模版）方式。使用FMM將RGB OLED像素相鄰蒸鍍到發光層上，該技術被稱為“RGB-OLED”技術。而LG顯示在電視上采用的大尺寸OLED技術則不使用FMM，而是使用開放式金屬掩模版(OMM)將發光層堆疊到三層。

制造OLED器件的方案包括基于FMM（精密金屬掩模版，Fine Metal Mask）的蒸鍍方案，該方案廣泛用于智能手機等小尺寸OLED產品的制造；基于白光OLED搭配彩膜的蒸鍍方案，該方案廣泛用于電視等大尺寸OLED產品的制造；以及基于溶液制程的噴墨印刷方案。

Hlaf Cut可以減少掩膜版下垂，因為薄膜晶體管（TFT）工藝后，基板在有機物蒸鍍過程中被切割成兩半。因為掩模版是垂直于地面的，垂直方式可以最大限度地減少掩模版的下垂。FMM能重復使用至少700次，最多1200次以上。 目前，OLED iMac開發項目沒有具體進行，對于OLED iMac所采用的技術展望也眾說紛紜。

FMM是用于中小尺寸有機發光二極管(OLED)蒸鍍的精細金屬掩模版。日本公司大日本印刷(DNP)控制著全球的FMM市場。與DNP使用的蝕刻(蝕刻)方式不同，Philoptics一直以電鑄鍍金的方式開發FMM。

利用自主開發的超高分辨率精細金屬掩模版(FMM)的增強現實、虛擬現實(AR、VR)用顯示屏，預計將加快推動AR、VR設備市場的普及。APS Holdings向國內外面板、AR、VR設備廠商供應樣品，推動技術合作和商業化。3000ppi Micro OLED驅動APS Holdings研發的Micro OLED采用RGB方式，無需彩色濾光片，僅憑借RGB有機物發光即可實現色彩。

圓錐形相位掩模的Talbot圖像 在VirtualLab Fusion中對帶有圓錐體的相位掩模版進行了建模。檢測到不同的Talbot圖像，以使柱形圖案位于主像平面中，而孔圖案出現在次像平面中。

據韓媒Etoday報道，據9月9日綜合報道，HBM已成功完成針對高分辨率顯示器所需的精細金屬掩模版（FMM）尖端材料的開發工作，并計劃于年內量產。HBM相關人士透露：“FMM材料試制品的生產及后續測試工作均已完成”，并補充稱：“我們目前正為今年下半年或明年上半年的量產做準備。”

采用以往的FMM技術（Fine Metal Mask，精細金屬掩模版），會出現RGB（紅、綠、藍）各個像素中實際發光的部分（開口率）較小的問題。這是為了防止子像素（Sub Pixel）之間混色，需要保留較大的間隙。理論上來講，相同顏色間存在互相干擾的風險，這是引起諸多場景下“畫面串音（Cross Talk）”的主要原因。請介紹一下“eLEAP”的具體構造。

CINNO Research產業資訊，韓國有機發光二極管(OLED)張網機生產廠商KPS 818日表示，公司成功開發了首個用于Micro OLED的精密金屬掩模版(FMM)的張網機，并供應給APS Holdings。

據三星顯示6月20日的消息，豐元精密（Poongwon Precision）將于今年第三季度啟動其精細金屬掩模版（FMM）的量產，正式進軍第六代OLED制造工藝。從今年9月首次接受訂單開始，該公司計劃迅速增加供應量以滿足市場需求。行業內部人士表示：“豐元精密致力于打破日本DNP壟斷，實現FMM韓國自主化生產，在三星顯示的技術支持下，已經顯著改善了此前困擾其生產的FMM良品率問題。”