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帖子 ZEMAX軟件應用專題:前 (OPD) 怎麼
前的當我們說前時,事實上通常是指前 “差”,或是光程差,指的是同一件事。OpticStudio預設使用出瞳作為前差的參考。因此,當我們要一條光的OPD時,此光會從物面出發後一路追跡穿過光學系統,最終到達像面後,在循原方向後退追跡到 “參考球面”。此參考球面的球心是主光與像面的交點,半徑是主光與像面交點到主光與出瞳面的焦點。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
ZEMAX軟件應用專題:波前 (OPD) 怎麼算的
帖子 Ansys Zemax光學設計軟件技術教程:眼科鏡片設計
過去,Sultanova等人發表了 15種光學塑膠的折射率資料(參考資料2),每種材料都有8個長的資料,並同時了每個材料的阿貝數 (V)。每個OpticStudio的眼科光學塑膠材料 (包含現在使用的這個) 都是先假設其色散曲、折射率、阿貝數均與Sultanova的塑膠相似,接著利用Conrady公式,從NF、Nd、Ne及NC的數值中建立材料檔案。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
Ansys Zemax光學設計軟件技術教程:眼科鏡片設計
帖子 ZEMAX軟件技術應用專題:在薄膜中Ray以及Field系數是什麼?
入射光的電場並非用單一個點來描述,相對的,我們會假設該電場比多重光束干涉發生的區域更許多。在Zemax OpticStudio中,我們使用field係數來表示這個結果,這些係數已經被薄膜膜層的程式驗證過許多次。薄膜理論的慣例是平面法向量方向上的相位變化,這表示其假設了一個虛擬的平面從薄膜最外層一路傳播到基板。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
ZEMAX軟件技術應用專題:在薄膜計算中Ray以及Field系數是什麼?
帖子 Moldex3D模流分析之Tokyo Seiki公司使用模流大幅減少試模次數
設計變更的主導權,已幅度的由傳統式的只做代工向上提升,每一批模具代工至少有一半以上的模具,是由 Tokyo Seiki 主導修改產品設計,例如最近接手的印表機組件的流道不平衡問題,以及某知名國際相機廠牌的產品翹改良。對癥下藥,增加產品強度:流平衡與結合問題改良流平衡目的是避免成品後所發生變形的主要改善方案,尤其針對精密性產品,在分析過程中常以流平衡指數來作為比較數據。
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Moldex3D 中國 ??? 3年前
Moldex3D模流分析之Tokyo Seiki公司使用模流大幅減少試模次數
帖子 ZEMAX軟件技術應用專題:如何在OpticStudio中設計DOE透鏡或超穎透鏡
可以在我們的知識庫文章中找到用於生成閃耀光柵的巨集:如何使用巨集繞射光學元件的垂度。或者,參考文獻[3]顯示了如何使用Lumerical FDTD軟體為給定的相位設計超穎透鏡。這種方法的缺點是設計人員可能無法檢查整個系統的性能。例如,沒有辦法考慮所有繞射階數來檢查點擴展函數(PSF)。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
ZEMAX軟件技術應用專題:如何在OpticStudio中設計DOE透鏡或超穎透鏡
帖子 ZEMAX軟件技術應用專題:在 OpticStudio 中模擬高階雷射光束
但是,在此限制下,使用 Laguerre-Gaussian DLL 在 OpticStudio 中對這些模態進行建模在上更有效。隨著 e 接近 ∞,當由 Ince-Gaussian DLL 的特徵值解發散時,就會到達一個點。這種發散行為是算法的限制。當達到發散點時,Ince-Gaussian DLL 產生的結果變得不準確。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
ZEMAX軟件技術應用專題:在 OpticStudio 中模擬高階雷射光束
帖子 ZEMAX軟件技術應用專題:利用Kogelnik方法模擬體積全像光柵的繞射效率
為了考慮厚度變化的影響,我們首先將光柵向量分成兩個分量,K∥和K⊥,其中K⊥為垂直表面法,K∥與表面法平行。如果厚度從t到t'發生變化,則可以透過修改K∥出新的光柵向量,如方程式(4)。圖 4. 當全像材料收縮時,厚度從t 減少到 t'。我們現在已經介紹了體積全像圖模型的基礎知識。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
ZEMAX軟件技術應用專題:利用Kogelnik方法模擬體積全像光柵的繞射效率
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