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在如醫療成像和工業檢查等廣泛的應用中，X射線成像是一種有價值的工具。在VirtualLab Fusion中，我們已經成功地實現了幾個著名的X射線成像系統，它們可以用來探索所討論裝置的成像特性，或用來說明特殊的X射線成像原理。在本通訊中，我們展示了兩個X射線成像實驗：(1)使用Kirkpatrick-Baez鏡創建納米級X射線成像點；(2)用單光柵干涉儀說明相襯X射線成像原理。

在如醫療成像和工業檢查等廣泛的應用中，X射線成像是一種有價值的工具。在VirtualLab Fusion中，我們已經成功地實現了幾個著名的X射線成像系統，它們可以用來探索所討論裝置的成像特性，或用來說明特殊的X射線成像原理。

該光子源使用粒子加速器產生超亮、高能X射線，以便用于嚴苛的科學研究。威斯康辛大學的系統結合了同步x射線成像和衍射——一種利用材料散射x射線的方式來重建形狀的過程。高能同步輻射x射線使研究人員能夠在打印系統工作時，以前所未有的細節觀察材料隱藏的內部是如何工作的。熱成像相機可以讓他們研究工藝過程中監控溫度的變化，而可見光相機可以讓他們研究零件表面結構的變化。

X射線成像已在醫學成像和工業檢查等領域有許多應用。一個常見的X射線成像設備的設計是基于泰伯效應——一種衍射效應，其中一個周期性的結構，如光柵，可在其背后一定距離產生該結構精確的像。作為一個基于快速物理光學的軟件平臺，VirtualLab Fusion提供了合適的求解器來傳播光線，包括所有的衍射效應。

在如醫療成像和工業檢查等廣泛的應用中，X射線成像是一種有價值的工具。在VirtualLab Fusion中，我們已經成功地實現了幾個著名的X射線成像系統，它們可以用來探索所討論裝置的成像特性，或用來說明特殊的X射線成像原理。在本通訊中，我們展示了兩個X射線成像實驗：(1)使用Kirkpatrick-Baez鏡創建納米級X射線成像點；(2)用單光柵干涉儀說明相襯X射線成像原理。

X射線成像已在醫學成像和工業檢查等領域有許多應用。一個常見的X射線成像設備的設計是基于泰伯效應——一種衍射效應，其中一個周期性的結構，如光柵，可在其背后一定距離產生該結構精確的像。作為一個基于快速物理光學的軟件平臺，VirtualLab Fusion提供了合適的求解器來傳播光線，包括所有的衍射效應。

摘要X射線成像通常是基于Talbot效應，以及光柵的周期性自成像。按照N. Morimoto等人的工作，我們選擇了三種類型的相位光柵，有十字、棋盤和網狀圖案。這些光柵在一個單一的光柵干涉儀中被采用，被建模為僅有相位的傳輸函數（因為X射線的波長比光柵的最小特征尺寸小得多），并且在VirtualLab Fusion中測試它們的自成像。

摘要X射線成像通常是基于Talbot效應，以及光柵的周期性自成像。按照N. Morimoto等人的工作，我們選擇了三種類型的相位光柵，有十字、棋盤和網狀圖案。這些光柵在一個單一的光柵干涉儀中被采用，被建模為僅有相位的傳輸函數（因為X射線的波長比光柵的最小特征尺寸小得多），并且在VirtualLab Fusion中測試它們的自成像。

摘要 X射線成像通常基于Talbot效應和光柵的自成像。 在N. Morimoto等人的工作之后，我們選擇了三種類型的相位光柵，分別是交叉形，棋盤形和網格形圖案。 本案例中，光柵被用于單光柵干涉儀中，建模為僅相位傳輸函數（因為X射線波長遠小于光柵周期），并在VirtualLab Fusion中檢查了其成像。

摘要 X射線成像通常是基于Talbot效應，以及光柵的周期性自成像。按照N. Morimoto等人的工作，我們選擇了三種類型的相位光柵，有十字、棋盤和網狀圖案。這些光柵在一個單一的光柵干涉儀中被采用，被建模為僅有相位的傳輸函數（因為X射線的波長比光柵的最小特征尺寸小得多），并且在VirtualLab Fusion中測試它們的自成像。

摘要X射線成像通常基于Talbot效應和光柵的自成像。 在N. Morimoto等人的工作之后，我們選擇了三種類型的相位光柵，分別是交叉形，棋盤形和網格形圖案。 本案例中，光柵被用于單光柵干涉儀中，建模為僅相位傳輸函數（因為X射線波長遠小于光柵周期），并在VirtualLab Fusion中檢查了其成像。

摘要X射線成像通常是基于Talbot效應，以及光柵的周期性自成像。按照N. Morimoto等人的工作，我們選擇了三種類型的相位光柵，有十字、棋盤和網狀圖案。這些光柵在一個單一的光柵干涉儀中被采用，被建模為僅有相位的傳輸函數（因為X射線的波長比光柵的最小特征尺寸小得多），并且在VirtualLab Fusion中測試它們的自成像。

a）3D打印的發散型CRL置于250納米厚的氮化硅膜上的光學顯微鏡圖像；b）復合折射透鏡和c）45度視角的波帶片的掃描電子顯微鏡圖像；d）復合折射透鏡（左下角）與火柴棒的對比。 在德國PETRA III同步輻射P06光束線上進行的X射線掃描透射顯微成像和疊層成像測量結果顯示，該透鏡系統在7至12 keV的X射線能量范圍內表現出極佳的消色差性能，見圖3。

wx_fmt=png&amp;from=appmsg&amp;tp=wxpic&amp;wxfrom=10005&amp;wx_lazy=1#imgIndex=5" alt="圖片"></p><p>（f）利用帶有掃描附件和能量色散X射線譜儀的TEM，或者利用帶有圖像過濾器的TEM，對樣品中的元素分布進行分析，確定樣品中是否有成分偏析。

X射線成像技術是基于泰伯效應和光柵自成像。根據N. Morimoto 等人工作，我們選擇了三種典型的相位光柵，并分類利用它們在VirtualLab Fusion 中建模了單光柵干涉儀。通過傅里葉變換設置，我們可以計算其自成像，即相位光柵后面的衍射圖（建模為透射函數），并比較不同類型光柵的結果。

摘要X光成像通常基于Talbot效應和光柵的自成像。 遵循N. Morimoto等人的工作，我們選擇了三種類型的相位光柵，分別是交叉型，棋盤形和網格圖案。 在本案例中，光柵被用于單光柵干涉儀中，建模為僅相位透射函數（因為X射線波長遠小于光柵周期），并在VirtualLab Fusion中我們還檢查了其自成像。

大家對能夠進行樣品的微區結構與形貌分析的掃描電子顯微鏡（SEM）和透射電子顯微鏡（TEM）都不陌生，而與之相關的利用特征X射線具有特征能量這一原理設計的用于成分分析的能量色散X射線譜儀（EDS），因為不常用，所以可能就沒那么熟悉了。而今天，小編就給大家講講，EDS的那些事兒！

掃描電鏡mapping圖為我們深入了解材料的微觀結構和成分分布提供了獨特視角，尤其在靜電紡絲纖維結構觀察方面，有著重要價值。 掃描電鏡mapping，專業術語稱為“X射線能譜面分布分析”或“元素分布成像”。其工作原理是基于電子與物質的相互作用。

1.1 基于x-CT的電極微觀結構表征技術x-CT技術即通過X射線對電極樣品的指定位置進行透射，從而達到無損檢測樣品表面及內部結構的目的。當利用x-CT技術對電極樣品進行整體形貌表征時，由發射源對樣品放射一定強度的X射線，測試樣品將吸收部分X射線并把透射出樣品的X光束折射至閃爍探測屏，最后由電荷耦合原件（CCD）形成電極二維投影圖像。

摘要X光成像通常基于Talbot效應和光柵的自成像。 遵循N. Morimoto等人的工作，我們選擇了三種類型的相位光柵，分別是交叉型，棋盤形和網格圖案。 在本案例中，光柵被用于單光柵干涉儀中，建模為僅相位透射函數（因為X射線波長遠小于光柵周期），并在VirtualLab Fusion中我們還檢查了其自成像。 建模任務 系統參數來自 N.