Light | 復消色差X射線聚焦



作者:周倩葦


衍射透鏡和折射透鏡在X射線分析和高分辨率X射線顯微系統中廣泛應用。然而這兩種透鏡的高色散特性導致不同波長的X射線焦點位置不同,從而造成成像時的色差問題,成像質量大打折扣。因此,利用衍射或折射透鏡的X射線顯微成像系統通常使用高度單色性的光來避免色差現象,其代價則是大量的X射線被浪費。

在可見光領域,消色差透鏡的使用已有百年之久,通過兩種色散力不同的玻璃并滿足相應的曲率條件的雙透鏡來實現。而在X射線領域,大部分物質對X射線的色散力差異極小,同樣的方法并不適用。


21世紀初,研究者提出一種新型的解決方案,將折射透鏡和衍射透鏡組合在一起,利用兩種類型透鏡色散力的顯著差異達成消色差的條件。然而,囿于制造技術水平的限制,這種解決方案的設計僅限于理論階段。

近年來,微納制造技術快速發展,基于雙光子聚合的3D打印技術日趨成熟,使適用于該系統的高數值孔徑的復合折射透鏡的制造成為可能。

近日,瑞士保羅謝爾研究所的Umut T. Sanli、齊鵬,巴塞爾大學的Griffin Rodgers和德國電子同步加速器研究所(DESY)的Jan Garrevoet等研究人員以 “Apochromatic X-ray focusing(復消色差X射線聚焦)”為題在Light: Science & Applications發表研究論文

消色差(achromatic)透鏡由具有不同色散能力的兩個透鏡組成,可將兩個不同波長的光聚焦到同一點,從而在一定波長范圍內達到消色差效果。


復消色差(apochromatic) 透鏡可以認為是消色差透鏡的改進版,色偏移曲線是三次方程,可將三個不同波長的光聚焦到一點,使消色差的波長范圍提升數倍,見圖1。

Light | 復消色差X射線聚焦的圖1

圖1:X射線復消色差聚焦原理:折射透鏡和菲涅爾波帶片以特定間隔前后放置,色差相互糾正,三種不同的能量/波長的X射線可同時聚焦于點F。 


在可見光領域,消色差和復消色差透鏡存在已有百年之久。而在X射線領域,直到2022年世界上首個消色差透鏡才剛剛問世。本文報道了該研究團隊在消色差透鏡的工作基礎上,使用滿足特殊條件的菲涅爾波帶片 (FZP) 和復合折射透鏡 (CRL),成功研制的世界上首個X射線復消色差透鏡系統。實驗顯示,該復消色差透鏡在7 keV到12 keV的能量范圍內表現出良好的消色差效果,相比消色差透鏡,消色差范圍提高了四倍,可以更廣泛地應用于折射和衍射透鏡的色差校正。




該研究開發的復消色差X射線透鏡系統由兩個相互獨立的光學元件組成:一個是雙光子聚合3D打印技術制造的復合折射透鏡,另一個是通過電子束光刻和金電鍍制造的菲涅爾波帶片,見圖2。

Light | 復消色差X射線聚焦的圖2圖2. X射線復消色差透鏡的組成部分。a)3D打印的發散型CRL置于250納米厚的氮化硅膜上的光學顯微鏡圖像;b)復合折射透鏡和c)45度視角的波帶片的掃描電子顯微鏡圖像;d)復合折射透鏡(左下角)與火柴棒的對比。

在德國PETRA III同步輻射P06光束線上進行的X射線掃描透射顯微成像和疊層成像測量結果顯示,該透鏡系統在7至12 keV的X射線能量范圍內表現出極佳的消色差性能,見圖3。

Light | 復消色差X射線聚焦的圖3圖3:Siemens星測試樣品在不同能量X射線束中的掃描透射顯微圖像 (樣品在光軸上位置無變化)。圖中展示了兩個不同的FZP-CRL分離距離d。

相比前述報道的初代X射線消色差透鏡,復消色差透鏡的有效能量范圍提高了四倍。該系統的實現對短曝光時間和高信噪比的時間分辨實驗有重要意義。


該系統亞微米尺寸的焦點可分辨480 nm線寬的測試樣品。納米3D打印技術的發展使數值孔徑更高的光學元件的制備并不困難,可以進一步提高其空間分辨率。但由于折射透鏡對X射線的吸收,實現100納米以內的高分辨率仍然頗具挑戰。在硬X射線波段,相對較低的X射線吸收可以帶來更大的改進空間。納米級3D打印技術的快速發展將是實現所需折射結構制造的關鍵。


X射線消色差和復消色差透鏡的問世,是X射線顯微成像領域具有里程碑意義的重大進展,甚至有可能以其經濟、緊湊和同軸成像的優勢取代現有的反射鏡系統,將在基于加速器和實驗室X射線源的顯微成像系統中扮演越來越重要的角色。

  論文信息  

Sanli, U.T., Rodgers, G., Zdora, MC. et al. Apochromatic X-ray focusing. Light Sci Appl 12, 107 (2023).
https://doi.org/10.1038/s41377-023-01157-8



本文編輯:趙陽

文章來源:中國光學





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