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注意: Analyze...Polarization中的所有分析功能均有Settings的選項(xiàng)，提供使用者直接輸入入射光的偏振態(tài)。但假如在其他情況下，使用具有’偏振使用(Use Polarization)’選項(xiàng)，卻又無(wú)法直接鍵入光線偏振態(tài)的分析功能時(shí)(像是Huygens PSF)，我們需要透過(guò)System Explorer...Polarization更改全域的偏振態(tài)設(shè)定。

全像能夠?qū)⒐?em>線繞射到任何所需的角度，其波長(zhǎng)和角度的選擇性使其能夠創(chuàng)造更輕、更緊密的光學(xué)系統(tǒng)。OpticStudio長(zhǎng)期以來(lái)一直支持理想全像的模擬。然而，為了準(zhǔn)確地說(shuō)明體積全像的特性，除了考慮繞射光線的傳播方向外，還必須考慮繞射效率、材料收縮或折射率變化等因素。考慮繞射效率使用戶能夠進(jìn)行圖像模擬和綜合優(yōu)化等高級(jí)分析。

有關(guān)自訂分析的更多資訊，請(qǐng)點(diǎn)擊程式設(shè)計(jì)(Programming)選項(xiàng)卡>關(guān)於ZOS-API (About the ZOS-API) >自訂分析 (User Analysis)，查看內(nèi)置幫助檔。打開(kāi)新的程式設(shè)計(jì)範(fàn)本使用C#創(chuàng)建自訂分析：用戶分析使用Windows資源管理器打開(kāi)解決方案資料夾‘..

單一波長(zhǎng)方面我們通常會(huì)選擇使用e線 (546.1nm)，因?yàn)樵摬ㄩL(zhǎng)更接近相對(duì)光度函數(shù)曲線(relative luminosity curve)的最大值。但在某些特殊的情況下，d線 (587.6 nm)的使用也是有可能的。NF與NC折射率可以由 (Nd,Vd) 或 (Ne,Ve) 回推。

單個(gè)光學(xué)元件的表面形狀可以是球面或變形（垂直和水準(zhǔn)子午線的光焦度不同）。光焦度通常僅在陣列的一個(gè)表面上，而第二個(gè)表面通常是平面的。在 OpticStudio 中對(duì)此設(shè)置進(jìn)行建模的最簡(jiǎn)單方法之一是使用陣列物件 (array object)。提供的範(fàn)例，選擇了 Lenslet Array 1 物件， 它由矩形體陣列組成，每個(gè)矩形體的前表面為平面，後表面為使用者自訂數(shù)目的重複曲面。

在 OpticStudio 中創(chuàng)建的光學(xué)設(shè)計(jì)可以無(wú)縫轉(zhuǎn)換為原始 CAD 元件，並且所有光學(xué)資訊都完好無(wú)損。使用 OpticsBuilder，機(jī)構(gòu)工程師可以創(chuàng)建複雜的透鏡邊緣、安裝特徵和模組外殼，同時(shí)利用 Zemax 光線追跡直接查看這些元件如何影響光學(xué)性能。在這種情況下，鏡頭邊緣可能會(huì)為雜散光提供路徑以污染圖像。

為了考慮厚度變化的影響，我們首先將光柵矢量分成兩個(gè)分量，K∥和K⊥，其中K⊥為垂直表面法線，K∥與表面法線平行。如果厚度從t到t'發(fā)生變化，則可以通過(guò)修改K∥計(jì)算出新的光柵矢量，如方程式（4）。圖 4. 當(dāng)全像材料收縮時(shí)，厚度從t 減少到 t'如何在序列模式下進(jìn)行設(shè)置I在本節(jié)中，我們將介紹如何在序列模式下設(shè)置全息。同時(shí)也討論了需要注意的事項(xiàng)。