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對于高達±500nm的位置誤差，耦合器的中心波長偏移約±2.5nm，CE波動小于0.3dB；當制作的微透鏡的高度偏差達到±500nm時，耦合器的中心波長漂移約±5nm，CE起伏小于0.1dB。仿真結果表明，ML-VGC在對制造誤差具有較高容限的同時，有效地提高了耦合性能。

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80年代，在CAD/CAM一體化的基礎上，逐步形成了計算機集成制造系統（CIMS）及并行工程（CE）的概念。目前，為了適應CIMS及CE發展的需要，數控編程系統正向集成化和智能化方向發展。