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楊氏實(shí)驗(yàn)的結(jié)果可以定性地解釋為條紋圖，也可以定量地解釋為相干因子（作為為光源寬度的函數(shù)）。兩種理論都會(huì)在本文中詳細(xì)分析。 本文將討論雙縫實(shí)驗(yàn)背后的理論，并在OpticStudio的非序列模式下對(duì)該實(shí)驗(yàn)進(jìn)行精確建模。 楊氏雙縫干涉實(shí)驗(yàn) 楊氏雙縫干涉衍射實(shí)驗(yàn)是描述空間相干性在干涉條紋形成中所起到的作用的經(jīng)典裝置。

全息圖具有兩個(gè)特別的步驟：構(gòu)造步驟和重建步驟，分別用于說(shuō)明全息圖的構(gòu)建及其作為光學(xué)元件的使用。在構(gòu)建過(guò)程中，兩束相干光（稱為構(gòu)造光）相互干涉，它們的干涉被記錄在感光板上。全息圖就是被繪制出來(lái)的干涉圖。它帶有干擾結(jié)構(gòu)光束的特征。在重建步驟中，當(dāng)被讀出光所照射時(shí)，它像衍射光柵一樣帶有衍射構(gòu)造光的特性。

楊氏實(shí)驗(yàn)的結(jié)果可以定性地解釋為條紋圖，也可以定量地解釋為相干因子（作為為光源寬度的函數(shù)）。兩種理論都會(huì)在本文中詳細(xì)分析。本文將討論雙縫實(shí)驗(yàn)背后的理論，并在OpticStudio的非序列模式下對(duì)該實(shí)驗(yàn)進(jìn)行精確建模。楊氏雙縫干涉實(shí)驗(yàn)楊氏雙縫干涉衍射實(shí)驗(yàn)是描述空間相干性在干涉條紋形成中所起到的作用的經(jīng)典裝置。

，因此光瞳無(wú)法在布局圖中顯示。

在自由空間中，干涉如下描述： 在該表達(dá)式中， Λ 為條紋間距（密度的倒數(shù)）， ro 和 rr 是構(gòu)造光向量， f 是條紋面的正交方向。如圖所示，其中紅色虛線表示自由空間中的干涉條紋: 然而，OpticStudio 將全息圖建模為薄膜，代表除了在全息圖表面的平面上，在任何地方都不能有條紋。

本文使用 OpticStudio 自帶的 Double Gauss 28 degree field.ZMX 文件作為示例，該文件位于 Zemax 根目錄下 Samples > Sequential > Objectives 文件夾中。

因此，F(xiàn)izeau干涉儀輸出值的1/2是被測(cè)透鏡本身的波前像差。此外還可以使用下圖的干涉圖分析功能進(jìn)行波前分析：放大率被設(shè)置為1。 幫助文件指出，對(duì)于雙通道光學(xué)系統(tǒng)，放大率應(yīng)設(shè)置為2，但這是在雙通道光學(xué)系統(tǒng)被建模為簡(jiǎn)化的單通道時(shí)。 如果像本例中那樣對(duì)整個(gè)雙通道進(jìn)行建模，則應(yīng)將放大率設(shè)為1。

增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)系統(tǒng)和全息圖 全息圖是記錄在高分辨率感光乳劑上的干涉圖案。全息系統(tǒng)的使用中存在兩個(gè)不同的階段：構(gòu)造階段和重構(gòu)階段，分別適用于全息圖的構(gòu)建和作為光學(xué)元件的使用。有關(guān)該主題的詳細(xì)內(nèi)容，請(qǐng)參考文章：“如何在OpticStudio中建模全息圖”。 在普通的AR系統(tǒng)中，光通過(guò)全息圖耦合到波導(dǎo)中，從而將相關(guān)信息從顯示器傳輸?shù)窖劬Α２▽?dǎo)的優(yōu)點(diǎn)是它很大程度上是透明的，不會(huì)阻擋來(lái)自現(xiàn)實(shí)世界的光。

生成的輸出文件在與原始 OpticStudio YYY.DAT 相同的文件夾中創(chuàng)建，擴(kuò)展名為 _INV_FLIPX 的 DAT 文件。凹面同樣，讓我們看看凹面光學(xué)元件的數(shù)據(jù)方向。下圖解釋了凹面和生成的干涉圖數(shù)據(jù)之間的映射關(guān)系。由于表面前面的中間焦點(diǎn)，被測(cè)凹面上的基準(zhǔn)點(diǎn)在干涉圖中沿 X 和 Y 方向翻轉(zhuǎn)。

增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)系統(tǒng)和全息圖 全息圖是記錄在高分辨率感光乳劑上的干涉圖案。全息系統(tǒng)的使用中存在兩個(gè)不同的階段：構(gòu)造階段和重構(gòu)階段，分別適用于全息圖的構(gòu)建和作為光學(xué)元件的使用。有關(guān)該主題的詳細(xì)內(nèi)容，請(qǐng)參考文章：“如何在OpticStudio中建模全息圖”。

在第一部分文章：《Ansys Zemax | 在 OpticStudio 中將干涉儀數(shù)據(jù)附加到光學(xué)表面 – 第一部分中》，我們演示了如何根據(jù)表面形狀和方向?qū)?em>干涉測(cè)量數(shù)據(jù)導(dǎo)入 OpticStudio，本部分文章我們將引入更多的實(shí)例演示。

Zemax作為應(yīng)用廣泛的光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)與仿真平臺(tái)，憑借其強(qiáng)大的建模能力、準(zhǔn)確的仿真算法和全流程優(yōu)化工具，成為光束整形系統(tǒng)研發(fā)的核心驅(qū)動(dòng)力。本文結(jié)合現(xiàn)有學(xué)術(shù)研究成果，解析Zemax在靜態(tài)與動(dòng)態(tài)光束整形技術(shù)中的應(yīng)用價(jià)值。光束整形技術(shù)激光器輸出的高斯光束呈中心強(qiáng)、邊緣弱的鐘形分布，能量利用率低的短板嚴(yán)重制約其在高端應(yīng)用中的表現(xiàn)。

當(dāng)將設(shè)置為繪制干涉時(shí)，這個(gè)比例因子決定了每個(gè)繪制的干涉條紋的實(shí)際物理干涉條紋的數(shù)量。例如，值 10 表示在圖中看到的每一條條紋，在全息圖表面都有 10 條實(shí)際物理?xiàng)l紋。對(duì)于高功率全息圖，可能需要極高的采樣率來(lái)查看完整的條紋圖案并避免混疊效果。增加這個(gè)比例因子可以消除混疊效應(yīng)，同時(shí)保持相對(duì)較低的采樣。

生成的輸出文件在與原始 OpticStudio YYY.DAT 相同的文件夾中創(chuàng)建，擴(kuò)展名為 _INV_FLIPX 的 DAT 文件。凹面同樣，讓我們看看凹面光學(xué)元件的數(shù)據(jù)方向。下圖解釋了凹面和生成的干涉圖數(shù)據(jù)之間的映射關(guān)系。由于表面前面的中間焦點(diǎn)，被測(cè)凹面上的基準(zhǔn)點(diǎn)在干涉圖中沿 X 和 Y 方向翻轉(zhuǎn)。

Zemax OpticStudio 和Speos Lens System Importer ，用于導(dǎo)出 Zemax OpticStudio 中設(shè)計(jì)的鏡頭模型，供 Speos 使用2. Speos 用于在 CMOS 成像儀前生成光譜輻照度圖3. Lumerical FDTD和CHARGE，用于計(jì)算傳感器的量子效率作為入射角和波長(zhǎng)的函數(shù)4.

某個(gè)角度的一道入射平面波會(huì)在下面兩個(gè)介面中反覆交錯(cuò)無(wú)數(shù)次：空氣到膜層介面以及膜層到基板介面。在每一次的交錯(cuò)中，就相應(yīng)產(chǎn)生一道穿透以及一道反射光場(chǎng)，最後這些光場(chǎng)會(huì)在同調(diào)的假設(shè)下相加。經(jīng)過(guò)一番如魔術(shù)般建設(shè)性以及破壞性干涉後，最後的結(jié)果可以用巨觀的反射以及穿透?jìng)S數(shù)來(lái)表示。入射光的電場(chǎng)並非用單一個(gè)點(diǎn)來(lái)描述，相對(duì)的，我們會(huì)假設(shè)該電場(chǎng)比多重光束干涉發(fā)生的區(qū)域更大許多。

條紋的定義為在干涉圖中從暗中心延伸到暗中心。一個(gè)條紋對(duì)應(yīng)于波長(zhǎng)的二分之一。 以納米為單位指定表面誤差通常更清楚。以納米為單位的等效規(guī)格為： ISO 14999-4 中的澤尼克多項(xiàng)式 Zernike多項(xiàng)式在ISO 14999第4部分中定義：ISO 10110中規(guī)定了公差的解釋和評(píng)估。

你只需要下載文件“ ARWaveguide.MF ”并復(fù)制到 Documents\Zemax\MeritFunction 文件夾中，然后從評(píng)價(jià)函數(shù)編輯器中使用載入評(píng)價(jià)函數(shù) (Load Merit Function) 按鈕。下面的步驟描述了所有構(gòu)成此評(píng)價(jià)函數(shù)的操作數(shù)。 步驟一 首先，我們將防止全息圖與波導(dǎo)的側(cè)面重疊，從下圖你可以看到點(diǎn) A 在表面 9 的右邊。

答：盡管計(jì)算全息圖 （CGH） 名稱中有一個(gè)”全息圖"，但它實(shí)際上不是由我們的模型假設(shè)的兩個(gè)光束干涉制造的。但是，對(duì)于位相型 CGH 來(lái)說(shuō)，您可以簡(jiǎn)單地采用位相表面來(lái)模擬 CGH，例如 Binary 2 或 Zernike 標(biāo)準(zhǔn)相位面。這兩種表面普遍地用于如 CCH 等應(yīng)用的位相板設(shè)計(jì)。

附件下載聯(lián)系工作人員獲取附件什么是DMD/ MEMS下圖顯示了一個(gè)DMD設(shè)備，它單獨(dú)傾斜的微鏡組成。鏡子通常被稱為像素。如何在OpticStudio中建模DMD這些設(shè)備可以在序列或非序列模式下建模。如何計(jì)算單個(gè)像素/鏡子的旋轉(zhuǎn)本節(jié)將說(shuō)明如何設(shè)置單個(gè)像素的旋轉(zhuǎn)。