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要驗證這個敘述，讓我們打開這個內建範例： \Documents\Zemax\Samples\Sequential\Objectives\Double Gauss 28 degree field.ZMX。讓我們在像面之前新增兩個面，第一個面的厚度給予設定求解 = Pupil Position，第二個面給予設定求解 = Pickup，設定為前一個面的厚度乘以-1。

Figure 3 菲涅耳波帶片系統佈局圖但是，如果現在使用POP分析建模相同的情況，則將觀察到光束開始聚焦在成像表面上，如圖4所示。在這裡，我們從束腰尺寸為2.6 mm的高斯光束開始並將光束聚焦下降到束腰約0.4毫米的斑點。此範例說明只能使用POP模擬這種類型的結構。Figure 4 菲涅耳波帶片在成像平面上的 POP結果。

上述實際是三個方向的三個方程，分解出來應該是下面的式子： 應變是u的一次導數，因為ui與坐標無關，那么帶入應變表達式后可以轉換到一次偏導就放到形函數上： 上式不嚴謹，只表達應變中與位移自變量相關的是形函數的偏導，如果三維情況真實就是： u的一次導數是將對xyz偏導放到了形函數上，但對二次導數就無法這么做了，以線性材料為例，應力和應變是線性關系， 就是一個對xyz的二次導數