橢圓偏振分析器

 

在最新發(fā)布的快速物理光學(xué)軟件VirtualLab Fusion 2023.1中，橢圓偏振分析器已被添加到該軟件不斷增加的功能陣列中。它提供了一個簡單明了的方法，通過在模擬產(chǎn)生的電磁場結(jié)果上應(yīng)用橢圓偏振的概念來研究涂層、多層結(jié)構(gòu)和光柵的特性。此外，它還提供了在分析儀內(nèi)自動掃描波長和入射角的可能性，從而方便地生成典型的橢圓偏振曲線，這些曲線在擬合到一個模型后，可以繼續(xù)揭示我們試圖從這些實(shí)驗(yàn)中獲得的材料特性。你可以在下面找到解釋如何使用這個新的分析儀的文件鏈接，以及一個應(yīng)用于二氧化硅涂層測量的例子。

橢圓偏振法是一種光學(xué)測量方法，它利用了光在被表面反射（或透過）時發(fā)生的偏振變化，例如塊狀材料或薄膜。隨著時間的推移，它在半導(dǎo)體和光學(xué)涂層應(yīng)用中得到了普及，因?yàn)榕c傳統(tǒng)的反射測量相比，它的靈敏度更高。 因此，橢圓偏振法現(xiàn)在被用來準(zhǔn)確地表征不同樣品的成分、粗糙度、厚度、結(jié)晶特性、導(dǎo)電性和其他材料特性。